光学薄膜、偏光板和光学薄膜的制造方法技术

提供光学薄膜、偏光板和光学薄膜的制造方法。提供抑制加湿可靠性试验中的相位差变化、且抑制紫外区的耐候性试验中的色相的变化、进而粘接性优异的光学薄膜和包含该光学薄膜的偏光板。使用由具有规定范围的双折射的树脂构成、取向度为5％以上的光学薄膜。取向度为5％以上的光学薄膜。

【技术实现步骤摘要】
光学薄膜、偏光板和光学薄膜的制造方法


[0001]本专利技术涉及光学薄膜、偏光板和光学薄膜的制造方法。

技术介绍

[0002]近年的显示器市场中，存在为了延长电池的耐久时间，进而抑制发热而降低显示器亮度的需求。因此，作为显示器所用的偏光板，寻求透光率高的偏光板。但是，将这种透光率高的偏光板用于显示器时，存在在加湿条件下外观恶化的问题。
[0003]进而，近年来显示器在暴露于紫外线的环境中使用的情况增多(例如PID(公开信息显示器)、手机)，尤其对于光学薄膜配置在面板侧的偏光板而言，存在因紫外光而使光学薄膜的色相变化，损害显示器的品质的问题。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特许第3325560号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]本专利技术是为了解决上述现有问题而做出的，其目的在于，提供抑制加湿条件下的相位差变化、抑制紫外区的耐候性试验中的色相的变化、进而粘接性优异的光学薄膜和包含该光学薄膜的偏光板。
[0009]用于解决问题的方案
[0010]本专利技术的实施方式中的光学薄膜由双折射Δnxy为0.015以上的树脂构成，取向度为5％以上，面内相位差Re(550)为20nm以下，在65℃和90％RH下保持500小时后的相位差变化率为10％以下，紫外区的耐候性试验中的b值的变化率为1％以下。
[0011]1个实施方式中，上述树脂包含聚碳酸酯系树脂。
[0012]1个实施方式中，上述聚碳酸酯系树脂包含源自下述式(4)所示的二羟基化合物的结构单元。
[0013][0014]1个实施方式中，上述聚碳酸酯系树脂还包含源自脂环式二羟基化合物的结构单元，该脂环式二羟基化合物用下述通式(II)表示，R1为下述(IIb)所示的结构，n＝0。
[0015]HOCH2‑
R1‑
CH2OH
ꢀꢀꢀꢀ
(II)
[0016][0017]1个实施方式中，上述光学薄膜的厚度为10μm～50μm。
[0018]本专利技术的另一个实施方式中，提供偏光板。该偏光板包含偏光件、以及借助粘接剂层粘贴于该偏光件的至少单面的上述光学薄膜。
[0019]根据本专利技术的另一个方面，提供上述光学薄膜的制造方法。该制造方法包括线速度为7m/min～15m/min的制膜工序。
[0020]专利技术的效果
[0021]根据本专利技术的实施方式，通过将由特定的树脂构成且双折射Δnxy为0.015以上的树脂薄膜在特定的条件下制膜，从而取向度达到一定值以上，其结果，能够实现抑制加湿可靠性试验中的相位差变化、抑制紫外区的耐候性试验中的色相的变化、进而粘接性优异的光学薄膜。
具体实施方式
[0022]以下，对本专利技术的实施方式进行说明，但本专利技术不限定于这些实施方式。
[0023](术语和符号的定义)
[0024]本说明书中的术语和符号的定义如下所示。
[0025](1)折射率(nx、ny、nz)
[0026]“nx”是面内的折射率达到最大时的方向(即慢轴方向)的折射率，“ny”是在面内与慢轴正交的方向(即快轴方向)的折射率，“nz”是厚度方向的折射率。
[0027](2)面内相位差(Re)
[0028]“Re(λ)”是23℃下的利用波长λnm的光而测得的面内相位差。例如，“Re(550)”是23℃下的利用波长550nm的光而测得的面内相位差。将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时，Re(λ)通过式子Re(λ)＝(nx
‑
ny)
×
d而求出。
[0029](3)双折射(Δnxy)
[0030]双折射Δnxy通过式：Δnxy＝nx
‑
ny求出。
[0031]A.光学薄膜
[0032]本专利技术的实施方式的光学薄膜由树脂形成。作为该树脂，代表性地举出聚碳酸酯树脂。因此，本专利技术的实施方式的光学薄膜代表性地为聚碳酸酯树脂薄膜。进而，本专利技术的实施方式的光学薄膜优选不含紫外线吸收剂。通过光学薄膜不含紫外线吸收剂，从而在应用于图像显示装置时能够维持中性色相。
[0033]构成上述光学薄膜的树脂的双折射Δnxy代表性地为0.015以上、优选为0.018以上。上述树脂的双折射Δnxy的上限例如可以为0.040。通过将由具有这种双折射Δnxy的树脂构成的树脂薄膜以规定的速度以上的线速度进行制膜，取向度达到一定值以上，其结果，可在加湿条件下显著抑制相位差变化。
[0034]上述光学薄膜的取向度为5％以上、优选为5.5％以上、更优选为6％以上。取向度的上限例如为70％。光学薄膜的取向度为这种范围时，光学薄膜的粘接性变得良好。这种范围的取向度可以通过将上述树脂薄膜以规定的范围的线速度进行制膜而实现。上述取向度通过例如X射线衍射法(XRD)测定。
[0035]上述光学薄膜的面内相位差Re(550)为20nm以下、优选为15nm以下、更优选为10nm以下。面内相位差的下限例如可以为0nm。即，上述光学薄膜优选实质上具有光学各向同性。光学薄膜的这种面内相位差Re(550)可以通过将上述树脂薄膜以规定的范围的线速度进行
制膜而得到。
[0036]上述光学薄膜在温度65℃且湿度90％的条件下保存500小时(加湿试验)后的相位差变化优选为10％以下、更优选为8％以下。下限例如可以为0.01％。上述相位差变化(％)用|(Re
500
‑
Re0)/Re0|
×
100(％)表示。Re0为试验开始前的光学薄膜的面内相位差(nm)，Re
500
为试验后的光学薄膜的面内相位差(nm)。光学薄膜的相位差变化为这种范围时，在将光学薄膜应用于图像显示装置的情况下可得到如下优点：图像显示装置上的各处的相位差所导致的色相变化变小，可抑制显示上发生颜色不均。
[0037]上述光学薄膜在紫外区的耐候性试验中b值的变化受到抑制。b值的变化率为1％以下、优选为0.95％以下。b值的变化率的下限例如为0％。即，光学薄膜也可以良好地用于要求耐候性的用途。光学薄膜通过包含后述特定的聚碳酸酯树脂而能够得到这种优点。
[0038]上述光学薄膜的厚度优选为10μm～50μm、更优选为20μm～40μm。
[0039]上述光学薄膜的透湿度优选为250g/m2·
24h以下、更优选为150g/m2·
24h以下。下限例如可以为1g/m2·
24h。光学薄膜的透湿度为这种范围时，可得到能够抑制加湿环境下的相位差变化的优点。
[0040]上述光学薄膜的光弹性系数的绝对值优选为2
×
10
‑
11
m2/N以下、更优选为2.0
×
10
‑
13
m2/N～1.5
×
10
‑
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜，其为由双折射Δnxy为0.015以上的树脂构成的光学薄膜，取向度为5％以上，面内相位差Re(550)为20nm以下，在65℃和90％RH下保持500小时后的相位差变化率为10％以下，紫外区的耐候性试验中的b值的变化率为1％以下。2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其中，所述树脂包含聚碳酸酯系树脂。3.根据权利要求2所述的光学薄膜，其中，所述聚碳酸酯系树脂包含源自下述式(4)所示的二羟基化合物的结构单元，4.根据权利要求3所述的光学薄膜，其中，所述聚碳酸酯系树脂还包含源自脂环式二羟基化合物的结构单元...

【专利技术属性】
技术研发人员：中原步梦，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：