一种光学扩散聚酯母粒、光学扩散聚酯膜及其制备方法技术

技术编号:31507364 阅读:38 留言:0更新日期:2021-12-22 23:40
本发明专利技术涉及高分子膜材技术领域,公开了一种光学扩散聚酯母粒、光学扩散聚酯膜及其制备方法,聚酯母粒按照总质量百分比100%计,包括如下原料组分:60~70%聚酯和30~40%光学扩散助剂;光学扩散助剂包括如下原料组分:白炭黑30~40%;二氧化硅微球45~55%;玻璃纤维6~10%;纳米碳酸钙5~9%;表面处理剂1~1.5%;本发明专利技术的光学扩散膜包含了二氧化硅微球、白炭黑、纳米碳酸钙和短切玻璃纤维,通过多种材料相互之间的协同作用,得到的光学扩散膜对可见光均匀扩散成面光源效果好,且抗张强度高、柔韧性好、尺寸稳定性优良,技术水平处于国际先进水平;解决了减少光学扩散膜中粒子添加量的技术瓶颈问题。量的技术瓶颈问题。

【技术实现步骤摘要】
一种光学扩散聚酯母粒、光学扩散聚酯膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及高分子膜材
,具体涉及一种光学扩散聚酯母粒、光学扩散聚酯膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]光学扩散膜是一种能促使光照亮度均匀化的膜材。当光线穿过这类膜材时,在膜材内部发生折射、反射与散射现象,进而光线被修正成均匀面光源以达到光学扩散的效果。光学扩散膜主要应用于LCD背光源模组、平面照明等领域。
[0003]目前,基于高分子膜材的光学扩散膜可以通过以下三种方法制备:
[0004](1)通过电喷射、光刻或热压膜技术等加工方式,使膜材表面形成有规则排布的微观结构(包括V槽型、半球型、锥形等),这种微观结构沿不同方向展现出不同的光物理性能。当光线穿过具有这类微观结构膜材表面时,发生连续多次的折射和反射行为,从而达到光扩散的效果。这种类型扩散膜的雾度和透光率通过调控膜材表面微结构形貌、分布密度来调整。
[0005](2)通过全息刻录技术在膜基材表面形成有序排布的纹路,光线到达这类膜材料表面时会产生衍射行为,进而精确控制光线扩散的方向,达到光扩散本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学扩散聚酯母粒,其特征在于,按照总质量百分比100%计,包括如下原料组分:60~70%聚酯和30~40%光学扩散助剂;所述光学扩散助剂按照总质量百分比100%计,包括如下原料组分:所述表面处理剂包括硅烷A、硅烷B和硅烷C;所述硅烷A包括双



三乙氧基硅基丙基)四硫化物、γ

巯丙基三甲氧基硅烷和γ

巯丙基三乙氧基硅烷中任一种;所述硅烷B包括γ

甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ

缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷中的一种;所述硅烷C包括γ

氨丙基三乙氧基硅烷和/或γ

氨丙基三甲氧基硅烷。2.根据权利要求1所述的光学扩散聚酯母粒,其特征在于,所述光学扩散助剂按照总质量百分比100%计,包括如下原料组分:所述改性白炭黑和改性二氧化硅微球为白炭黑和二氧化硅微球经硅烷A改性的产物;所述改性玻璃纤维为玻璃纤维经硅烷B改性的产物;所述改性纳米碳酸钙为纳米碳酸钙经硅烷C改性的产物;所述硅烷A包括双



三乙氧基硅基丙基)四硫化物、γ

巯丙基三甲氧基硅烷和γ

巯丙基三乙氧基硅烷中任一种;所述硅烷B包括γ

甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ

缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷中的一种;所述硅烷C包括γ

氨丙基三乙氧基硅烷和/或γ

氨丙基三甲氧基硅烷。3.根据权利要求2所述的光学扩散聚酯母粒,其特征在于,白炭黑和二氧化硅微球经硅烷A改性过程具体步骤包括:将硅烷A与白炭黑和二氧化硅微球物理共混;玻璃纤维经硅烷B改性过程具体步骤包括:将硅烷B与玻璃纤维物理共混;纳米碳酸钙经硅烷C改性过程具体步骤包括:将硅烷C与纳米碳酸钙物理共...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡培隆周箭付红杰曾国汉
申请(专利权)人:杭州师范大学
类型:发明
国别省市:

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