X射线屏蔽玻璃以及玻璃构件制造技术

提供一种对管电压为150kV以下的X射线具有高屏蔽能力的X射线屏蔽玻璃。X射线屏蔽玻璃的特征在于，具有含有以下物质的组分：B2O3：15～25质量％，La2O3：7～50质量％、Gd2O3：7～50质量％、WO3：10～25质量％，SiO2：0～7质量％，ZrO2：0～10质量％，Nb2O5：0～8质量％，Ta2O5：0～10质量％，Bi2O3：0～5质量％，CeO2：0～3质量％，以及Sb2O3：0～1质量％；不含有ZnO，La2O3以及Gd2O3的总含量为45～65质量％，在厚度为3mm的该玻璃中，X射线管的管电压60kV的X射线穿透率为0.0050％以下，且X射线管的管电压100kV的X射线穿透率为0.1500％以下。100kV的X射线穿透率为0.1500％以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】X射线屏蔽玻璃以及玻璃构件


[0001]本专利技术涉及一种X射线屏蔽玻璃以及玻璃构件。

技术介绍

[0002]在医院的X光室等医疗设施、研究设施或者核电站等处理射线的设施中，从易于进行作业的观点以及保护设施内的人不受射线影响的观点出发，使用射线屏蔽玻璃。对于这样的玻璃，一般要求高可见光穿透性(透明性)以及对射线的高屏蔽能力(吸收能力)。而且，屏蔽能力与玻璃的质量吸收系数以及密度成比例，因此一直使用密度大的铅玻璃作为射线屏蔽玻璃。
[0003]但是，铅成分为有害物质。因此，对于含有大量铅成分的射线屏蔽玻璃，在其制造、加工以及废弃时，需要采取环保措施，其结果是，存在成本变高的问题。另外，对于含有大量铅成分的射线屏蔽玻璃，在为了去除玻璃表面的污渍而对表面进行清洁时，在玻璃表面产生“变色”，玻璃的透明性因该“变色”而显著下降，该情况也成为问题。
[0004]因此，作为上述问题的对策，正在开发一种不含有铅成分的射线屏蔽玻璃。
[0005]作为这样的玻璃，例如，在专利文献1中公开了一种SiO2‑
BaO类的密度为3.01g/cm3以上的射线屏蔽玻璃。另外，在专利文献2中公开了一种P2O5‑
WO3类的射线屏蔽能力高的玻璃。另外，在专利文献3以及专利文献4中公开了一种B2O3‑
La2O3类的具有高射线屏蔽性能的玻璃。
[0006]另外，近年来，在特定的医疗领域中，尤其需要对射线中的管电压为150kV以下的X射线的高屏蔽能力。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1：日本特开平6
‑
127973号公报
[0010]专利文献2：日本特开2013
‑
220984号公报
[0011]专利文献3：日本特开2008
‑
088019号公报
[0012]专利文献4：日本特开2008
‑
088021号公报

技术实现思路

[0013]专利技术要解决的问题
[0014]但是，上述专利文献1～4中记载的玻璃对于管电压为150kV以下的X射线的屏蔽能力均不足。尤其是，专利文献1中记载的射线屏蔽玻璃的密度小，因此其自身的X射线屏蔽性能不足。另外，专利文献2中记载的玻璃着色为黄色或蓝色，可见光穿透性低，因此难以观察使用X射线的装置内部。
[0015]因此，本专利技术有利地解决上述问题，其目的在于，提供一种对管电压为150kV以下的X射线具有高屏蔽能力的X射线屏蔽玻璃。另外，本专利技术的目的在于，提供一种使用上述X射线屏蔽玻璃且对管电压为150kV以下的X射线具有高屏蔽能力的玻璃构件。
[0016]用于解决问题的手段
[0017]本专利技术的专利技术人为了达到所述目的而进行了深入研究，发现了例如对于专利文献3以及专利文献4中记载的玻璃，由于使其含有规定量的分子量比较小的ZnO、TiO2、Li2O等，所以有助于提高X射线屏蔽性能的成分的比例少，对X射线的屏蔽能力不足，尤其是对管电压为150kV以下的X射线的屏蔽能力不足。
[0018]于是，本专利技术的专利技术人进行了进一步的深入研究，其结果是，发现将B2O3、La2O3、Gd2O3以及WO3作为必要成分且含有规定的金属氧化物的特定组分的玻璃对管电压为150kV以下的X射线具有高屏蔽能力，从而得到本专利技术。
[0019]即，本专利技术的X射线屏蔽玻璃的特征在于，具有含有以下物质的组分：
[0020]B2O3：15～25质量％，
[0021]La2O3：7～50质量％，
[0022]Gd2O3：7～50质量％，
[0023]WO3：10～25质量％，
[0024]SiO2：0～7质量％，
[0025]ZrO2：0～10质量％，
[0026]Nb2O5：0～8质量％，
[0027]Ta2O5：0～10质量％，
[0028]Bi2O3：0～5质量％，
[0029]CeO2：0～3质量％，以及
[0030]Sb2O3：0～1质量％；
[0031]不含有ZnO，
[0032]La2O3以及Gd2O3的总含量为45～65质量％，
[0033]在厚度为3mm的该玻璃中，X射线管的管电压60kV的X射线穿透率为0.0050％以下，且X射线管的管电压100kV的X射线穿透率为0.1500％以下。这样的X射线屏蔽玻璃对管电压为150kV以下的X射线具有高屏蔽能力。
[0034]优选本专利技术的X射线屏蔽玻璃的密度为5.00g/cm3以上。
[0035]优选本专利技术的X射线屏蔽玻璃的折射率(nd)为1.855以下。
[0036]优选在本专利技术的X射线屏蔽玻璃中，由摩尔％表示的La2O3、Gd2O3以及WO3的总含量为36摩尔％以上。
[0037]另外，本专利技术的玻璃构件的特征在于，使用了上述X射线屏蔽玻璃作为坯料。这样的玻璃构件对管电压为150kV以下的X射线具有高屏蔽能力。
[0038]专利技术的效果
[0039]根据本专利技术，能够提供一种对管电压为150kV以下的X射线具有高屏蔽能力的X射线屏蔽玻璃。另外，根据本专利技术，能够提供一种使用上述X射线屏蔽玻璃且对管电压为150kV以下的X射线具有高屏蔽能力的玻璃构件。
具体实施方式
[0040](X射线屏蔽玻璃)
[0041]以下，具体说明本专利技术的一实施方式的X射线屏蔽玻璃(以下，称为“本实施方式的
玻璃”)。本实施方式的玻璃的一特征在于，作为组分的要件，具有含有以下物质的组分：
[0042]B2O3：15～25质量％，
[0043]La2O3：7～50质量％，
[0044]Gd2O3：7～50质量％，
[0045]WO3：10～25质量％，
[0046]SiO2：0～7质量％，
[0047]ZrO2：0～10质量％，
[0048]Nb2O5：0～8质量％，
[0049]Ta2O5：0～10质量％，
[0050]Bi2O3：0～5质量％，
[0051]CeO2：0～3质量％，以及
[0052]Sb2O3：0～1质量％；
[0053]不含有ZnO，
[0054]La2O3以及Gd2O3的总含量为45～65质量％。另外，本实施方式的玻璃的一特征在于，作为特性的要件，在厚度3mm的该玻璃中，X射线管的管电压60kV的X射线穿透率为0.0050％以下，且X射线管的管电压100kV的X射线穿透率为0.1500％以下。
[0055]此外，本实施方式的玻璃不仅限于屏蔽X射线管的管电压为60kV以及100kV的X射线，也有效屏蔽从150kV以下的任意管电压发射的X射线。另外，更优选作为本实施方式的玻璃的屏蔽对象的X射线管的管电压为130kV以下的管电压，进一步优选为120kV以下的管电压。
[0056]上述玻璃组分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种X射线屏蔽玻璃，其特征在于，具有含有以下物质的组分：B2O3：15～25质量％，La2O3：7～50质量％，Gd2O3：7～50质量％，WO3：10～25质量％，SiO2：0～7质量％，ZrO2：0～10质量％，Nb2O5：0～8质量％，Ta2O5：0～10质量％，Bi2O3：0～5质量％，CeO2：0～3质量％，以及Sb2O3：0～1质量％；不含有ZnO，La2O3以及Gd2O3的总含量为45～65质量％，在厚度为3mm的该玻璃中，X射线管的管电压60kV的X射线穿透率为0...

【专利技术属性】
技术研发人员：山本吉记，中山智幸，酒井拓也，富田浩介，
申请(专利权)人：住田光学玻璃公司，
类型：发明
国别省市：