【技术实现步骤摘要】
挂片机构及镀膜遮蔽治具
[0001]本技术涉及镀膜
,特别是涉及一种挂片机构及镀膜遮蔽治具。
技术介绍
[0002]真空镀膜技术是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于工件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。
[0003]其中,PVD真空镀膜技术是指在真空条件下,采用电弧放电技术,利用气体放电时蒸镀材料蒸发并电离,在电场的作用下,将被蒸发的材料及其反应物沉积在待镀膜产品上形成镀膜层的方法。
[0004]工件在镀膜时需要对非镀膜区域进行遮蔽,通常采用镀膜遮蔽治具实现遮蔽的目的,然而传统的镀膜遮蔽治具结构复杂,而且压紧工件时压紧力不稳定存在工件被损坏的风险。
技术实现思路
[0005]基于此,有必要提供一种能够减少工件损伤并能增强遮蔽稳定性的、结构简单的挂片机构及镀膜遮蔽治具。
[0006]本技术提供一种挂片机构,包括支撑部、抵接部以及弹力部;所述支撑部连接于所述抵接部, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种挂片机构,其特征在于,包括支撑部、抵接部以及弹力部;所述支撑部连接于所述抵接部,所述支撑部用于支撑待镀膜工件的端口边缘,所述抵接部用于抵接遮蔽机构的一端面;所述抵接部连接于所述弹力部,所述弹力部用于带动所述支撑部撑紧所述待镀膜工件,所述弹力部用于固定于固定机构上。2.根据权利要求1所述的挂片机构,其特征在于,还包括连接部,所述弹力部通过所述连接部固定于所述固定机构。3.根据权利要求2所述的挂片机构,其特征在于,所述支撑部与所述抵接部构成一组,每个所述弹力部上连接有至少一组所述支撑部与所述抵接部。4.根据权利要求3所述的挂片机构,其特征在于,每个弹力部上设置有两组所述支撑部与所述抵接部,两个所述弹力部位于所述连接部的两侧并对称分布。5.根据权利要求2~4任意一项所述的挂片机构,其特征在于,所述弹力部与所述连接部的连接处呈弯曲过渡。6.根据权利要求1~4任意一项所述的挂片...
【专利技术属性】
技术研发人员:钟佩想,何好珍,郑远川,熊汤华,
申请(专利权)人:维达力实业深圳有限公司,
类型:新型
国别省市:
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