一种降低集成二极管反向恢复损耗的RC-IGBT结构制造技术

技术编号:32738843 阅读:45 留言:0更新日期:2022-03-20 08:45
本发明专利技术公开了一种降低集成二极管反向恢复损耗的RC

【技术实现步骤摘要】
一种降低集成二极管反向恢复损耗的RC

IGBT结构


[0001]本专利技术涉及半导体领域,具体涉及一种降低集成二极管反向恢复损耗的RC

IGBT结构。

技术介绍

[0002]为了缩减功率器件的尺寸和生产成本,学者们提出将反向续流二极管寄生在IGBT内部,从而研究出了逆导型IGBT(Reverse Conducting

IGBT,RC

IGBT)。RC

IGBT目前受到广泛研究,它具有复杂的权衡关系,要实现IGBT特性(包括IGBT的导通压降V
CEsat
和关断损耗E
off
)与体内寄生二极管特性(包括二极管的导通电压V
F
和二极管的反向恢复损耗E
rr
)之间的权衡。在续流二极管由导通转为阻断状态的过程中,反向加压后二极管并不能立即进入阻断状态,而是会暂时保持导通状态并产生一个反向恢复电流,当二极管体内的载流子被完全抽取之后,反向恢复电流才减小到0,二极管关断。
[00本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种降低集成二极管反向恢复损耗的RC

IGBT结构,其元胞结构包括P型集电区(1)和N型集电区(2),位于集电区(1)、(2)上方的N型缓冲层(3)和N型漂移区(4),载流子存储层(5)及P型基区(6),所述P型基区(6)上设有N+型发射区(7)和P+型发射区(8),P+型发射区(8)上方为金属Al发射极。2.根据权利要求1所述的降低集成二极管反向恢复损耗的RC

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【专利技术属性】
技术研发人员:伍伟李岩松陈勇
申请(专利权)人:电子科技大学
类型:发明
国别省市:

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