斜式双光罩滚轮光刻设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种斜式双光罩滚轮光刻设备，其包括一滚轮固定装置以及与滚轮固定装置间隔开地设置的一光刻装置。滚轮固定装置用来固定包覆有一光阻层的一金属滚轮。光刻装置包含两个曝光光源及两个光罩，并且两个曝光光源分别能用来配合两个光罩对光阻层的相同区域照射一第一光刻光线及一第二光刻光线。两个光罩分别形成有彼此间隔开且相互平行的多个正弦波图案，并且一个光罩的每个正弦波图案的长度方向垂直于另一个光罩的每个正弦波图案的长度方向，而任一个正弦波图案的长度方向相对于一水平方向形成一倾斜角度，该倾斜角度介于30度～60度之间。由此，降低工艺成本并减少作业时间，并且减少拆板线的形成。并且减少拆板线的形成。并且减少拆板线的形成。

【技术实现步骤摘要】
斜式双光罩滚轮光刻设备


[0001]本技术涉及一种光刻设备，特别是涉及一种斜式双光罩滚轮光刻设备。

技术介绍

[0002]现有的滚轮光刻设备在对一金属滚轮上的一光阻层曝光时，为了在光阻层上形成复杂的全息图案，往往需要配合具有复杂图案的光罩以形成复杂的全息图案。然而，这种具有复杂的全息图案的光罩往往价格不菲，因此也使得整体光刻工艺的成本上升。此外，通过这种具有复杂的全息图案的光罩而形成的全息图案往往还形成有妨碍全息图案整体外观的拆板线，使得滚轮在后续压印的工艺中也一并将拆板线印出，造成材料的浪费。
[0003]因此，如何通过结构设计的改良来克服上述的缺陷已成为该项事业所要解决的重要课题之一。

技术实现思路

[0004]本技术的实施例针对现有技术的不足提供一种斜式双光罩滚轮光刻设备，所述斜式双光罩滚轮光刻设备能有效地改善现有的滚轮光刻设备所可能产生的缺陷。
[0005]本技术的其中一个实施例公开一种斜式双光罩滚轮光刻设备，所述斜式双光罩滚轮光刻设备包括：一滚轮固定装置，用来固定包覆有一光阻层的一金属滚轮，并且所述金属滚轮的长度介于1.6米至1.8米之间；以及一光刻装置，与所述滚轮固定装置间隔开地设置，并且所述光刻装置包含：两个曝光光源；及两个光罩，安装于两个所述曝光光源，并且两个所述曝光光源分别能用来配合两个所述光罩对所述光阻层的相同区域照射一第一光刻光线及一第二光刻光线；其中，两个所述光罩分别形成有彼此间隔开且相互平行的多个正弦波图案，并且一个所述光罩的任一个所述正弦波图案的长度方向垂直于另一个所述光罩的任一个所述正弦波图案的长度方向，而任一个所述正弦波图案的所述长度方向相对于一水平方向形成一倾斜角度，所述倾斜角度介于30度至60度之间。
[0006]优选地，所述斜式双光罩滚轮光刻设备还包括一无尘腔体，并且所述滚轮固定装置以及所述光刻装置设置于所述无尘腔体中。
[0007]优选地，所述斜式双光罩滚轮光刻设备还包括一移动装置，所述移动装置与两个所述曝光光源及两个所述光罩连接且能用来移动两个所述曝光光源及两个所述光罩。
[0008]优选地，所述斜式双光罩滚轮光刻设备还包括一浸润装置，所述浸润装置包含一容置槽及安装于所述容置槽的两个盖体，并且所述容置槽用来容纳一显影剂，两个所述盖体用来防止外部的灰尘进入所述容置槽中。
[0009]优选地，所述斜式双光罩滚轮光刻设备还包括一升降装置，所述升降装置包含一升降机构以及安装于所述升降机构的一支撑机构；其中，所述支撑机构用来支撑所述浸润装置的底部，而所述升降机构用来使所述浸润装置沿垂直于所述金属滚轮的轴心的方向移动。
[0010]优选地，所述斜式双光罩滚轮光刻设备还包括一转动装置，所述转动装置安装于
所述滚轮固定装置，并且所述转动装置用来转动所述金属滚轮。
[0011]优选地，所述滚轮固定装置包含一夹持机构，所述夹持机构安装于所述转动装置，并且所述夹持机构用来夹持所述金属滚轮；其中，当所述转动装置运行时，所述转动装置能转动所述夹持机构，使所述金属滚轮被所述夹持机构转动。
[0012]优选地，所述转动装置包含一速度控制机构，所述速度控制机构能用来使所述金属滚轮以介于1转/分钟至120转/分钟的一浸润速度转动。
[0013]优选地，所述转动装置包含一速度控制机构，所述速度控制机构能用来使所述金属滚轮以介于2900转/分钟至4500转/分钟的一甩干速度转动。
[0014]优选地，所述斜式双光罩滚轮光刻设备还包括一烘烤装置，所述烘烤装置与所述滚轮固定装置间隔开地设置。
[0015]本技术的其中一有益效果在于，本技术所提供的所述斜式双光罩滚轮光刻设备能通过“两个所述光罩分别形成有彼此间隔开且相互平行的多个所述正弦波图案，并且一个所述光罩的任一个所述正弦波图案的长度方向垂直于另一个所述光罩的任一个所述正弦波图案的长度方向，而任一个所述正弦波图案的所述长度方向相对于所述水平方向形成一倾斜角度，所述倾斜角度介于30度～60度之间”的技术手段，降低工艺成本并减少作业时间，并且减少拆板线的形成。
[0016]为能更进一步了解本技术的特征及
技术实现思路
，请参阅以下有关本技术的详细说明与附图，但是这些等说明与附图仅用来说明本技术，而非对本技术的保护范围作任何的限制。
附图说明
[0017]图1为本技术的实施例的斜式双光罩滚轮光刻设备的立体示意图。
[0018]图2为本技术的实施例的斜式双光罩滚轮光刻设备的另一立体示意图。
[0019]图3为本技术的实施例的斜式双光罩滚轮光刻设备的动作示意图(一)。
[0020]图4为本技术的实施例的斜式双光罩滚轮光刻设备的动作示意图(二)。
[0021]图5为本技术的实施例的斜式双光罩滚轮光刻设备的动作示意图(三)。
[0022]图6为本技术的实施例的光罩的俯视示意图。
[0023]图7为本技术的实施例的光罩的另一俯视示意图。
具体实施方式
[0024]以下是通过特定的具体实施例来说明本技术所公开有关“斜式双光罩滚轮光刻设备”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本技术的优点与效果。本技术可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不背离本技术的构思下进行各种修改与变更。另外，需事先声明的是，本技术的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘。此外，以下如有指出请参阅特定附图或是如特定附图所示，其仅是用以强调于后续说明中，所涉及的相关内容大部份出现于该特定附图中，但不限制该后续说明中仅可参考所述特定附图。以下的实施方式将进一步详细说明本技术的相关
技术实现思路
，但所公开的内容并非用以限制本技术的保护范围。
[0025]应当可以理解的是，虽然本文中可能会使用到“第一”、“第二”、“第三”等术语来描述各种组件或者信号，但这些组件或者信号不应受这些术语的限制。这些术语主要是用以区分一组件与另一组件，或者一信号与另一信号。另外，本文中所使用的术语“或”应视实际情况而可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。
[0026]请参阅图1至图7所示，其为本技术的实施例，需先说明的是，本实施例所对应到的附图及其所提及的相关数量与外形仅用来具体地说明本技术的实施方式，以便于了解本技术的内容，而非用来局限本技术的保护范围。
[0027]如图1所示，本技术的实施例提供了一种斜式双光罩滚轮光刻设备100，其包括：一滚轮固定装置1、一光刻装置2、一转动装置3、一移动装置4、一浸润装置5、一升降装置6、一烘烤装置7以及一无尘腔体8，但本技术不限于此。举例来说，于本技术未示出的其他实施例中，所述斜式双光罩滚轮光刻设备100也可以不包含有所述烘烤装置7以及所述无尘腔体8。
[0028]以下为方便说明与理解，将依次说明所述滚轮固本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种斜式双光罩滚轮光刻设备，其特征在于，所述斜式双光罩滚轮光刻设备包括：一滚轮固定装置，用来固定包覆有一光阻层的一金属滚轮，并且所述金属滚轮的长度介于1.6米至1.8米之间；以及一光刻装置，与所述滚轮固定装置间隔开地设置，并且所述光刻装置包含：两个曝光光源；及两个光罩，安装于两个所述曝光光源，并且两个所述曝光光源分别能用来配合两个所述光罩对所述光阻层的相同区域照射一第一光刻光线及一第二光刻光线；其中，两个所述光罩分别形成有彼此间隔开且相互平行的多个正弦波图案，并且一个所述光罩的任一个所述正弦波图案的长度方向垂直于另一个所述光罩的任一个所述正弦波图案的长度方向，而任一个所述正弦波图案的所述长度方向相对于一水平方向形成一倾斜角度，所述倾斜角度介于30度至60度之间。2.根据权利要求1所述的斜式双光罩滚轮光刻设备，其特征在于，所述斜式双光罩滚轮光刻设备还包括一无尘腔体，并且所述滚轮固定装置以及所述光刻装置设置于所述无尘腔体中。3.根据权利要求1所述的斜式双光罩滚轮光刻设备，其特征在于，所述斜式双光罩滚轮光刻设备还包括一移动装置，所述移动装置与两个所述曝光光源及两个所述光罩连接且能用来移动两个所述曝光光源及两个所述光罩。4.根据权利要求1所述的斜式双光罩滚轮光刻设备，其特征在于，所述斜式双光罩滚轮光刻设备还包括一浸润装置，所述浸润装置包含一容置槽及安装于所述容置槽的两个盖体，并且所述容置槽用来容纳一显影剂，两个所述盖体用来防止外部的灰尘进入所述容置...

【专利技术属性】
技术研发人员：林刘恭，宋元评，
申请(专利权)人：光群雷射科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：