纳米压印胶体溅射装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种纳米压印胶体溅射装置以及方法，装置包括容器体，溅射组件，支撑板组件以及喷射组件。容器体内形成有真空腔室；溅射组件部分设置于真空腔室内，溅射组件包括靶电极和对应电极；支撑板组件设置于真空腔室内，包括沿第一方向相对设置支撑板，靶电极与对应电极分别设置于支撑板在第一方向上的两端，两个支撑板之间部分贴合，与靶电极和对应电极共同围合形成一密闭的溅射腔室；喷射组件包括喷射头，喷射头连通溅射腔室，用以向溅射腔室内喷射惰性气体或胶体。本发明专利技术的纳米压印胶体溅射装置，其能够解决现有匀胶造成的压印胶浪费的问题，能够控制胶量和胶厚，实现无气泡喷胶，大大降低了成本。大大降低了成本。大大降低了成本。

【技术实现步骤摘要】
纳米压印胶体溅射装置及方法


[0001]本专利技术是关于纳米压印
，特别是关于一种纳米压印胶体溅射装置及方法。

技术介绍

[0002]纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术，该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。不过，纳米压印技术进入批量生产仍然面临着不少棘手的问题，比如压印底胶问题、匀胶造成的浪费问题、滴胶匀胶过程引入杂质的问题、压印产生气泡的问题以及匀大面积膜具，胶的厚度均一性的问题等等。
[0003]我们知道光刻胶在显影的时候会有一些残胶(又叫底胶)，这种残胶有时候会影响器件的电学性能，纳米压印也是一样的，而且纳米压印的残胶会比光刻更严重，在一些特殊不希望出现底胶的地方需要通过工艺手段去除底胶，而在去除底胶的过程中我们往往会发现另一个问题，由于这种追求高折射率的压印胶，会在胶中掺入一些氧化钛或者氧化铪纳米颗粒，这会导致使用等离子去除底胶变得困难。
[0004]传统的匀胶技术由于沾染杂质，会导致表面出现胶颗粒；或是胶液匀速过高，设备排气速度过高，胶涂本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种纳米压印胶体溅射装置，其特征在于，包括：容器体，所述容器体内形成有真空腔室，所述容器体能在外部驱动装置作用下绕第一方向自转；溅射组件，其部分设置于所述真空腔室内，所述溅射组件包括靶电极和对应电极，所述溅射组件用以形成射频电场；支撑板组件，其设置于所述真空腔室内，所述支撑板组件包括沿第一方向相对设置支撑板，所述靶电极与所述对应电极分别设置于所述支撑板在第一方向上的两端，两个所述支撑板之间部分贴合，与所述靶电极和所述对应电极共同围合形成一密闭的溅射腔室；以及喷射组件，其包括喷射头，所述喷射头连通所述溅射腔室，用以向所述溅射腔室内喷射惰性气体或胶体。2.如权利要求1所述的纳米压印胶体溅射装置，其特征在于，所述喷射头设置于所述靶电极上。3.如权利要求1所述的纳米压印胶体溅射装置，其特征在于，所述支撑板包括用于承载待镀胶基板或模板的承载板以及至少设置于所述承载板在第一方向上两侧的调节板，所述调节板相对于所述承载板凸起设置，且其凸起高度可调节，以当相对设置的所述调节板贴合时，所述承载板之间能形成空间大小可调放入溅射空间。4.如权利要求3所述的纳米压印胶体溅射装置，其特征在于，所述承载板上开设有吸附孔。5.如权利要求3所述的纳米压印胶体溅射装置，其特征在于，所述支撑板组件还包括支撑柱，所述支撑柱设置于所述支撑板与所述容器体的内壁之间，所述支撑板能以所述支撑柱为轴心转动，且所述支撑板在所述支撑柱的调节下相对所述内壁在第一方向上移动。6.如权利要求3所述的纳米压印胶体溅射装置，其特征在于，所述支撑板由可透紫外光材质制成。7.如权利要求1所述的纳米...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗刚，
申请(专利权)人：罗刚，
类型：发明
国别省市：