一种半导体设备的废气排放管道连接件及装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种半导体设备的废气排放管道连接件及装置，涉及半导体制造设备技术领域。本实用新型专利技术一种半导体设备的废气排放管道连接件，包括：废气排放管，所述废气排放管的内腔为圆柱形；以及若干个支管，分别与所述废气排放管连通，若干个所述支管与所述废气排放管的连通部，环形分布设置于所述废气排放管的侧壁；其中，若干个所述支管的矢量方向之和，与所述废气排放管内气流方向相同。本实用新型专利技术缓解了废气排放管内粉尘堆积堵塞的问题。解了废气排放管内粉尘堆积堵塞的问题。解了废气排放管内粉尘堆积堵塞的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体设备的废气排放管道连接件及装置


[0001]本技术属于半导体制造设备
，特别是涉及一种半导体设备的废气排放管道连接件及装置。

技术介绍

[0002]半导体设备在运行状态下会产生含有粉尘的废气，经过废气排放管道进行排放的时候，粉尘会在管道内堆积，造成管道堵塞，导致半导体设备停机，造成生产损失。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种半导体设备的废气排放管道连接件及装置，通过在废气排放管侧壁上环形分布的支管，缓解了废气排放管内粉尘堆积堵塞的问题。
[0004]为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：
[0005]本技术提供一种半导体设备的废气排放管道连接件，其包括：
[0006]废气排放管，所述废气排放管的内腔为圆柱形；以及
[0007]若干个支管，分别与所述废气排放管连通，若干个所述支管与所述废气排放管的连通部，环形分布设置于所述废气排放管的侧壁；
[0008]其中，若干个所述支管的矢量方向之和，与所述废气排放管内气流方向相同。
>[0009]在本技本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体设备的废气排放管道连接件，其特征在于，包括：废气排放管，所述废气排放管的内腔为圆柱形；以及若干个支管，分别与所述废气排放管连通，若干个所述支管与所述废气排放管的连通部，环形分布设置于所述废气排放管的侧壁；其中，若干个所述支管的矢量方向之和，与所述废气排放管内气流方向相同。2.根据权利要求1所述的管道连接件，其特征在于，所述支管的数量至少为三个。3.根据权利要求1所述的管道连接件，其特征在于，若干个所述支管与所述废气排放管的内腔相切。4.根据权利要求1所述的管道连接件，其特征在于，若干个所述支管均匀分布设置于所述废气排放管的侧壁。5.根据权利要求1所述的管道连接件，其特征在于，若干个所述支管与所述废气排放管的交叉角度相同。6.根据权利要求1所述的管道连接件，其特征在于，至少一个所述支管与所述废气排放管轴向的交叉角度为45度。7.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄志平，
申请(专利权)人：合肥晶合集成电路股份有限公司，
类型：新型
国别省市：