【技术实现步骤摘要】
掩模和掩模制造方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求在2020年8月26日提交的韩国专利申请第10
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2020
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0107990号的优先权和权益，其全部内容通过引用合并于此。
[0003]本公开在本文中涉及一种具有提高的可靠性的掩模以及一种用于制造该掩模的方法。
技术介绍
[0004]显示面板包括多个像素。像素中的每一个包括诸如晶体管的驱动元件以及诸如有机发光二极管的显示元件。可以通过在基板上堆叠电极和发光图案来形成显示元件。
[0005]通过使用其中限定有贯穿部分的掩模来对发光图案进行图案化，使得在给定区域中形成发光图案。发光图案可以形成在被贯穿部分暴露的区域中。发光图案的形状可以根据贯穿部分的形状来控制。
技术实现思路
[0006]本公开提供一种具有提高的沉积工艺的可靠性的掩模以及一种掩模制造方法。
[0007]本公开的一些实施例通过在拉伸并焊接掩模片之后激光加工单元开口，来提高单元开口的加工精度，并且减小死区。
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种掩模制造方法，包括：准备掩模片和框架；拉伸所述掩模片并且将拉伸后的所述掩模片固定到所述框架；以及在固定到所述框架的所述掩模片中形成单元开口。2.根据权利要求1所述的掩模制造方法，其中，形成所述单元开口包括：在固定到所述框架的所述掩模片中形成初始单元开口；并且形成分别与所述初始单元开口相对应的所述单元开口。3.根据权利要求2所述的掩模制造方法，其中，所述初始单元开口中的每一个的尺寸是所述单元开口中的每一个的尺寸的25％至90％。4.根据权利要求2至3中任一项所述的掩模制造方法，其中，所述初始单元开口的形状不同于所述单元开口的形状。5.根据权利要求1所述的掩模制造方法，其中，准备所述掩模片包括在所述掩模片中形成初始单元开口，并且其中，形成所述单元开口包括形成分别与所述初始单元开口相对应的所述单元开口。6.根据权利要求5所述的掩模制造方法，其中，在形成所述单元开口期间，所述初始单元开口中的全部被去除。7.根据权利要求1所述的掩模制造方法，其中，形成所述单元开口包括将激光束发射到固定到所述框架的所述掩模片上。8.根据权利要求7所述的掩模制造方法，其中，所述掩模片的限定所述单元开口的内表面具有锥形形状。9.根据权利要求1所述的掩模制造方法，进一步包括：在将所述掩模片固定到所述框架与形成所述单元开口之间，将静电卡盘设置在固定到所述框架的所述掩模片上。10.根据权利要求9所述的掩模制造方法，其中，形成所述单元开口包括：在形成所述单元开口之前形成初始单元开口，其中，所述单元开口分别与所述初始单元开口相对应，并且，其中，所述单元开口中的每一个的尺寸大于所述初始单元开口中的每一个的尺寸。11.根据权利要求10所述的掩模制造方法，进一步包括：在形成...
【专利技术属性】
技术研发人员：金辉，金桢国，郑茶姬，宋昇勇，李娥凜，秋惠容，黄圭焕，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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