遮罩以及遮罩的制造方法技术

一种遮罩的制造方法，包括步骤：提供基板，其具有表面；于基板上形成光阻图案，并使光阻图案覆盖于表面的第一部分；提供金属框，其具有内壁且围构出框内区域，其中框内区域的面积小于基板的表面的面积；组合金属框及基板，使内壁与表面连接且光阻图案露出于框内区域；以及于框内区域进行金属沉积，并在表面上形成沉积金属层。本发明专利技术还提供一种遮罩。本发明专利技术还提供一种遮罩。本发明专利技术还提供一种遮罩。

【技术实现步骤摘要】
遮罩以及遮罩的制造方法


[0001]本专利技术是有关一种遮罩的制造方法，尤其是一种金属遮罩一体式的制造方法。

技术介绍

[0002]移动科技的进步以及移动装置小型化、轻量化等趋势替电子元件的成形与制造带来新的挑战。以被动元件为例，其制造有赖溅镀、蒸镀、印刷等制程。该些制程所使用的遮罩由框体及固定于框体上的金属膜所构成。一般而言，金属膜经由黄光制程、蚀刻后而得以提供，且具有开孔图案。因金属膜具可挠性，因此固定时需通过张力拉撑金属膜再进行与框体的接着。但张力拉撑也造成开孔图案的变形或偏移；且当开孔图案愈细致或尺寸愈精微，张力拉撑所致偏差也愈大，使得电子元件的公差超过适当的范围。此外蚀刻等制程也增加开孔图案失真的机会。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供一种遮罩的制造方法，有助于形成细微的遮罩图案，进而实现微小或精密元件的制造。
[0004]本专利技术所提供的遮罩的制造方法包括步骤：提供基板，其具有表面；于基板上形成光阻图案，并使光阻图案覆盖于表面的第一部分；提供金属框，其具有内壁且围构出框内区域，其中框内区域的面积小于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种遮罩的制造方法，其特征在于，包括步骤：提供一基板，该基板具有一表面；于该基板上形成一光阻图案，并使该光阻图案覆盖于该表面的一第一部分；提供一金属框，该金属框具有一内壁且围构出一框内区域，其中该框内区域的面积小于该基板的该表面的面积；组合该金属框及该基板，使该内壁与该表面连接且该光阻图案露出于该框内区域；以及于该框内区域进行金属沉积，并在该表面上形成一沉积金属层。2.如权利要求1所述的遮罩的制造方法，其特征在于，该于该基板上形成该光阻图案的步骤更包括步骤：涂布一光阻于该基板的该表面；通过一光罩对该光阻进行曝光；以及进行显影。3.如权利要求1所述的遮罩的制造方法，其特征在于，该于该基板上形成该光阻图案的步骤更包括于该表面上形成裸露的一第二部分。4.如权利要求1所述的遮罩的制造方法，其特征在于，该金属框还具有一底部，且该组合该金属框及该基板的步骤更包括将该金属框的该底部抵靠于该基板的该表面。5.如权利要求1所述的遮罩的制造方法，其特征在于，该组合该金属框及该基板的步骤更包括使用一治具将该金属框固定于该基板上。6.如权利要求3所述的遮罩的制造方法，其特征在于，该于该框内区域进行金属沉积的步骤更包括将至少一金属沉积于该表面的该第二部分以及该金...

【专利技术属性】
技术研发人员：林仁顺，
申请(专利权)人：达运精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：