【技术实现步骤摘要】
一种硅基底制备方法及太阳能电池
[0001]本专利技术涉及光伏
,更具体地,涉及一种硅基底制备方法及太阳能电池。
技术介绍
[0002]目前,为了应对越来越紧迫的能源危机,对太阳能的开发成了新兴的热点项目,其中,高效率的太阳能电池制备是太阳能开发的关键。
[0003]硅太阳能电池是以硅为基体材料的太阳能电池,在硅太阳能电池的制备过程中,在硅片上磷扩散的表面浓度以及结深是影响太阳能电池效率的关键,在磷扩散的工艺中通常表面浓度较高,满足良好的接触条件时,硅体内的磷扩散浓度也会随之较高,且具有较长拖尾现象,影响结深,使得PN结耗尽区较宽,降低太阳能电池的开路电压(Uoc)与短路电流(Isc);而磷扩散的表面浓度较低时,硅体内的磷扩散浓度也会随之较低,使得硅与金属电极之间的欧姆接触变差,填充因子(FF)较低。
[0004]在规模化生产中广泛使用高温管式扩散技术,在磷扩散的工艺中将氮气、氧气、三氯氧磷同时通入炉管内进行扩散,从而无法有效控制硅片上磷扩散的表面浓度以及结深,影响了制备得到的太阳能电池的转化效率。r/>
技术实现思路
<本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种硅基底制备方法,其特征在于,所述方法包括:在硅片的正面沉积形成第一磷源层;在第一预设温度下,将所述第一磷源层推进所述硅片,在所述硅片中形成第一预设深度的磷浓度分布层;在硅片的正面沉积第二磷源层,以使所述第二磷源层在沉积的过程中向所述磷浓度分布层内扩散至第二预设深度,形成硅基底,所述第二预设深度小于所述第一预设深度。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在硅片的正面沉积第二磷源层,以使所述第二磷源层在沉积的过程中向所述磷浓度分布层内扩散至第二预设深度,形成硅基底之后,还包括:在所述第一预设温度下,对所述硅基底的正面进行氧化形成第一氧化层。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述在所述第一预设温度下,对所述硅基底的正面进行氧化形成第一氧化层之后,还包括:在第二预设温度下,对所述硅基底的正面进行氧化形成第二氧化层,所述第二预设温度小于所述第一预设温度。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述在第二预设温度下,对所述硅基底的正面进行氧化形成第二氧化层之前,还包括:在所述第二预设...
【专利技术属性】
技术研发人员:潘强强,刘勇,朴松源,王洪喆,王路,李家栋,
申请(专利权)人:一道新能源科技衢州有限公司,
类型:发明
国别省市:
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