一种基于纳米薄膜的光纤剥离器及其制造方法技术

本发明专利技术公开一种基于纳米薄膜的光纤剥离器及其制造方法，其结构部分包括，双包层光纤，所述双包层光纤的预设段涂覆层和外包层被剥除并裸露内包层，其特征在于：所述预设段的内包层表面圆周沉积有纳米薄膜，所述纳米薄膜至少包括一层用于吸收泵浦光达到衰减目的的消光层。本发明专利技术利用沉积设置纳米薄膜的方式对泵浦光进行消光操作达到剥离的效果，同时可选用多组间隔设置的消光层和导光层来达到减少单一消光层功率负载的目的。解决了现有技术中光纤剥离器局部温度过高影响器件稳定性、需要较长的剥离长度以及被腐蚀后的光纤机械性能变差易发生断裂的问题。差易发生断裂的问题。差易发生断裂的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种基于纳米薄膜的光纤剥离器及其制造方法


[0001]本专利技术应用于光纤激光器领域，具体是一种基于纳米薄膜的光纤剥离器及其制造方法。

技术介绍

[0002]光纤激光器由于其结构紧凑、能量密度高、光束质量、性能稳定等优点别广泛应用于工业制造、通信传感、医疗器械、国防安全领域，因此高功率光纤激光器件得到了飞速的发展的，包层泵浦是光纤激光器实现高功率输出的一项关键技术。然而，在双包层光纤激光器中因为其结构的特殊性不可避免地含有残余抽运光、放大自发辐射和因非理想熔接、光纤弯曲等因素泄漏的信号光会极大的影响激光输出的稳定性，因此如何将包层的非信号光进行剥离是研究人员一直在寻求解决的问题。
[0003]目前对于泵浦光剥离技术主要有以下几种：
[0004]基于折射效应进行剥离，例如专利CN 205509224 U、CN 204631286 U、CN 210517314 U等，这些方法通过利用导光胶的高射率，在光纤内包层外侧连续或者非连续地进行涂敷，将包层光折射出光纤包层之外，其剥离效果与折射率差值相关。但是大量的泵浦光从导光胶的散热性能较低本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于纳米薄膜的光纤剥离器，其包括，双包层光纤，所述双包层光纤的预设段涂覆层和外包层被剥除并裸露内包层，其特征在于：所述预设段的内包层表面圆周沉积有纳米薄膜，所述纳米薄膜至少包括一层用于吸收泵浦光达到衰减目的的消光层。2.根据权利要求1所述的一种基于纳米薄膜的光纤剥离器，其特征在于：所述纳米薄膜的消光层数量大于一，且各消光层间对应设有用于将光从一个消光层传输至另一消光层来减少单一消光层功率负载的导光层。3.根据权利要求1所述的一种基于纳米薄膜的光纤剥离器，其特征在于：所述预设段长度为1CM
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20CM。4.根据权利要求2所述的一种基于纳米薄膜的光纤剥离器，其特征在于：所述消光层与导光层厚度为1nm
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1000nm。5.根据权利要求1所述的一种基于纳米薄膜的光纤剥离器，其特征在于：所述纳米薄膜总厚度为1nm
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10um。6.根据权利要求1所述的一种基于纳米薄膜的光纤剥离器，其特征在于：所述消光层包括Ge、Al、Fe、Ti、Ag、Au、Zn、Zr、Mg、Cu、Hf、Ba、Ni、Ho、Sb、Sn、Ce、Si、Ti、Ge、Cr、Al、V、In、P、Sb及其亚氧化物、InAs、ZnSe或ITO。7.根据权利要求1所述的一种基于纳米薄膜的光纤剥离器，其特征在于：所述导光层包括Ta2O5、TiO2、ZrO2、ZnO、Al2O3、MgF2、Ho2O3、SiOP、SiO2、Sb2O3、Nd2O3、HfO2、Y2O...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗正钱，李青原，卜轶坤，袁金亮，王航，杨雅迪，陈楠，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：发明
国别省市：