导电铜排、挂架组件以及电镀设备制造技术

技术编号:32607643 阅读:36 留言:0更新日期:2022-03-12 17:32
本申请公开了一种导电铜排、挂架组件以及电镀设备,该电铜排包括:固定端,固定端上形成有固定孔,固定端通过固定孔与挂架固定连接;凹槽,凹槽设置于固定端的一端;至少两个接触凸台,接触凸台设置于凹槽中,用于与垂直连续电镀线导电铜排接触导电。本申请通过设置至少两个接触凸台,增加导电铜排与垂直连续电镀线的导电铜排的接触点位,改善垂直连续电镀线的导电铜排与挂架导电铜排因脏污接触不良的问题,提高垂直连续电镀设备的镀铜效果。提高垂直连续电镀设备的镀铜效果。提高垂直连续电镀设备的镀铜效果。

【技术实现步骤摘要】
导电铜排、挂架组件以及电镀设备


[0001]本申请涉及电路板
,特别是涉及一种导电铜排、挂架组件以及电镀设备。

技术介绍

[0002]现有的垂直连续电镀设备,垂直连续电镀设备电流的闭环中一个重要的环节是垂直连续电镀线导电铜排与挂架导电铜排的接触,若二者接触不良,会影响印刷线路板的镀铜的效果。垂直连续电镀线的导电铜排与挂架导电铜排的接触面均为平面,通过在挂架导电铜排与垂直连续电镀线导电铜排接触面上涂抹导电油的方式减少垂直连续电镀线的导电铜排与挂架导电铜排之间的摩擦,同时增加二者的导电性。

技术实现思路

[0003]本申请提供一种导电铜排、挂架组件以及电镀设备,解决了挂架在电镀线上长时间运行,因垂直连续电镀线的导电铜排与挂架导电铜排涂油导电油,导电铜排上会积累脏污,导致接触面不良,导电性变差,影响最终的镀铜效果的问题。
[0004]为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种导电铜排,导电铜排用于和挂架同步运动时与垂直连续电镀线导电铜排接触导电,该电铜排包括:固定端,固定端上形成有固定孔,固定端通过固定孔与本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种导电铜排,所述导电铜排用于和挂架同步运动时与垂直连续电镀线导电铜排接触导电,其特征在于,所述导电铜排包括:固定端,所述固定端上形成有固定孔,所述固定端通过所述固定孔与所述挂架固定连接;凹槽,所述凹槽设置于所述固定端的一端;至少两个接触凸台,所述接触凸台设置于所述凹槽中,用于与所述垂直连续电镀线导电铜排接触导电。2.根据权利要求1所述的导电铜排,其特征在于,所述接触凸台的厚度设置为5mm。3.根据权利要求1所述的导电铜排,其特征在于,所述固定孔设置有多个。4.根据权利要求1所述的导电铜排,其特征在于,所述接触凸台边缘与所述凹槽边缘之间设置有一定间距。5.根据权利要求4所述的导电铜排,其特征在于,所述接触凸台与所述固定端与凹槽连接的一端之间...

【专利技术属性】
技术研发人员:王尹鹏
申请(专利权)人:深南电路股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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