分析图像传感器白像素分布的方法、装置、设备和介质制造方法及图纸

技术编号:32583312 阅读:66 留言:0更新日期:2022-03-09 17:15
本发明专利技术提供了一种分析图像传感器白像素分布的方法,将图像数据进行二值化处理,得到二值图;从二值图中提取白像素分布特征;对特征进行聚类分组,并标记聚类集合的特征,得到标签数据组;将设备数据结构化获得硬件数据,通过硬件数据结合标签数据组构建数据集;对标签数据组进行时序统计,提取数据集中的特定标签数据的产生的时域,构建子数据集;通过算法处理子数据集中的硬件数据,得到硬件数据的特征重要度;依据特征重要度排列硬件数据,统计特定标签数据和前N个最重要的特征;对特定标签数据做可视化分析,最终确定导致特定的白像素分布产生的原因。该方法用于解决分析方法效率低,无法准确确定产生白像素的工艺问题。无法准确确定产生白像素的工艺问题。无法准确确定产生白像素的工艺问题。

【技术实现步骤摘要】
分析图像传感器白像素分布的方法、装置、设备和介质


[0001]本专利技术涉及图像传感器的制造领域,尤其涉及分析图像传感器白像素分布的方法、装置、设备和介质。

技术介绍

[0002]白像素分布是衡量图像传感器的关键指标之一,图像传感器中白像素分布情况直接关系到其产生的图像质量,尤其是在低光或高温下产生图像的均匀性。产生白像素的根本原因是图像传感器芯片所在图像传感器芯片表面具有缺陷或图像传感器芯片表面被金属玷污,缺陷和金属玷污物可能来源于物料、机台和工艺等。
[0003]现有技术中针对图像传感器输出的图像通常进行人工分析,以经验值或者肉眼观察的方式确定白像素,并采用肉眼观察的方式总结出白像素分布情况,再根据制造经验确定造成白像素分布的原因。该方法效率低,只能对图像传感器的测试数据进行简单扼要的分析,无法对白像素进行有效分类,进而无法准确确定产生白像素的工艺问题。因此,亟需分析图像传感器白像素分布的方法、装置、设备和介质以改善上述问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供分析图像传感器白像素分布的方法、装置、设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种分析图像传感器白像素分布的方法,其特征在于,所述方法包括:将图像传感器在测试中获取的图像数据进行二值化处理,得到二值图;从所述二值图中提取白像素分布特征;依据聚类算法对所述白像素分布特征进行聚类分组,并标记聚类集合的白像素分布所述特征,得到标签数据组;所述标签数据组包含有若干特定标签数据;将设备数据结构化获得硬件数据,通过所述硬件数据结合所述标签数据组构建数据集;对所述标签数据组进行时序统计,提取所述数据集中的所述特定标签数据的产生的时域,利用所述时域中的所述硬件数据和所述特定标签数据,构建子数据集;处理所述子数据集中的所述硬件数据,得到所述硬件数据的特征重要度;依据所述特征重要度排列所述硬件数据,统计所述特定标签数据和前N个最重要的导致所述白像素分布产生的硬件特征,N为大于零的整数;对所述特定标签数据做人工分析,最终确定导致特定的所述白像素分布特征产生的工艺原因。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将设备数据结构化包括腔体编码赋值和数据清洗;所述腔体编码赋值包括,对腔体编码通过演化算法或具有遗传特性的编码方法进行赋值,生成若干腔体数据;所述腔体数据用于区分图像传感器芯片在流片过程中是否经过所述腔体编码对应的腔体;所述数据清洗包括:仅保留所述图像传感器芯片在同一腔体中,时间跨度最长的腔体数据,记为硬件数据。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括合并聚类,用于将同一工艺原因导致的所述白像素分布特征聚类标记为同一个标签,将不同工艺原因导致的所述白像素分布特征聚类标记为不同标签。4.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:对所述标签数据组进行时序统计,绘制所述特定标签数据的数量在时序中的布林带图,以所述布林带图的上轨的最低点之间的时段为时域,提取所述数据集在所述时域中的所述硬件数据和所述特定标签数据,构建子数据集。5.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:对所述特征重要度从大到小排序后画出特征重要度曲线;根据所述特征重要度曲线选取拐点前的N个特征,N为大于零的正整数。6.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:通过计算特定的所述白像素分布特征在流片顺序中的重复周期,辅助判断特定的所述白像素分布特征的产生原因。7.一种分析图像传感器白像素分布的装置,用于所述权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述装置包括:预处理单元,用于将图像传感器在测试中获取的图像数据进行二值化处理,得到二值图;所述预处理单元还用于从所述二值图中提取白像素分布特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙红霞李琛余学儒刁许玲葛星晨
申请(专利权)人:上海集成电路研发中心有限公司
类型:发明
国别省市:

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