一种用于光学镜头的光学镀膜材料及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种用于光学镜头的光学镀膜材料，由以下重量百分数的原料制备而成：纳米二氧化硅50~90%，氟化镁3~25%，氧化铝1~10%，五氧化二钽1~10%，氧化钇1~10%，二氧化锆1~5%。本发明专利技术的制备方法简单，制备得到的的光学镀膜材料用于光学镜头的光学镀膜材料采用纳米二氧化硅和氟化镁这两种低折射率的材料，与五氧化二钽、氧化钇、二氧化锆三种高折射率的材料相配合，添加了氧化铝这种中等折射率的材料，制备得到一种光学镀膜材料，具有中等的折射率，透过率高，耐磨损、耐高温，化学稳定性好，使用在光学镜头上，可以满足不同的中等折射率和较高的透过率，同时还具有耐磨损的特性，可以延长光学镜头的使用时间。延长光学镜头的使用时间。

【技术实现步骤摘要】
一种用于光学镜头的光学镀膜材料及其制备方法


[0001]本专利技术属于镀膜材料领域，具体地，涉及一种用于光学镜头的光学镀膜材料及其制备方法。

技术介绍

[0002]镀膜使用物理或化学的方法在透明材料表面镀上一层透明的膜，光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
[0003]常见的光学镀膜材料有以下几种：氟化镁，特点是：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点；二氧化硅，特点是：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用；氧化锆，特点是：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。
[0004]现代镜头上的镀膜大概可以分为两种：一种叫增透膜，是增加光线透过率的；另一种镀膜则是改变镜头的色本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于光学镜头的光学镀膜材料，其特征在于：由以下重量百分数的原料制备而成：纳米二氧化硅50~90%，氟化镁3~25%，氧化铝1~10%，五氧化二钽1~10%，氧化钇1~10%，二氧化锆1~5%。2.根据权利要求1所述的一种用于光学镜头的光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料由以下重量百分数的原料制备而成：纳米二氧化硅90%，氟化镁3%，氧化铝4%，五氧化二钽1%，氧化钇1%，二氧化锆1%。3.根据权利要求1所述的一种用于光学镜头的光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料由以下重量百分数的原料制备而成：纳米二氧化硅50%，氟化镁15%，氧化铝10%，五氧化二钽10%，氧化钇10%，二氧化锆5%。4.根据权利要求1所述的一种用于光学镜头的光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料由以下重量百分数的原料制备而成：纳米二氧化硅70%，氟化镁10%，氧化铝7%，五氧化二钽6%，氧化钇4%，二氧化锆3%。5.根据权利要求1所述的一种用于光学镜头的光学镀膜材料，其特征在于：所述纳米二氧化硅的纯度为99.99%；所述氧化铝的纯度为99.999%，粒度为200~600nm；所述氧化钇的纯度为99.995%，颗粒大小为1~5mm，所述二氧化锆的纯度为99.995%，粒度为100~300nm。6.根据权利要求1所述的一种用于光学镜头的光学镀膜材料，其特征在于：所述氟化镁通过以下方法制备得到的：（1）以七水硫酸镁为原料，加入65
±
5℃的热水，加入1:1.5的氨水，搅拌反应生成氢氧化镁，放置24小时；（2）用65
±
5℃的热水清洗至...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴宪君，
申请(专利权)人：苏州晶生新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：