【技术实现步骤摘要】
一种高辉度增光与扩散量子点复合光学膜制备方法
[0001]本专利技术涉及光学膜
,具体涉及一种高辉度增光与扩散量子点复合光学膜制备方法。
技术介绍
[0002]现有的光学膜于其上面形成棱镜阵列以增加集光效果,而于底部制成粗糙结构或涂布一扩散层以增加光的扩散,由此来增加光显示器(如LCD)的辉度或均匀度。但该种结构的光学膜雾度较低,透光率也较低,导致产品使用受限。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的在于克服现有技术的不足,提供一种高辉度增光与扩散量子点复合光学膜制备方法,通过该方法可制备出高雾度,高穿透的高辉度增光与扩散量子点复合光学膜。
[0004]本专利技术的技术方案如下:
[0005]一种高辉度增光与扩散量子点复合光学膜制备方法,包括以下步骤:
[0006](1)PET基材采用一面具有若干个并排分布扩散粒子的扩散膜;
[0007](2)在扩散膜的另一面涂布QD量子膜层;
[0008](3)采用低折射率光学级丙烯酸胶水在QD量子膜层上涂布形成低折射中介层 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种高辉度增光与扩散量子点复合光学膜制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)PET基材采用一面具有若干个并排分布扩散粒子的扩散膜;(2)在扩散膜的另一面涂布QD量子膜层;(3)采用低折射率光学级丙烯酸胶水在QD量子膜层上涂布形成低折射中介层;(4)在UV光固化胶水中添加量子点,混合均匀并涂布于低折射中介层上形成具有若干个平行排列的棱镜结构的增光层。2.根据权利要求1所述的一种高辉度增光与扩散量子点复合光学膜制备方法,其特征在于:在步骤(1)中,PET基材的厚度为50um。3.根据权利要求1所述的一种高辉度增光与扩散量子点复合光学膜制备方法,其特征在于:在步骤(2)中,所形成QD量子膜层的厚度为20~50um。4.根据权利要求1所述的一种高辉度增光与扩散量子点复合光学膜制备方法,其特征在于:在步骤(3)中,所形成低折射中介层的厚度为0.3um。5.根据权利要求1所述的一种高辉度增光与扩散量子点复合光学膜制备方法,其特征在于:在步骤(4)中,所采用的UV光固化胶水由三丙二醇二丙烯酸酯、四氢砆喃丙烯酸酯、乙氧化(10)双酚A二丙烯酸酯、聚乙二醇(600)二丙烯酸酯、邻苯基苯乙氧基乙基丙烯酸酯、2
技术研发人员:邓建东,陈明源,张立典,
申请(专利权)人:东莞市光志光电有限公司,
类型:发明
国别省市:
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