【技术实现步骤摘要】
一种光学特性建模方法和装置
[0001]本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种光学特性建模方法和装置。
技术介绍
[0002]在半导体制造检测、光刻掩模板的光学邻近校正、光学散射仿真计算等领域中需要对周期介质的介电系数进行二维傅立叶系数的展开。以半导体检测领域为例，随着半导体制造行业的发展，器件结构随着特征尺寸缩小而越来越复杂，为了保证制造的可靠性一致性等要求，需要对制造过程进行更严格的工艺控制，对制造的器件进行测量是工艺控制中的核心问题之一。
[0003]光学关键尺寸测量技术具有速度快、成本低、非破坏性等优点，在半导体制造先进工艺控制中有重要应用。光学关键尺寸测量技术是一种基于模型的方法，因此快速准确的建模计算是光学关键尺寸测量的核心要素之一。
[0004]光学关键尺寸测量由两个关键技术支撑，即正向光学特性建模和反向几何参数提取。在诸多正向光学特性建模方法中，严格耦合波分析理论(RCWA)因其建模精度高、适用对象广，普遍应用于周期性介质的光学特性建模中。在严格耦合波分析过程中需要求得周期介质的介电系...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光学特性建模方法，其特征在于，该方法包括：将周期介质内的微结构在z方向上划分为N层薄片，N为正整数；针对同一层微结构的薄片，执行如下处理：获取所述薄片在周期空间xy平面上投影的各个封闭区域，并将所述各个封闭区域的边界表示为各个多边形；获取每个多边形顶点的x坐标和y坐标，以及各个所述多边形的线段特征，所述线段特征包括所述各个多边形上相邻两个顶点所形成的线段的斜率、所述线段的长度或所述线段分别在x轴和y轴上投影的长度；根据所述线段特征，对所述周期空间进行划分，得到x方向划分的积分子区间和y方向划分的积分子区间；基于x方向划分的积分子区间和y方向划分的积分子区间，计算周期介质的介电系数的傅里叶系数和周期介质的介电系数的托普利兹矩阵；利用所述周期介质的介电系数的傅里叶系数和所述周期介质的介电系数的托普利兹矩阵进行严格耦合波分析，以实现所述周期介质的光学特性建模。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述线段特征，对所述周期空间进行划分，得到x方向划分的积分子区间和y方向划分的积分子区间，包括：在所述线段上分别获取x方向的划分点和y方向的划分点，以及获取x方向的划分点的x坐标和y方向的划分点的y坐标；基于所述各个多边形的顶点的x坐标和所述x方向的划分点的x坐标，形成x坐标的集合；基于所述各个多边形顶点的y坐标和所述y方向的划分点的y坐标，形成y坐标的集合；将所述x坐标的集合和所述y坐标的集合划分，得到x方向划分的积分子区间和y方向划分的积分子区间。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，将所述x坐标的集合和所述y坐标的集合划分，得到x方向划分的积分子区间和y方向划分的积分子区间，包括：将所述x坐标的集合和所述y坐标的集合中的坐标分别按照由大到小或者由小到大的顺序排列；针对顺序排列后的所述x坐标的集合，任意相邻两个x坐标构成x方向划分的积分子区间；针对顺序排列后的所述y坐标的集合，任意相邻两个y坐标构成y方向划分的积分子区间。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述线段上分别获取x方向的划分点和y方向的划分点，包括：在x方向上，当所述斜率的绝对值小于第一阈值，且大于第二阈值时，且所述线段在x轴的投影的长度或者该线段的长度不小于预设值，从所述相邻两个顶点之间的线段上选取至少一个x方向的划分点，否则，将所述相邻两个顶点作为该线段x方向的划分点；在y方向上，当所述斜率的绝对值小于第三阈值，且大于第四阈值时，且所述线段在y轴的投影的长度或者该线段的长度不小于预设值，从所述相邻两个顶点之间的线段上选取至少一个y方向的划分点，否则，将所述相邻两个顶点作为该线段y方向的划分点。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，从所述相邻两个顶点之间的线段上选取至少一个x方向的划分点，包括：
按照预设步长、二分法或以经验值为基准，从所述线段上选取至少一个x方向的划分点；从所述相邻两个顶点之间的线段上选取至少一个y方向的划分点，包括：按照预设步长、二分法或以经验值为基准，从所述线段上选取至少一个y方向的划分点。6.一种光学特性建模装置，其特征在于，该装置包括：划分单元，用于将周期介质内的微结构...
【专利技术属性】
技术研发人员：张晓雷，张厚道，施耀明，
申请(专利权)人：上海精测半导体技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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