离子束衰减的增加的动态范围制造技术

一方面，公开了一种在质谱仪中调制离子透射的方法，其包括生成包含多个离子的离子束、将离子束引导至位于离子束路径中的离子光学器件，其中离子光学器件包括离子能够穿过的至少一个开口，以及以选择的占空比向所述离子光学器件施加一个或多个电压脉冲，以获得穿过离子光学器件的离子束亮度的期望衰减，其中所述电压脉冲在所述选择的占空比下的脉冲宽度是通过识别与在所述离子的理想归一化离子强度对脉冲宽度关系上的所述期望衰减相对应的在所述离子的校准归一化离子强度对脉冲宽度关系上的脉冲宽度来确定的。系上的脉冲宽度来确定的。系上的脉冲宽度来确定的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】离子束衰减的增加的动态范围
[0001]相关申请
[0002]本申请要求于2019年7月23日提交的标题为“Increased Dynamic Range for the Attenuation of an Ion Beam”、申请号为62/877,542的临时专利申请的优先权，其全部内容通过引用并入本文。


[0003]本教导一般地涉及用于调制离子到质谱仪的部件中的透射的方法和系统，更特别地涉及可以用于增加用于在质谱仪中离子束的衰减的动态范围的此类方法和系统。

技术介绍

[0004]质谱仪(MS)是一种用于测量分子质荷比的分析技术，具有定性和定量两种应用。MS可以用于识别未知化合物、通过观察特定化合物的碎片来确定特定化合物的结构，以及量化样品中特定化合物的含量。质谱仪将检测作为离子的化学实体，使得在样品处理过程中必须将分析物转化为带电离子。
[0005]通常需要衰减质谱仪中的离子束强度，例如，以避免检测器饱和、减少可能对四极杆质量过滤器性能产生不利影响的空间电荷，或防止离子阱的过度填充等。以可预测的方式降低离子束强度的能本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种在质谱仪中调制离子的透射的方法，包括：生成包含多个离子的离子束，将离子束引导至位于离子束路径中的离子光学器件，其中所述离子光学器件包括离子能够穿过的至少一个开口，以选择的占空比向所述离子光学器件施加一个或多个电压脉冲，以获得穿过所述离子光学器件的离子束的亮度的期望衰减，其中所述电压脉冲在所述选择的占空比下的脉冲宽度是通过识别与在所述离子的理想归一化离子强度对脉冲宽度关系上的所述期望衰减相对应的在所述离子的校准归一化离子强度对脉冲宽度关系上的脉冲宽度来确定的。2.如权利要求1所述的方法，其中所述校准归一化离子强度对脉冲宽度关系是经由与随以所述选择的占空比施加到所述离子光学器件的多个电压的脉冲宽度而变的、透射通过所述离子光学器件的所述离子的归一化强度相对应的数据线性拟合而获得的。3.如权利要求2所述的方法，其中所述理想归一化离子强度对脉冲宽度关系由以下线性关系定义：y＝m1x1,其中y表示归一化离子强度，x1表示理想的脉冲宽度，并且m1表示线性关系的斜率。4.如权利要求3所述的方法，其中所述校准归一化离子强度对脉冲宽度关系由以下线性关系定义：y＝m2x2+b,其中y表示归一化离子强度，x2表示施加到所述离子光学器件的电压脉冲的脉冲宽度，m2表示线性关系的斜率，并且b表示线性关系的截距。5.如权利要求4所述的方法，其中所述脉冲宽度x2根据以下关系来确定：6.如权利要求5所述的方法，还包括在5％占空比点处重新归一化权利要求5中的所述关系。7.如权利要求1所述的方法，其中用于与以所述占空比施加到所述离子光学器件的多个电压脉冲相关联的电压脉冲宽度的所述校准归一化离子强度是作为在该电压脉冲宽度下穿过所述离子光学器件的离子的测量强度相对于在与以所述占空比施加到所述离子光学器件的多个校准电压脉冲相关联的校准电压脉冲宽度下穿过所述离子光学器件的离子的测量强度的比率而获得的。8.如权利要求7所述的方法，其中所述校准电压脉冲宽度在约4微秒至约200微秒的范
围。9.如权利要求1所述的方法，其中所述离子包括多个不同的m/z比。10.如权利要求9所述的方法，其中所述理想关系和所述校准关系是针对所述m/z比中的至少一个而确定的。11.如权利要求10所述的方法，其中针对所述m/z比中的所述至少一个而确定的所述理想关系和所述校准关系被用于确定所述电压脉冲的所述脉冲宽度。12.如权利要求9所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：B，
申请(专利权)人：DH科技发展私人贸易有限公司，
类型：发明
国别省市：