【技术实现步骤摘要】
管连接装置
[0001]本专利技术涉及一种管连接装置,更详细而言涉及一种防止气体的泄漏的管连接装置。
技术介绍
[0002]在半导体、显示装置的制造工艺中,安装、蚀刻、离子注入之类的真空工艺被广泛利用。所述真空工艺通过将基板置于真空腔室内部来进行,在真空腔室中结合有用于排出气体的排气管、用于注入气体的气体注入管之类的多个连接管。此时,真空管在外部与其它管连接,此时使用的部件是真空管配件。为了保持真空,所述配件由被插入O型圈、衬垫等的结构构成,并根据真空度的程度使用彼此不同的真空配件。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的在于提供一种气密性得到改善的管连接装置。
[0004]然而,本专利技术的目的不限于这种目的,在不脱离本专利技术的构思和领域的范围内可以进行各种扩展。
[0005]用于实现上述的本专利技术的目的的根据一实施例的管连接装置可以包括:第一主体部,环绕管并包括第一槽;第一密封部件,插入到所述第一槽中并在所述管和所述第一主体部之间进行密封;第二主体部,环绕所述管并与所述第一主体部紧 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种管连接装置,其中,包括:第一主体部,环绕管并包括第一槽;第一密封部件,插入到所述第一槽中并在所述管和所述第一主体部之间进行密封;第二主体部,环绕所述管并与所述第一主体部紧固,并且包括第二槽以及第三槽;第二密封部件,插入到所述第二槽中并在所述管和所述第二主体部之间进行密封;间隔件,环绕所述管并配置在所述第一主体部和所述第二主体部之间;以及第三密封部件,插入到所述第三槽中并在所述间隔件和所述第二主体部之间进行密封。2.根据权利要求1所述的管连接装置,其特征在于,所述第一主体部包括:结合部,与所述第二主体部结合;以及夹具固定部,从所述结合部延伸并局部环绕所述管。3.根据权利要求2所述的管连接装置,其特征在于,所述管连接装置还包括:夹具,与所述夹具固定部结合并局部环绕所述管。4....
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