指纹成像模组及电子设备制造技术

一种指纹成像模组及电子设备，所述指纹成像模组中所述第一介质层和所述第二介质层依次位于所述点光源组件的一侧，而且折射率更大的第二介质层表面为用以接触指纹的接触面。因此所述接触面的第一区两侧材料的折射率差值较大，入射光在所述接触面上的第一区发生全反射的临界角较大，不仅能够有效控制点光源组件与所述传感组件之间的距离以保证集成度，而且同时还能够提高发生全反射的入射光的比例以提高信号强度。提高信号强度。提高信号强度。

【技术实现步骤摘要】
指纹成像模组及电子设备


[0001]本技术涉及指纹成像领域，特别涉及一种指纹成像模组及电子设备。

技术介绍

[0002]现有指纹识别技术是通过图像采集装置采集到人体的指纹图像，然后与指纹识别系统里已有指纹成像信息进行比对，以实现身份识别。由于指纹识别技术的使用方便性，以及人体指纹的唯一性，指纹识别技术已经大量应用于各个领域，比如：公安局、海关等安检领域，楼宇的门禁系统，以及个人电脑和手机等消费品领域等等。
[0003]指纹模组被越来越多的应用于笔记本电脑、平板电脑、手机等移动设备内，从而使相关移动设备实现自动解锁的功能。特别是手机的指纹识别，更是应用广泛。
[0004]但是现有指纹成像模组对潮湿指纹的成像效果较差，从而限制了指纹成像模组的适用环境。

技术实现思路

[0005]本技术解决的问题是提供一种指纹成像模组及电子设备，以改善针对潮湿指纹的成像效果。
[0006]为解决上述问题，本技术提供一种指纹成像模组，包括：
[0007]点光源组件；第一介质层和第二介质层，所述第一介质层和所述第二介质层依次位于所述点光源组件的一侧，所述第二介质层背向所述点光源组件的表面为接触面，所述接触面的第一区域适宜于接触指纹，所述第二介质层的折射率大于所述第一介质层的折射率；所述点光源组件所产生的入射光在所述接触面的第一区域上发生全反射后形成携带有指纹信息的感测光；传感组件，所述传感组件适宜于采集所述感测光以获得指纹图像。
[0008]可选的，第一介质层的材料为玻璃或亚克力，所述第二介质层的材料为氮化硅或金刚石。
[0009]可选的，所述第一介质层材料的折射率大于或等于1.33，所述第二介质层材料的折射率大于或等于1.7。
[0010]可选的，所述传感组件采集所述感测光的位置与所述接触面之间距离不变时，所述第二介质层厚度越小，平行所述接触面所在平面内，所述点光源组件发射的沿预设方向的光线与所述传感组件上对应于所述沿预设方向的光线的感测点之间距离越大。
[0011]可选的，指纹成像时，指纹与所述接触面的第一区域之间具有环境介质，所述第一介质层的折射率大于或等于所述环境介质的折射率。
[0012]可选的，所述环境介质的折射率大于或等于1.33。
[0013]可选的，所述环境介质为水。
[0014]可选的，所述点光源组件包括：第一点光源和第二点光源，平行所述接触面的平面内，所述第一点光源位于所述第二点光源和所述传感组件之间。
[0015]可选的，垂直所述接触面的方向上，所述第二点光源位于所述第一点光源和所述
接触面之间。
[0016]可选的，第一介质层与所述接触面相背的表面内具有凹槽，所述第二点光源位于所述凹槽内。
[0017]可选的，所述第二点光源位于远离所述凹槽的底部、靠近所述第一介质层与所述接触面相背的表面的所述凹槽的侧壁上。
[0018]可选的，所述第二点光源所产生的入射光垂直入射所述凹槽的侧壁后，依次透射所述第一介质层和所述第二介质层，并以大于全反射临界角的入射角投射至所述接触面的第一区域上。
[0019]可选的，第一介质层与所述接触面相背的表面上具有凸起部，所述第一点光源位于所述凸起部表面。
[0020]可选的，所述第一点光源位于所述凸起部表面靠近所述第一介质层的位置。
[0021]可选的，所述第一点光源所产生的入射光垂直入射所述凸起部的表面后，依次透射所述第一介质层和所述第二介质层，并以大于全反射临界角的入射角投射至所述接触面的第一区域上。
[0022]可选的，还包括：处理器，所述处理器适宜于判断所述接触面的第一区域是否存在环境介质；所述处理器还适宜于在判断所述接触面的第一区域存在环境介质时，开启所述第二点光源以获得指纹图像。
[0023]可选的，所述处理器适宜于判断所述接触面的第一区域是否存在环境介质包括：所述处理器适宜于开启所述第一点光源，并控制所述传感组件采集光线；在所采集的光线无法获得指纹图像时，所述处理器判断所述接触面的第一区域存在环境介质。
[0024]可选的，所述处理器适宜于在判断所述接触面的第一区域存在环境介质时，开启所述第二点光源，且关闭所述第一点光源以获得指纹图像。
[0025]可选的，所述点光源组件包括一个或多个点光源，所述一个或多个点光源具有预设的发光角度范围，所述一个或多个点光源中的至少一部分点光源位于预设斜面上，使得所述至少一部分点光源位于其各自发光角度范围内的光线部分或全部入射至所述接触面的第一区域。
[0026]相应的，本专利技术还提供一种电子设备，包括：本专利技术的指纹成像模组。
[0027]与现有技术相比，本技术的技术方案具有以下优点：
[0028]本技术技术方案中，所述第一介质层和所述第二介质层依次位于所述点光源组件的一侧，而且折射率更大的第二介质层表面为用以接触指纹的接触面的第一区域。因此所述接触面两侧材料的折射率差值较大，入射光在所述接触面的第一区域上发生全反射的临界角较小，不仅能够有效控制点光源组件与所述传感组件之间的距离以保证集成度，而且同时还能够提高发生全反射的入射光的比例以提高信号强度。
[0029]本技术的可选方案中，指纹成像时，指纹与所述接触面的第一区域之间具有环境介质，所述环境介质的折射率大于等于1.33，所述环境介质为水。因此通过合理设置所述第二介质层的材料，能够有效扩大所述接触面的第一区域两侧第二介质层与水之间的折射率差，从而能够在保证集成度的同时，对潮湿指纹进行高质量成像。
[0030]本技术的可选方案中，所述点光源组件包括：第一点光源和第二点光源，平行所述接触面的平面内，所述第一点光源位于所述第二点光源和所述传感组件之间。因此所
述第二点光源所产生入射光投射至所述接触面上的第一区域的指纹所在区域的入射角势必大于所述第一点光源所产生入射光投射至所述接触面上的第一区域的入射角，所述第一点光源和所述第二点光源可以分别适用于不同成像环境的需要，从而使一个指纹成像模组适应不同的使用环境，有利于指纹成像模组适用环境的拓展。
[0031]本技术的可选方案中，垂直所述接触面的方向上，所述第二点光源位于所述第一点光源和所述接触面之间，从而能够避免使所述第一点光源位于所述第二点光源所产生入射光的光路上，避免第一点光源对第二点光源所产生入射光的遮挡。
[0032]本技术的可选方案中，所述第一点光源位于所述凸起部表面靠近所述第一介质层的位置，能够有效缩短第一点光源与所述接触面之间的垂直距离，能够尽量避免所述凸起部其他位置对所述第一点光源所产生入射光传播的影响。
[0033]本技术的可选方案中，所述第二点光源位于远离所述凹槽的底部、且靠近所述第一介质层与所述接触面相背的表面的所述凹槽的侧壁上，能够增大所述第二点光源与所述接触面之间的垂直距离，能够尽量控制所获得指纹图像与真实指纹之间的放大比例，有利于控制指纹图像的畸变。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种指纹成像模组，其特征在于，包括：点光源组件；第一介质层和第二介质层，所述第一介质层和所述第二介质层依次位于所述点光源组件的一侧，所述第二介质层背向所述点光源组件的表面为接触面，所述接触面的第一区域适宜于接触指纹，所述第二介质层的折射率大于所述第一介质层的折射率；所述点光源组件所产生的入射光在所述接触面的第一区域上发生全反射后形成携带有指纹信息的感测光；传感组件，所述传感组件适宜于采集所述感测光以获得指纹图像。2.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，第一介质层的材料为玻璃或亚克力，所述第二介质层的材料为氮化硅或金刚石。3.如权利要求1或2所述的指纹成像模组，其特征在于，所述第一介质层材料的折射率大于或等于1.33，所述第二介质层材料的折射率大于或等于1.7。4.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，所述传感组件采集所述感测光的位置与所述接触面之间距离不变时，所述第二介质层厚度越小，平行所述接触面所在平面内，所述点光源组件发射的沿预设方向的光线与所述传感组件上对应于所述沿预设方向的光线的感测点之间距离越大。5.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，指纹成像时，指纹与所述接触面的第一区域之间具有环境介质，所述第一介质层的折射率大于或等于所述环境介质的折射率。6.如权利要求5所述的指纹成像模组，其特征在于，所述环境介质的折射率大于或等于1.33。7.如权利要求6所述的指纹成像模组，其特征在于，所述环境介质为水。8.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，所述点光源组件包括：第一点光源和第二点光源，平行所述接触面的平面内，所述第一点光源位于所述第二点光源和所述传感组件之间。9.如权利要求8所述的指纹成像模组，其特征在于，垂直所述接触面的方向上，所述第二点光源位于所述第一点光源和所述接触面之间。10.如权利要求9所述的指纹成像模组，其特征在于，第一介质层与所述接触面相背的表面内具有凹槽，所述第二点光源位于所述凹槽内。11.如权利要求10所述的指纹成像模组，其特征在于，所述第二点光源位于远离所述凹槽的底部、靠近所述第一介质...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄建东，罗毅诚，
申请(专利权)人：上海耕岩智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：