一种抛光面防滑防污的瓷砖及其制备方法和用途技术

一种抛光面防滑防污的瓷砖及其制备方法和用途，制备方法通过步骤1

【技术实现步骤摘要】
一种抛光面防滑防污的瓷砖及其制备方法和用途


[0001]本专利技术涉及瓷砖
，尤其涉及一种抛光面防滑防污的瓷砖及其制备方法和用途。

技术介绍

[0002]随着工业的发展，抛光面瓷砖由于其光泽度高，结合其纹理结构所表现出的装饰效果大受消费者喜爱；但抛光面瓷砖其光泽度是基于表面光滑，然而表面光滑会给抛光面瓷砖带来防滑性下降；而若提高防滑性，会导致出现光泽度下降，防污性差的问题，即现有的瓷砖基本难以达到光泽度高、防滑性高和防污性高的性能。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提出一种抛光面防滑防污砖的制备方法，用于制备具有高光泽度、防滑和防污功能瓷砖，通过特定的面釉配方，结合砖面的五次特别处理的抛光加工，制得抛光面防滑防污砖。
[0004]本专利技术还提出一种抛光面防滑防污的瓷砖，其由上述的抛光面防滑防污砖的制备方法制备而成。
[0005]本专利技术还提出一种瓷砖在制备抛光面防滑防污的装饰板中的用途。
[0006]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0007]一种抛光面防滑防污砖本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光面防滑防污砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：配制面釉；面釉，按重量份数，其原料包括：20～25份的钠长石、10～15份的钾长石、25～30份的氧化硅、10～15份的硅灰石、1～2份的氧化镁、3～5份的氧化铝、5～10份的高岭土、5～8份的霞石粉和2～4份的氧化锌；将面釉原料添加球磨剂，置于球磨机中，球磨获得面釉；球磨参数为过325目，筛余0.15～0.18％；步骤2：将步骤1制得的面釉布施于砖面，烘干后，在1120～1150℃烧结；步骤3：使用不同粒度的弹性磨块对砖面进行第一次抛光，弹性磨块的粒度为20～800目；步骤4：使用100～120μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第二次抛光；使用40～60μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第三次抛光；使用5～10nm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第四次抛光，根据需要调整光泽度；步骤5：清洗砖面；将防污剂布施于砖面，进行第五次抛光，制得抛光面防滑防污砖。2.根据权利要求1所述的一种抛光面防滑防污砖的制备方法，其特征在于，所述步骤3中，从粒度大的弹性磨块至粒度小的弹性磨块依次对砖面进行抛光。3.根据权利要求2所述的一种抛光面防滑防污砖的制备方法，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟保民，金国庭，祁明，熊勋旺，徐瑜，杨涛，谢穗，
申请(专利权)人：广东东鹏控股股份有限公司丰城市东鹏陶瓷有限公司佛山市东鹏陶瓷发展有限公司，
类型：发明
国别省市：