本实用新型专利技术属于脱卤技术领域，具体涉及一种脱卤装置，包括直流池、辉光放电装置、处理池、第一介质阻挡放电装置和交流电源；直流池上设有进水口，辉光放电装置的电极插设在直流池内；处理池上设有出水口，处理池内设有第二介质阻挡放电装置，第二介质阻挡放电装置包括盒体，盒体内设有封闭气室，封闭气室的外侧壁上设有2个金属电极，封闭气室夹设在2个金属电极之间；第一介质阻挡放电装置包括内管道和外管道，直流池和处理池通过内管道连通，外管道套设在内管道外，外管道与内管道之间的空间为封闭空间，外管道的外侧壁上设有金属层；封闭气室、盒体和内管道都可透紫外光。所述脱卤装置高效、环保，无需外加药剂。无需外加药剂。无需外加药剂。
【技术实现步骤摘要】
一种脱卤装置
[0001]本技术属于脱卤
，具体涉及一种脱卤装置。
技术介绍
[0002]常规的脱卤装置需外加药剂实现脱卤，易产生二次污染。与外加药剂相比，利用低温等离子体、紫外辐射等技术实现脱卤更符合环保的要求。
[0003]利用辉光放电装置和介质阻挡放电装置可产生低温等离子体和紫外辐射，目前还没有利用辉光放电装置和介质阻挡放电装置进行脱卤的环保、高效的脱卤装置。
技术实现思路
[0004]为解决上述问题，本技术提供一种利用辉光放电装置和介质阻挡放电装置进行脱卤的环保、高效的脱卤装置。
[0005]具体地，本技术的技术方案是：
[0006]一种脱卤装置，包括直流池、辉光放电装置、处理池、第一介质阻挡放电装置和交流电源；直流池上设有进水口，辉光放电装置的正电极和负电极插设在直流池内；处理池上设有出水口，处理池内设有第二介质阻挡放电装置，第二介质阻挡放电装置包括盒体，盒体内设有封闭气室，封闭气室的外侧壁上设有2个金属电极，封闭气室夹设在2个金属电极之间，2个金属电极分别与交流电源的正极和负极连接；第一介质阻挡放电装置包括内管道和外管道，直流池和处理池通过内管道连通，外管道套设在内管道外，外管道与内管道之间的空间为封闭空间，外管道的外侧壁上设有金属层，金属层和内管道内的溶液分别与交流电源的正极和负极连接；封闭气室、盒体和内管道都可透紫外光。
[0007]优选地，所述内管道和外管道都为圆筒结构，外管道与内管道同轴设置。
[0008]优选地，所述内管道和外管道都采用石英材料制成。
[0009]优选地，所述外管道与内管道之间的封闭空间内充有气体混合物或稀有气体，气体混合物为稀有气体和卤素气体的混合物，或稀有气体、卤素气体和氢气的混合物，或稀有气体、卤素气体、氢气和氯化氢的混合物；外管道上设有充气孔，充气孔被密封件密封。
[0010]优选地，所述盒体设在处理池中部，盒体和封闭气室都为长方体结构，封闭气室设在盒体中部。
[0011]优选地，所述金属电极为金属网。
[0012]优选地，所述盒体和封闭气室都采用石英材料制成。
[0013]优选地，所述脱卤装置还包括气体泵和射流器，气体泵用于向盒体内泵气，射流器用于将盒体内产生的低温等离子体注入直流池和/或处理池内。
[0014]优选地，所述脱卤装置还包括收集管道，收集管道套设在外管道外，收集管道与外管道之间的空间为封闭空间，气体泵还用于向收集管道与外管道之间的封闭空间内泵气，射流器还用于将收集管道与外管道之间的封闭空间内产生的低温等离子体注入直流池和/或处理池内。
[0015]优选地，所述封闭气室内充有气体混合物或稀有气体，气体混合物为稀有气体和卤素气体的混合物，或稀有气体、卤素气体和氢气的混合物，或稀有气体、卤素气体、氢气和氯化氢的混合物；封闭气室上设有充气孔，充气孔被密封件密封。
[0016]本技术提供的脱卤装置可对待处理溶液进行紫外光、过氧化氢和低温等离子体混合脱卤，高效、环保，无需外加药剂。具体地，以辉光放电装置的正电极为阳极，直流池内的溶液为阴极，通过辉光放电可产生低温等离子体和过氧化氢；第一介质阻挡放电装置的金属层接交流电源正极，内管道内的溶液接交流电源负极，以外管道与内管道之间的封闭空间内的气体为介质，通过介质阻挡放电可产生紫外光；第二介质阻挡放电装置的2个金属电极分别接交流电源正极和负极，以封闭气室内的气体为介质，通过介质阻挡放电可产生紫外光。
附图说明
[0017]图1为一种脱卤装置的结构图；
[0018]图2为图1所示脱卤装置的爆炸图一；
[0019]图3为图2中第二介质阻挡放电装置的结构图；
[0020]图4为图1所示脱卤装置的爆炸图二；
[0021]图5为图4中A部分的放大图。
具体实施方式
[0022]下面结合附图及具体实施例对本技术作进一步详细说明。
[0023]实施例一：
[0024]如图1至5所示，一种脱卤装置，包括直流池1、辉光放电装置、处理池2、第一介质阻挡放电装置3和交流电源(未示出)。直流池1上设有进水口10，辉光放电装置的正电极111和负电极112插设在直流池1内。具体地，辉光放电装置的正电极111为针状电极，采用金属材料制成，待处理溶液从进水口10进入直流池1内，待处理溶液的液面低于正电极111的尖端，高于负电极112的头部，直流电源正极和负极分别与正电极111和负电极112连接，电源电压为400V至1500V，通电后，正电极111的尖端向液面放电，产生低温等离子体和过氧化氢。
[0025]处理池2上设有出水口20，处理池2内设有第二介质阻挡放电装置4，第二介质阻挡放电装置4包括盒体41，盒体41内设有封闭气室42，封闭气室42的外侧壁上设有2个金属电极43，封闭气室42夹设在2个金属电极43之间，2个金属电极43分别与交流电源的正极和负极连接。
[0026]在本实施例中，封闭气室42内充有气体混合物或稀有气体(例如氦气、氩气、氪气、氙气)，气体混合物为稀有气体和卤素(例如氯、氟)气体的混合物，或稀有气体、卤素气体和氢气的混合物，或稀有气体、卤素气体、氢气和氯化氢的混合物。封闭气室42上设有充气孔(未示出)，充气孔(未示出)被密封件密封。通过充气孔可向封闭气室42内充入Xe2、Kr2、Ar2或He2等稀有气体，或Ar2/Cl2、Kr2/Cl2、Xe2/Cl2、Ar2/I2、Kr2/I2、Xe2/I2、Ar2/F2、Kr2/F2、Xe2/F2、Ar2/Cl2/Kr2、Ar2/Cl2/H2、Ar2/Cl2/H2/HCl、Kr2/Cl2/H2、Xe2/Cl2/H2、Xe2/Cl2/H2/HCl、Ar2/I2/H2、Kr2/I2/H2、Xe2/I2/H2、Ar2/F2/H2、Kr2/F2/H2或Xe2/F2/H2等气体混合物，充入不同的气体，通电激发产生的紫外光的波段不同。
[0027]第一介质阻挡放电装置3包括内管道31和外管道32，直流池1和处理池2通过内管道31连通，外管道32套设在内管道31外，外管道32与内管道31之间的空间为封闭空间，外管道32的外侧壁上设有金属层33，交流电源的正极和负极分别与金属层33和内管道31内的溶液连接。具体地，交流电源的负极与一电极(未示出)连接，该电极设在内管道31内。第一介质阻挡放电装置3和第二介质阻挡放电装置4可以共用一个交流电源，也可以不共用。
[0028]在本实施例中，外管道32与内管道31之间的封闭空间内充有气体混合物或稀有气体，气体混合物为稀有气体和卤素气体的混合物，或稀有气体、卤素气体和氢气的混合物，或稀有气体、卤素气体、氢气和氯化氢的混合物。外管道32上设有充气孔(未示出)，充气孔被密封件(未示出)密封。通过充气孔可向外管道32与内管道31之间充入Xe2、Kr2、Ar2或He2等稀有气体，或Ar2/Cl2、Kr2/Cl2、Xe2/Cl2、Ar2/I2、Kr2/I2、X本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种脱卤装置，其特征在于：包括直流池、辉光放电装置、处理池、第一介质阻挡放电装置和交流电源；直流池上设有进水口，辉光放电装置的正电极和负电极插设在直流池内；处理池上设有出水口，处理池内设有第二介质阻挡放电装置，第二介质阻挡放电装置包括盒体，盒体内设有封闭气室，封闭气室的外侧壁上设有2个金属电极，封闭气室夹设在2个金属电极之间，2个金属电极分别与交流电源的正极和负极连接；第一介质阻挡放电装置包括内管道和外管道，直流池和处理池通过内管道连通，外管道套设在内管道外，外管道与内管道之间的空间为封闭空间，外管道的外侧壁上设有金属层，金属层和内管道内的溶液分别与交流电源的正极和负极连接；封闭气室、盒体和内管道都可透紫外光。2.如权利要求1所述的脱卤装置，其特征在于：所述内管道和外管道都为圆筒结构，外管道与内管道同轴设置。3.如权利要求1所述的脱卤装置，其特征在于：所述内管道和外管道都采用石英材料制成。4.如权利要求1所述的脱卤装置，其特征在于：所述外管道与内管道之间的封闭空间内充有气体混合物或稀有气体，气体混合物为稀有气体和卤素气体的混合物，或稀有气体、卤素气体和氢气的混合物，或稀有气体、卤素气体、...
【专利技术属性】
技术研发人员：甘嘉铭，邵明丽，王蕾，黄少勇，李婷，赵敏，张义展，
申请(专利权)人：厦门理工学院，
类型：新型
国别省市：
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