蒙砂处理加工系统技术方案

本申请公开了一种蒙砂处理加工系统，包括：蒙砂设备，蒙砂设备包括蒙砂反应槽和搅拌装置，蒙砂反应槽内适于盛放蒙砂药液，搅拌装置设于蒙砂反应槽，且搅拌装置的至少一部分伸入至蒙砂反应槽内以搅拌蒙砂药液。根据本申请实施例的蒙砂处理加工系统，该蒙砂处理加工系统在对工件进行蒙砂处理的过程中，利用搅拌装置对蒙砂反应槽的蒙砂药液进行搅拌，可以使蒙砂粉在蒙砂药液中均匀分布，不会沉积，避免了回流口堵塞、道口堵塞等问题，并且使得加工件的表面蒙砂处理后具有均匀的蒙砂效果，避免出现流痕、异色等缺陷。异色等缺陷。异色等缺陷。

【技术实现步骤摘要】
蒙砂处理加工系统


[0001]本申请涉及工件的蒙砂处理
，尤其是涉及一种蒙砂处理加工系统。

技术介绍

[0002]相关技术中，手机行业玻璃盖板的蒙砂工艺主要是通过水刀线实现，然而在加工蒙砂产品时存在以下问题：由于蒙砂药液是固液混合状态，在水刀线的回流路很容易沉积，堵塞回流口。并且，一旦有异物或杂质吸附在水刀线刀口附近，药水中的聚乙烯吡咯烷酮(PVP)及十二烷基苯磺酸钠(SDS)会选择性的吸附在异物四周并不断成核长大，最终将水刀线的刀口堵塞，形成断流。另外，由于水刀线是将药水变成雾状吸附在玻璃表面，使得化学反应过程中，玻璃表面没有足够的切向力，使得PVP链或SDS分子在成核过程中无法均匀的长大，从而导致异色、流痕比例高。

技术实现思路

[0003]本申请提出一种蒙砂处理加工系统，该蒙砂处理加工系统在对工件进行蒙砂处理的过程中，利用搅拌装置对蒙砂反应槽的蒙砂药液进行搅拌，可以使蒙砂粉在蒙砂药液中均匀分布，不会沉积，避免了回流口堵塞、道口堵塞等问题，并且使得加工件的表面蒙砂处理后具有均匀的蒙砂效果，避免或减少出现流痕、异色等缺陷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒙砂处理加工系统，其特征在于，包括：蒙砂设备，所述蒙砂设备包括蒙砂反应槽和搅拌装置，所述蒙砂反应槽内适于盛放蒙砂药液，所述搅拌装置设于所述蒙砂反应槽，且所述搅拌装置的至少一部分伸入至所述蒙砂反应槽内以搅拌所述蒙砂药液。2.根据权利要求1所述的蒙砂处理加工系统，其特征在于，所述搅拌装置包括：搅拌件，所述搅拌件的至少一部分位于所述蒙砂反应槽内以搅拌所述蒙砂药液；驱动机构，所述驱动机构设在所述蒙砂反应槽上，所述驱动机构与所述搅拌件相连以驱动所述搅拌件运动。3.根据权利要求2所述的蒙砂处理加工系统，其特征在于，所述搅拌件与所述蒙砂反应槽的底壁之间具有间隙。4.根据权利要求3所述的蒙砂处理加工系统，其特征在于，所述搅拌件与所述蒙砂反应槽的底壁之间的所述间隙的范围为1-2mm。5.根据权利要求2所述的蒙砂处理加工系统，其特征在于，所述搅拌件包括：驱动杆，所述驱动杆与所述驱动机构相连；搅拌部，所述搅拌部位于所述蒙砂反应槽内且邻近所述蒙砂反应槽的底部；连接杆，所述连接杆的上端与所述驱动杆相连，所述连接杆的下端与所述搅拌部相连。6.根据权利要求5所述的蒙砂处理加工系统，其特征在于，所述搅拌部包括：框体，所述框体形成为沿着所述蒙砂反应槽的周向延伸的环形；杆体，所述杆体为至少一个，所述杆体设在所述框体的内周侧，且所述杆体的两端与所述框体相连。7.根据权利要求5所述的蒙砂处理加工系统，其特征在于，所述驱动机构设在所述蒙砂反应槽的顶部，所述驱动机构为气缸或液压缸，所述驱动杆的一端与所述驱动机构相连，所述蒙砂反应槽的顶部设有支撑凸耳，所述驱动杆的另一端可活动地穿设于所述支撑凸耳。8.根据权利要求5所述的蒙砂处理加工系统，其特征在于，所述连接杆邻近所述蒙砂反应槽的侧壁设置。9.根据权利要求1所述的蒙砂处理加工系统，其特征在于，所述蒙砂反应槽包括具有中空腔的槽体和设在所述中空腔内的降温层。10.根据权利要求9所述的蒙砂处理加工系统，其特征在于，所述降温层包括换热介质，所述换热介质的至少一部分可流动，所述蒙砂反应槽的外侧壁上形成有与所述中空腔均连通的第一进口和第一出口。11.根据权利要求1所述的蒙砂处理加工系统，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙文峰，邱惊龙，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：