等离子发射光谱法检测金属正畸托槽中有害元素的方法技术

本发明专利技术属于检测方法技术领域，尤其涉及一种等离子发射光谱法检测金属正畸托槽中有害元素的方法。本发明专利技术针对现有技术中检测方法检测精度低，操作不够简便，不能为快速准确测定金属正畸托槽中的有害元素提供技术支撑的问题，提供一种等离子发射光谱法检测金属正畸托槽中有害元素的方法，包括将待测样品加入消解装置，消解液转移至容量瓶中超纯水定容，得到待测定溶液；配置标准溶液；建立得到标准曲线方程；利用等离子发射光谱仪测量待测定溶液，根据标准曲线方程和测得的化学信号强度计算得到待测定溶液中的各种金属元素的质量浓度。本发明专利技术提供的检测方法具有检出限低、精密度好、回收率高、操作简单等特点。操作简单等特点。

【技术实现步骤摘要】
等离子发射光谱法检测金属正畸托槽中有害元素的方法


[0001]本专利技术属于检测方法
，尤其涉及一种等离子发射光谱法检测金属正畸托槽中有害元素的方法。

技术介绍

[0002]在现代口腔正畸治疗过程中广泛使用金属正畸托槽，其一般采用沉淀硬化不锈钢、奥氏体不锈钢和钎焊材料经高温焊接而成，起到矫正牙齿、解除错牙颌畸形等作用，通过治疗实现口颌系统的平衡、稳定和美观的目的。不同牌号不锈钢复合而成的正畸托槽，一般用630不锈钢做成托槽的主体以承载正畸手术中的较大应力，以确保其矫正牙齿的临床功能；而304不锈钢材料一般用来做托槽的网底使得托槽与牙齿之间获得较大的贴合面进而获得较大的粘合力，以确保正畸手术的长期效果。正畸矫形周期一般为两年，在这段时间里，金属正畸托槽与人体口腔密切接触，而口腔始终处于潮湿状态，唾液的成分、浓度及pH值经常改变，稳定的温度又极利于细菌的生长繁殖，从而形成一种特殊而复杂的环境。金属正畸托槽在这样的环境下容易发生多种类型的腐蚀行为，如电偶腐蚀、晶间腐蚀、磨损腐蚀、微生物腐蚀、应力腐蚀等等，从而导致金属离子从金属正畸托槽中溶出。比本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子发射光谱法检测金属正畸托槽中有害元素的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：将待测样品加入消解装置，并加入硝酸和盐酸的混合酸，常温下待样品与酸充分反应至不产生气泡时，利用消解装置进行消解，消解完成后，消解液转移至容量瓶中超纯水定容，得到待测定溶液；步骤二：配置不同浓度的含有单一金属元素的标准溶液，备用；步骤三：针对不同金属元素选取不同特征波长，再利用等离子发射光谱仪分别测量含单一金属元素的标准溶液，记录所产生的化学信号强度；步骤四：以标准溶液中金属元素的质量浓度为横坐标，以步骤三中测得的相应的化学信号强度为纵坐标，建立标准曲线，得到标准曲线方程；步骤五：利用等离子发射光谱仪测量步骤一中的待测定溶液，根据标准曲线方程和测得的化学信号强度计算得到待测定溶液中的各种金属元素的质量浓度。2.如权利要求1所述的等离子发射光谱法检测金属正畸托槽中有害元素的方法，其特征在于：所述金属元素包括铍、镉和铅。3.如权利要求2所述的等离子发射光谱法检测金属正畸托槽中有害元素的方法，其特征在于：所述铍元素的特征波长为313.107nm；所述镉元素的特征波长为214.438nm；所述铅元素的特征波长为220.353nm。4.如权利要求3所述的等离子发射光谱法检测金属正畸托槽中有害元素的方法，其特征在于：所述铍元素的标准曲线方程为：Y
Be
＝
‑
12.195080+32541.4262X
Be
；其中，Y
Be
为铍元素的质量浓度，X
Be
为等离子发射光谱仪测得的铍...

【专利技术属性】
技术研发人员：虞崇庆，戴书龙，王龙浩，张莉，周诗颖，
申请(专利权)人：浙江省医疗器械检验研究院，
类型：发明
国别省市：