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一种基于手性金属薄膜的椭偏太赫兹波辐射源及激发方法技术

技术编号:32434714 阅读:34 留言:0更新日期:2022-02-24 19:06
本发明专利技术公开一种基于手性金属薄膜的椭偏太赫兹波辐射源,包括依次设置的泵浦光源、偏振调节装置以及包含手性结构单元的金属薄膜。泵浦光源通过偏振调节装置实现其偏振态的连续调节,在不同偏振态激光泵浦下产生椭圆偏振的太赫兹波辐射。一方面,本发明专利技术的椭偏太赫兹波辐射源相比传统的辐射源所需的泵浦光源功率更低,安全性更高,且激光损伤阈值高,稳定性好,可多次重复使用。另一方面,金属薄膜与泵浦光源的相互作用强,其电磁响应特征对泵浦光源的灵敏度高,适用于多种波长、不同偏振态的泵浦激光。本发明专利技术的椭偏太赫兹波辐射源太赫兹转换效率高、椭偏率大以及材料激光损伤阈值高,可广泛的应用在太赫兹偏振光谱研究中。可广泛的应用在太赫兹偏振光谱研究中。可广泛的应用在太赫兹偏振光谱研究中。

【技术实现步骤摘要】
一种基于手性金属薄膜的椭偏太赫兹波辐射源及激发方法


[0001]本专利技术属于太赫兹偏振器件
,具体涉及一种基于手性金属薄膜的椭偏太赫兹波辐射源及激发方法。

技术介绍

[0002]太赫兹(terahertz,THz)波是频率处于0.1THz~10THz,波长范围为30μm~3mm的一种电磁波,处于微波与红外波段之间。由于太赫兹波具有低光子能量,对非极性物质的高透过率,频谱包含大量分子振动与转动能级信息等独特的性质,太赫兹光谱在材料科学、生物医学、安全检查等多个领域都呈现出巨大的应用潜力。自20世纪90年代起,利用超快激光泵浦产生太赫兹波辐射的光学方法应运而生。其中采用非线性介质产生光整流效应,在光电导天线上外加静态偏置电场以及基于气体电离产生等离子体等方法都可以产生高强度的太赫兹波辐射。基于这些技术所产生的太赫兹波辐射多为线偏振态,应用于太赫兹光谱中只能测量到一个线偏振电场,对于具有偏振响应的体系而言,难以获得完整的电磁响应光谱信息。因此,椭偏型太赫兹波辐射源是利用太赫兹偏振光谱研究偏振转换电磁响应的核心部件。
>[0003]目前,本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于手性金属薄膜的椭偏太赫兹波辐射源,包括依次设置的泵浦光源(1)与偏振调节装置(2),其特征在于,所述椭偏太赫兹波辐射源还包含手性结构单元的金属薄膜(3),所述泵浦光源(1)通过偏振调节装置(2)实现连续调节泵浦光源的偏振态,在不同偏振态的泵浦光源激发下,通过具有手性结构特征的金属薄膜(3)产生椭圆偏振的太赫兹波辐射。2.如权利要求1所述的一种基于手性金属薄膜的椭偏太赫兹波辐射源,所述椭偏太赫兹波辐射源还包括基底(4),所述包含手性结构单元的金属薄膜(3)铺设于所述基底(4)上,所述基底(4)材料为蓝宝石或石英,厚度为0.5mm~1.5mm,平面尺寸为1
×
1cm2~2
×
2cm2。3.如权利要求1所述的一种基于手性金属薄膜的椭偏太赫兹波辐射源,其特征在于,所述金属薄膜的厚度为10nm~100nm;平面尺寸为0.8
×
0.8cm2~1.5
×
1.5cm2,手性结构单元的图样与其镜面对称的图样不重合,所述手性结构单元包括多个手性结构体,多个手性结构的呈阵列式排布,所述手性结构体的尺寸为10
×
10μm2~100
×
100μm2。4.如权利要求3所述的一种基于手性金属薄膜的椭偏太赫兹波辐射源,其特征在于,所述手性结构体为“G”型开口螺旋,所述“G”型开口...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄媛媛徐新龙刘昌吉周译玄王欢王静
申请(专利权)人:西北大学
类型:发明
国别省市:

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