【技术实现步骤摘要】
热处理炉
[0001]本说明书中公开的技术涉及对被处理物实施热处理的热处理炉。
技术介绍
[0002]在专利文献1所公开的热处理炉中,将作为被处理物的薄膜体从输入口经过处理室而架设至输出口。将薄膜体从输入口向处理室内输入,在处理室内进行输送,并从输出口输出。薄膜体通过配置在处理室内的加热装置而被加热,薄膜体所含有的水分(水以及/或者溶剂)在处理室内被输送的期间被除去。为了将水分从薄膜体中有效地除去,需要将从薄膜体中除去的水分迅速地排出到炉外。因此,在专利文献1的热处理炉中,通过供气装置而将气体供给于处理室内,再通过排气装置而将处理室内的气体排出去。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1:国际公开2014/163175号
[0006]在上述的热处理炉中,作为被处理物的薄膜体在处理室内通过由多个导向辊规定的复杂的输送路径,从输入口被架设到输出口。由此就会产生下述的问题,即:处理室内的气体的气流会受到所架设的薄膜体的影响,而阻碍处理室内的气体的排出,由此降低从薄膜体 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种热处理炉,其特征在于,具备:炉体,该炉体具备输入口、输出口、以及配置在所述输入口与所述输出口之间的处理室;输送装置,该输送装置将从所述输入口架设至所述输出口的被处理物从所述输入口经过所述处理室而向所述输出口输送;多个导向辊,该多个导向辊配置于所述处理室内,用于对通过所述输送装置而被输送的所述被处理物进行引导;加热装置,该加热装置配置于所述处理室内,用于对通过所述输送装置而被输送的所述被处理物进行加热;供气装置,该供气装置用于向所述处理室供给气体;以及排气装置,该排气装置用于将所述处理室内的所述气体予以排出,所述被处理物是从所述输入口架设至所述输出口的薄膜体,所述炉体具备:位于所述薄膜体的表面侧的第一壁、以及位于所述薄膜体的背面侧而与第一壁相对置的第二壁,所述排气装置具备:设置在所述第一壁且将所述处理室内的所述气体予以排出的1个或多个第一排气口、以及设置在所述第二壁且将所述处理室内的所述气体予以排出的1个或多个第二排气口。2.根据权利要求1所述的热处理炉,其特征在于,在所述多个第一排气口的各排气口连接有第一排气流路,在各个所述第1排气流路上分别设置有流量调整阀,在所述多个第二排气口的各排气口连接有第二排气流路,在各个所述第二排气流路上分别设置有流量调整阀。3.根据权利要求1或2所述的热处理炉,其特征在于,所述多个导向辊具备:1个或多个第一导向辊,其在将所述输入口和所述输出口连结起来的第一方向上空开间隔地被配置在从所述处理室的中心观察时位于所述第一壁侧的位置;以及1个或多个第二导向辊,其在第一方向上空开间隔地被配置在从处理室的中心观察时位于第二壁侧的位置,所述被处理物交替地架设在所述第一导向辊和所述第二导向辊,所述第一排气口的所述第一方向的位置是邻接的所述第一导...
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