本实用新型专利技术涉及的去胶液用混合搅拌装置，包括搅拌腔、搅拌结构、若干个配料结构和若干个临时存储结构，临时存储结构与配料结构一一对应，配料结构包括输送管、输送调节阀和连接在输送管上的输送泵，输送泵的进液口连接有用于存储原料的存储罐，输送调节阀连接在输送管上，临时存储结构包括计量罐、送料管、回流管和回流泵，送料管连接连接在计量罐的底部，送料管与搅拌腔连通，能够通过配料结构和临时存储结构的配合，首先通过配料结构对去胶液所使用的各种原料速配比，在配比完成后，将原料输送到搅拌腔中，然后通过搅拌结构连续对去胶液进行搅拌生产，搅拌效率高。搅拌效率高。搅拌效率高。
【技术实现步骤摘要】
一种去胶液用混合搅拌装置
[0001]本技术涉及了管道加工领域，具体的是一种去胶液用混合搅拌装置。
技术介绍
[0002]在半导体器件生产过程中，光刻是必不可少的一个重要环节，光刻是感光复印图像和选择性化学腐蚀相结合的综合技术。光刻工艺主要包括涂胶、曝光、显影、腐蚀和去胶等步骤，光刻结果的好坏与工艺过程中每一个步骤有关。涂胶是将光致抗蚀剂(即光刻胶，本申请通称光刻胶)涂在硅片表面，然后曝光；对于负性光刻胶来说，其曝光前是可溶性的，见光后发生光化学反应形成不溶性的高分子物质；经显影、腐蚀之后，光刻胶完成了保护基片上某些部分不被腐蚀的任务，就要被清除掉，即去胶，如果这层光刻胶去除不干净将直接影响硅平面器件和集成电路的成品率及产品质量。
[0003]化学去胶液大多是多种物质混合而成的溶液，现有技术中大多将原料直接倒入至搅拌釜内部，然后进行混合，这种方式不适于连续性生产，并且制得的化学去胶液质量得不到保障。
技术实现思路
[0004]为了克服现有技术中的至少部分缺陷，本技术实施例提供了一种去胶液用混合搅拌装置，能够方便对各种原料进行快速配比，在配比完成后，将原料输送到搅拌腔中，然后通过搅拌结构连续对去胶液进行搅拌生产，搅拌效率高。
[0005]本申请实施例公开了：一种去胶液用混合搅拌装置，包括搅拌腔、搅拌结构、若干个配料结构和若干个临时存储结构，所述临时存储结构与所述配料结构一一对应，所述配料结构包括输送管、输送调节阀和连接在所述输送管上的输送泵，所述输送泵的进液口连接有用于存储原料的存储罐，所述输送调节阀连接在所述输送管上，所述临时存储结构包括计量罐、送料管、回流管和回流泵，所述送料管连接连接在所述计量罐的底部，所述送料管与所述搅拌腔连通，所述回流管连接在所述计量罐的侧面，所述回流泵的进液口与所述计量罐连接，所述回流泵的出液口连接对应的存储罐，每个所述计量罐中均设置有液位传感器，所述液位传感器连接有控制器，所述输送泵和所述输送调节阀分别与所述控制器连接，所述送料管上连接有送料阀，所述送料阀与所述控制器信号连接。
[0006]进一步地，所述搅拌腔上端具有盖体，在所述盖体上开设有进料口，所述进料口与所述搅拌腔连通，所述送料管连接在所述进料口上。
[0007]进一步地，所述搅拌结构包括搅拌电机、减速装置、输出轴和连接在所述输出轴上的搅拌杆，所述搅拌电机和所述减速装置均连接在所述盖体的上表面，所述搅拌电机与所述减速装置传动连接，所述输出轴连接在所述减速装置上。
[0008]进一步地，每个所述送料管上均连接有预热装置，所述预热装置连接有支撑架，所述支撑架连接在所述搅拌腔上，所述送料管穿过所述预热装置。
[0009]进一步地，所述临时存储结构还包括存储支撑架，所述计量罐和所述回流泵均连
23和连接在所述输出轴23上的搅拌杆24，所述搅拌电机21和所述减速装置22均连接在所述盖体11的上表面，所述搅拌电机21与所述减速装置22传动连接，所述输出轴23连接在所述减速装置22上。
[0020]参照图1，在上述实施例中，每个所述送料管42上均连接有预热装置6，所述预热装置 6连接有支撑架(未图示)，所述支撑架连接在所述搅拌腔1上，所述送料管42穿过所述预热装置6。在实际实施过程中预热装置为管道式加热器。通过管道式加热器能够对经过送料管42的原料进行预热，使得原料在搅拌之前加热到指定的温度。
[0021]参照图1，在上述实施例中，所述临时存储结构4还包括存储支撑架7，所述计量罐41 和所述回流泵44均连接在所述存储支撑架7的上表面上，所述存储支撑架7底部连接有支撑座8。
[0022]参照图1，在上述实施例中，所述存储罐34连接在所述支撑座8上，所述支撑座8的底部连接有带刹车机构的万向轮81。所述搅拌腔1的两侧均连接在支撑座8上。
[0023]参照图1，在上述实施例中，所述搅拌腔1底部开设有用于排出搅拌完成的去胶液的去胶液出液口13，所述去胶液出液口13连接有出液阀14，所述出液阀14通过出液管(未图示)连接有去胶液存储罐15。
[0024]本技术的有益效果如下：本技术涉及的去胶液用混合搅拌装置，包括搅拌腔1、搅拌结构2、若干个配料结构3和若干个临时存储结构4，临时存储结构4与配料结构3一一对应，配料结构3包括输送管31、输送调节阀32和连接在输送管31上的输送泵33，输送泵33的进液口连接有用于存储原料的存储罐34，输送调节阀32连接在输送管31上，临时存储结构4包括计量罐41、送料管42、回流管43和回流泵44，送料管42连接连接在计量罐41的底部，送料管42与搅拌腔1连通，回流管43连接在计量罐41的侧面，回流泵44 的进液口与计量罐41连接，回流泵44的出液口连接对应的存储罐34，每个计量罐41中均设置有液位传感器(未图示)，液位传感器连接有控制器5，输送泵33和输送调节阀32分别与控制器5连接，送料管42上连接有送料阀421，送料阀421与控制器5信号连接，首先通过配料结构3对去胶液所使用的各种原料速配比，在配比完成后，将原料输送到搅拌腔1 中，然后通过搅拌结构2连续对去胶液进行搅拌生产，搅拌效率高。
[0025]本技术中应用了具体实施例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种去胶液用混合搅拌装置，其特征在于：包括搅拌腔、搅拌结构、若干个配料结构和若干个临时存储结构，所述临时存储结构与所述配料结构一一对应，所述配料结构包括输送管、输送调节阀和连接在所述输送管上的输送泵，所述输送泵的进液口连接有用于存储原料的存储罐，所述输送调节阀连接在所述输送管上，所述临时存储结构包括计量罐、送料管、回流管和回流泵，所述送料管连接连接在所述计量罐的底部，所述送料管与所述搅拌腔连通，所述回流管连接在所述计量罐的侧面，所述回流泵的进液口与所述计量罐连接，所述回流泵的出液口连接对应的存储罐，每个所述计量罐中均设置有液位传感器，所述液位传感器连接有控制器，所述输送泵和所述输送调节阀分别与所述控制器连接，所述送料管上连接有送料阀，所述送料阀与所述控制器信号连接。2.根据权利要求1所述的去胶液用混合搅拌装置，其特征在于：所述搅拌腔上端具有盖体，在所述盖体上开设有进料口，所述进料口与所述搅拌腔连通，所述送料管连接在所述进料口上。3.根据权利要求2所述的去胶液用混合搅拌装置，其特征在于：所述搅拌结构包括搅拌电机、减速装...
【专利技术属性】
技术研发人员：邵暾，
申请(专利权)人：苏州费米苏路兴电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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