一种含氟废水处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种含氟废水处理装置，其降低了药剂投加量，降低了药剂成本，其包括废水收集池，废水收集池包括含氟废水收集池、磷酸废水收集池、硫酸废水收集池、其他酸碱废水收集池，含氟废水收集池后端顺次连接调节池及废水处理系统，其还包括RO浓缩系统，RO浓缩系统的进水口和浓水出口分别连接所述含氟废水收集池、调节池，RO浓缩系统的产水出口连接回用水箱，调节池内部设有氢氧化钙加药系统，反应池中设有氯化钙加药系统。反应池中设有氯化钙加药系统。反应池中设有氯化钙加药系统。

【技术实现步骤摘要】
一种含氟废水处理装置


[0001]本技术涉及废水处理装置
，具体为一种含氟废水处理装置。

技术介绍

[0002]半导体生产工艺过程中会产生低浓度含氟废水，含氟废水在整个废水排放体系中占有较大比例。目前处理低浓度含氟废水的方法广泛采用化学沉淀法，即向含氟废水中投加氯化钙，通过生成氟化钙沉淀进而除去废水中的氟离子。但化学沉淀法除氟存在以下缺点：半导体行业通常将硫酸清洗水、磷酸清洗水等废水与氢氟酸清洗水进行混合处理，所以含氟废水中含有硫酸根、磷酸根等离子，当进水氟离子浓度较低时，会增大钙盐的投加量（根据氟化钙的Ksp=5.3
×
10
‑9，氢氟酸的Ka=3.6
×
10
‑4，可计算出氯化钙的实际加药量，如图1所示），导致了药剂成本的增加。
[0003]中国专利技术专利CN 102050531 B含氟废水处理方法，通过采用pH调节+一级加钙+混凝剂+絮凝剂等工艺对含氟废水进行处理。该工艺使用氟离子分析仪代替测量精度低的氟电极，精准控制氯化钙用量，在一定程度上减少了氯化钙的投加量，但该工艺本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含氟废水处理装置，其包括废水收集池，其特征在于：所述废水收集池包括含氟废水收集池、磷酸废水收集池、硫酸废水收集池、其他酸碱废水收集池，所述含氟废水收集池后端顺次连接调节池、反应池、混凝池、絮凝池、沉淀池和放流池，其还包括RO浓缩系统，所述RO浓缩系统的进水口和浓水出口分别连接所述含氟废水收集池、所述调节池，所述RO浓缩系统的产水出口连接回用水箱，所述调节池内部设有氢氧化钙加药系统，所述反应池中设...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗嘉豪，廖翔，熊江磊，高亚光，刘佳，
申请(专利权)人：中国电子系统工程第二建设有限公司，
类型：新型
国别省市：