一种氯霉素双重分子印迹膜电化学传感器的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种氯霉素双重分子印迹膜电化学传感器的制备方法，本发明专利技术以氯霉素为模板分子、N

【技术实现步骤摘要】
一种氯霉素双重分子印迹膜电化学传感器的制备方法


[0001]本专利技术涉及电化学传感器领域，具体为一种氯霉素双重分子印迹膜电化学传感器的制备方法。

技术介绍

[0002]氯霉素曾是治疗细菌感染的特效药，在进行临床治疗时，只用于流感菌感染、链球菌感染，并且对青霉素有过敏反应的病患有较好的治疗作用。也能够治疗伤寒、副伤寒等引起的各类感染。但后来的研究发现其对于人类的造血系统会有明显的副作用，比如，使机体出现粒状白细胞缺失、髓质疏松以及再生障碍性贫血等多种疾病。特别是老年人、新生儿，影响非常大。
[0003]目前对于氯霉素的检测方法主要以高效液相色谱法(HPLC)结合紫外(UV)的检测方法为主。但这些方法中因为氯霉素类似物具有相同的发色基团，往往特异性不高，在一些研究中对于其代谢产物及本身的稳定性的无法给出准确的判断，因此开发一些特异性好、灵敏度高的检测方法十分必要。
[0004]电化学分析方法中分子印迹技术由于其制作简单、特异性好、可重复使用、成本低已经成功地用于氯霉素的分子印迹电化学传感器中。分子印迹技术是指将模板分子与一定的功能本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氯霉素双重分子印迹膜电化学传感器的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1)将氯霉素和N
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(4
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戊烯酰)异亮氨酰
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壳寡糖加入由体积比为1/2～2/1的DMF和H2O组成的混合溶剂中，室温超声溶解，然后再加入交联剂和引发剂，静置5～24h后，用氮气除去溶解氧，取得混合液；2)将混合液滴到洁净的玻碳电极表面，然后再覆盖干净的盖玻片，置于55～75℃烘箱中加热5～20h，除去盖玻片后在玻碳电极表面形成一层透明的初级聚合物膜；3)在2mL含有5～30mM吡咯和饱和量的氯霉素的0.1～0.5M电解质溶液中进行的，采用三电极体系，以初级聚合物膜电极为工作电极，铂丝电极为对照电极，饱和甘汞电极为参比电极，电位范围为0～1.2V，扫描速率为5～20mVs
‑1，循环伏安法扫描4～10圈，得到二次聚合的...

【专利技术属性】
技术研发人员：高庆，陈凯，陈秀清，张培培，姜晔，马金龙，
申请(专利权)人：扬州工业职业技术学院，
类型：发明
国别省市：