彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制作方法；其中，彩膜基板包括：玻璃基板和设置在玻璃基板上的黑色矩阵；玻璃基板的有效显示区域的黑色矩阵包括多个环状的框体单元；每个框体单元包括依次层叠的至少两层黑色膜层，黑色膜层的环宽与黑色膜层相距玻璃基板的距离程负相关。本发明专利技术的彩膜基板降低了黑色矩阵中框体单元边缘的Tape角，从而可有效提高采用该彩膜基板的产品对比度。从而可有效提高采用该彩膜基板的产品对比度。从而可有效提高采用该彩膜基板的产品对比度。

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制作方法


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制作方法。

技术介绍

[0002]目前已进入到视频时代，薄膜晶体管液晶显示面板具有体积小、功耗低、无辐射等优点，可以更好满足人们对显示器的要求。特别是随着第五代通信技术的成熟及商用普及，显示行业更高品质的4K、8K画质得以成为可能，同时随着各种直播场景应用的需求提升，大尺寸、高画质成了主流需求。提升显示面板的对比度是提高显示面板画质的关键之一。在现有的解决方案中，可通过降低显示面板的黑态亮度，也即降低灰阶L0(灰阶等级为0时)状态下的亮度来提升产品的对比度；可通过增加黑矩阵的厚度来降低黑态亮度，但过厚的黑色矩阵会导致彩膜基板在Rubbing工艺(一种摩擦工艺)中很容易形成Rubbing弱区，从而使产品对比度难以有效提高。

技术实现思路

[0003]本申请实施例通过提供一种彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制作方法，降低了黑色矩阵中框体单元边缘的Tape角，从而可有效提高采用该彩膜基板的产品对比度。
[0004]第一方面，本申请通过本申请的一实施例提供如下技术方案：
[0005]一种彩膜基板，包括：
[0006]玻璃基板和设置在所述玻璃基板上的黑色矩阵；所述玻璃基板的有效显示区域的黑色矩阵包括多个环状的框体单元；每个所述框体单元包括依次层叠的至少两层黑色膜层，所述黑色膜层的环宽与所述黑色膜层相距所述玻璃基板的距离程负相关。
[0007]可选的，所述黑色矩阵的有效显示区域部分的最大厚度为2um～6um。
[0008]可选的，所述有效显示区域的黑色矩阵与所述玻璃基板之间形成的Tape角不大于50
°
。
[0009]可选的，还包括色阻单元，所述色阻单元设置在所述框体单元内；每个所述框体单元的任一边缘均具有遮挡区；所述遮挡区用于遮挡所述色阻单元边缘对应的电场紊乱区。
[0010]可选的，所述遮挡区的宽度为所述电场紊乱区的宽度与生产工艺的对位偏差之和。
[0011]可选的，所述遮挡区的宽度为4um～12um。
[0012]可选的，所述遮挡区的厚度为1um～2um。
[0013]可选的，所述黑色膜层的层数为2、3或4。
[0014]第二方面，基于同一专利技术构思，本申请通过本申请的一实施例，提供如下技术方案：
[0015]一种彩膜基板的制作方法，所述方法用于制作上述第一方面中任一所述的彩膜基
板，所述方法包括：
[0016]提供玻璃基板；在所述玻璃基板上形成黑色矩阵；其中，所述玻璃基板的有效显示区域包括多个环状的框体单元；每个所述框体单元包括依次层叠的至少两层黑色膜层，所述黑色膜层的环宽与所述黑色膜层相距所述玻璃基板的距离程负相关。
[0017]可选的，所述在所述玻璃基板上形成黑色矩阵，包括：
[0018]在所述玻璃基板上涂布黑色矩阵材料；在所述黑色矩阵材料上形成图形化掩膜；所述图形化掩膜包括多个图形单元，每个图形单元边缘的透明度程阶梯增加，每个所述图形单元与所述黑色矩阵的一个框体单元对应；对形成有所述图形化掩膜的所述黑色矩阵材料进行曝光显影，形成所述黑色矩阵。
[0019]第三方面，基于同一专利技术构思，本申请通过本申请的一实施例，提供如下技术方案：
[0020]一种显示面板，包括：阵列基板和上述第一方面中任一所述的彩膜基板；所述彩膜基板上具有黑色矩阵的一侧覆盖在所述阵列基板上。
[0021]第四方面，基于同一专利技术构思，本申请通过本申请的一实施例，提供如下技术方案：
[0022]一种显示装置，其特征在于，包括：上述第三方面中所述的显示面板。
[0023]本专利技术实施例中提供的彩膜基板、显示面板、显示装置及彩膜基板的制作方法至少具备如下技术效果：
[0024]在彩膜基板中，黑色矩阵中的框体单元的边缘宽度由靠近玻璃基板向远离玻璃基板逐层减小，形成阶梯状设计，降低了黑色矩阵中框体单元边缘的Tape角；可有效避免或抑制Rubbing工序过程中产生Rubbing弱区，从而在黑色矩阵的厚度增加后能够显著的提高使用该彩膜基板的产品的对比度；同时，也抑制了Rubbing工序过程产生划伤、异物等不良。
附图说明
[0025]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0026]图1为本专利技术实施例中示出的Rubbing工序过程产生弱区的原理示意图；
[0027]图2为本专利技术实施例中黑色矩阵的结构示意图；
[0028]图3为本专利技术实施例中提供的彩膜基板的部分(图2中N位置的截面)结构示意图；
[0029]图4为本专利技术实施例中示出的框体单元上的遮挡区结构示意图；
[0030]图5为本专利技术实施例中示出的电场紊乱区的位置示意图；
[0031]图6为本专利技术实施例中像素电极对应产生的电场紊乱区的原理示意图；
[0032]图7为本专利技术实施例中模拟框体单元边缘宽度增加后对比度、灰阶L0及灰阶L255的变化趋势示意图；
[0033]图8为本专利技术实施例中提供的彩膜基板的制作方法的流程示意图；
[0034]图9为本专利技术实施例中提供的一种显示面板的部分结构示意图。
具体实施方式
[0035]以下，将参照附图来描述本公开的实施例。但是应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本公开的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本公开的概念。
[0036]在附图中示出了根据本公开实施例的各种结构示意图。这些图并非是按比例绘制的，其中为了清楚表达的目的，放大了某些细节，并且可能省略了某些细节。图中所示出的各种区域、层的形状以及它们之间的相对大小、位置关系仅是示例性的，实际中可能由于制造公差或技术限制而有所偏差，并且本领域技术人员根据实际所需可以另外设计具有不同形状、大小、相对位置的区域/层。
[0037]在本公开的上下文中，当将一层/元件称作位于另一层/元件“上”时，该层/元件可以直接位于该另一层/元件上，或者它们之间可以存在居中层/元件。另外，如果在一种朝向中一层/元件位于另一层/元件“上”，那么当调转朝向时，该层/元件可以位于该另一层/元件“下”。
[0038]请参阅图1，为了降低显示面板在灰阶L0状态时的亮度值，可采用增加彩膜基板上黑色矩阵1厚度的方式实现；但是黑色矩阵1的厚度增加，在Rubbing工艺的辊轮2处理后，往往在黑色矩阵1的框体单元边缘形成Rubbing弱区A，或使Rubbing弱区A增加，如图1所示，液晶3在Rubbing弱区A难以得到有效的控制，从而难以达到提高对比度的效果。因此，在本实施例中提供了一种彩膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：玻璃基板和设置在所述玻璃基板上的黑色矩阵；所述玻璃基板的有效显示区域的黑色矩阵包括多个环状的框体单元；每个所述框体单元包括依次层叠的至少两层黑色膜层，所述黑色膜层的环宽与所述黑色膜层相距所述玻璃基板的距离程负相关。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵的有效显示区域部分的最大厚度为2um～6um。3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述有效显示区域的黑色矩阵与所述玻璃基板之间形成的Tape角不大于50
°
。4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括色阻单元，所述色阻单元设置在所述框体单元内；每个所述框体单元的任一边缘均具有遮挡区；所述遮挡区用于遮挡所述色阻单元边缘对应的电场紊乱区。5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮挡区的宽度为所述电场紊乱区的宽度与生产工艺的对位偏差之和。6.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮挡区的宽度为4um～12um。7.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮挡区的厚度为1um～2um。8.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：王凯，胡虹玲，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：