顶发射型显示器件及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种顶发射型显示器件，包括：具有TFT驱动阵列的基板；平坦化层，设置在所述基板上方，所述平坦化层包括褶皱结构单元，所述褶皱结构单元包括多个随机分布且形状不同的凹部和分别连接两个相邻凹部的多个连接部；以及有机电致发光装置，设置在所述褶皱结构单元上方。本发明专利技术还涉及一种顶发射型显示器件的制备方法。制备方法。制备方法。

【技术实现步骤摘要】
顶发射型显示器件及其制备方法


[0001]本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种顶发射型显示器件及其制备方法。

技术介绍

[0002]目前AMOLED(有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体)显示屏已大规模应用于手机显示，但由于应用的主流OLED为基于微腔调节的顶发射型器件，其亮度在视角方向具有很强的角度依赖性。在显示领域，某一视角下红绿蓝三色器件的视角衰减容易造成不匹配的状况，从而造成合成光在该视角下与垂直方向出现色差，影响显示效果。
[0003]现有技术中改善视角的主要方式为通过阴极厚度、CPL材料及厚度调控实现，但红绿蓝三基色的最优视角条件往往不一致，这增大了视角改善的难度，无法满足实际应用需求的宽角度的视角表现。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要提供一种顶发射型显示器件及其制备方法，可以削弱器件微腔效应所导致的角度依赖问题，实现宽角度的视角表现。
[0005]本专利技术一个方面，提供一种顶发射型显示器件，包括：
[0006]具有TFT驱动阵列的基板；
>[0007]平坦化本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种顶发射型显示器件，其特征在于，包括：具有TFT驱动阵列的基板；平坦化层，设置在所述基板上方，所述平坦化层包括褶皱结构单元，所述褶皱结构单元包括多个随机分布且形状不同的凹部和分别连接两个相邻凹部的多个连接部；以及有机电致发光装置，设置在所述褶皱结构单元上方。2.根据权利要求1所述的顶发射型显示器件，其特征在于，所述多个凹部的平均宽度为180nm～215nm。3.根据权利要求1所述的顶发射型显示器件，其特征在于，所述多个凹部的平均深度为70nm～90nm。4.根据权利要求1所述的顶发射型显示器件，其特征在于，所述多个凹部的平均深宽比为0.35～0.43。5.根据权利要求1所述的顶发射型显示器件，其特征在于，所述褶皱结构单元的材料为有机胶，所述有机胶选自PDMS、亚克力、聚酰亚胺、光刻胶中的一种或多种。6.一种顶发射型显示器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：提供具有TFT驱动阵列的基板；在所述基...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴婷婷，
申请(专利权)人：广东聚华印刷显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：