一种自动密封的反应炉制造技术

本申请公开了一种自动密封的反应炉，属于半导体材料制备技术领域。该反应炉包括炉体和炉体下盖，所述炉体下盖密封盖合所述炉体底部的进料口；升降机构，所述升降机构用于支撑炉体下盖，所述升降机构上升或下降以带动所述炉体下盖上升或下降；密封机构，所述密封机构包括设置在炉体下方的锁紧压轮，所述升降机构上升以带动所述炉体下盖上升至与炉体密封位置，所述锁紧压轮与所述炉体下盖下端面接触，以推动所述炉体下盖和所述炉体密封。该反应炉结构简单，可自动化进行装卸，提高工作效率，可用于大规模自动化生产半导体材料。大规模自动化生产半导体材料。大规模自动化生产半导体材料。

【技术实现步骤摘要】
一种自动密封的反应炉


[0001]本申请涉及一种自动密封的反应炉，属于半导体材料制备


技术介绍

[0002]半导体材料在集成电路、通信技术、光伏发电等
均得到广泛应用。目前半导体的制备均为单炉台独立作业，装卸工作全靠人工实现。人工装卸效率低，难以保证装卸工作的统一性，另外，由于每炉次生长周期短，经常需要开启或关闭反应炉，人工装卸耗费时间长，上述原因均限制了半导体材料的大规模自动化生产。要想大规模生产，只有突破现有瓶颈实现自动化作业，才能实现高效收益。

技术实现思路

[0003]为了解决上述问题，本申请提出了一种自动密封的反应炉，该反应炉使用升降机构将炉体下盖上升至与炉体的密封位置，并在炉体下方设置锁紧压轮，通过锁紧压轮的推动炉体下盖与炉体接触并实现密封，该反应炉结构简单，可自动化进行装卸，提高工作效率，可用于大规模自动化生产半导体材料。
[0004]根据本申请的一个方面，提供了一种自动密封的反应炉，该反应炉包括：
[0005]炉体和炉体下盖，所述炉体下盖密封盖合所述炉体底部的进料口；
[0006]升降机构，所述升降机构用于支撑炉体下盖，所述升降机构上升或下降以带动所述炉体下盖上升或下降；
[0007]密封机构，所述密封机构包括设置在炉体下方的锁紧压轮，所述升降机构上升以带动所述炉体下盖上升至与炉体密封位置，所述锁紧压轮与所述炉体下盖下端面接触，以推动所述炉体下盖和所述炉体密封。
[0008]可选地，所述锁紧压轮能够伸缩，所述炉体下盖上升至与所述炉体密封位置，所述锁紧压轮伸出以使得所述炉体下盖和所述炉体密封。
[0009]可选地，还包括设置在炉体下方的锁紧转环，所述锁紧压轮设置所述锁紧转环内侧壁上，所述炉体下盖的外周设置有缺口，所述炉体下盖上升，所述锁紧压轮穿过所述缺口，所述锁紧转环旋转带动所述锁紧压轮旋转至与所述炉体下盖的下端面接触，以推动所述炉体下盖与所述炉体密封。
[0010]可选地，所述缺口的侧面倾斜设置，所述缺口的径向横截面积自所述炉体下盖的上端面向下逐渐增大。
[0011]可选地，所述锁紧压轮通过转轴设置在所述锁紧转环的内侧壁上，所述锁紧转环旋转过程中，所述锁紧压轮接触所述缺口的倾斜侧面并进行自转。所述锁紧压轮自转的同时给下盖施加一个向上的推力，使下盖相对于炉体进一步上移密封。
[0012]可选地，所述缺口至少为两个，且均匀设置在所述炉体下盖的外周，每个所述缺口均对应设置一个锁紧压轮。
[0013]可选地，所述密封机构还包括锁紧压板，所述锁紧压板设置在所述锁紧转环的下
方，所述锁紧压板用于支撑所述锁紧转环。
[0014]可选地，还包括第一感应单元和第二感应单元；
[0015]所述第一感应单元用于感应所述炉体下盖与所述炉体之间的距离，所述第二感应单元用于感应所述锁紧压轮是否与所述炉体下盖的下端面接触。
[0016]可选地，所述炉体下盖设置有定位销；
[0017]所述升降机构为升降台，所述升降台上设置有与所述定位销配合的定位通孔，所述升降机构通过所述定位通孔与所述定位销配合，以带动所述炉体下盖上升或下降。
[0018]可选地，还包括支撑架，所述支撑架上设置有滑轨，所述升降台设置在所述滑轨上，并沿所述滑轨上升或下降。
[0019]可选地，还包括旋转电机，所述旋转电机用于驱动所述锁紧转环转动。
[0020]本申请能产生的有益效果包括但不限于：
[0021]1.本申请所提供的自动密封的反应炉，该反应炉结构简单、操作方便，无需人工操作即可自动化进行装卸，可降低操作人员劳动强度、提高工作效率和半导体产业的自动化生产能力。
[0022]2.本申请所提供的自动密封的反应炉，缺口的侧面倾斜设置，锁紧压轮在密封过程中推动炉体下盖再次上升一定的距离，该上升的距离能够压缩炉体与炉体下盖密封位置的密封垫，以实现对炉体下盖和炉体之间的密封。
[0023]3.本申请所提供的自动密封的反应炉，第一感应单元、第二感应单元和旋转电机的配合，可进一步提高该反应炉装卸的自动化程度，减少人工操作，同时提高装卸的精度，确保反应炉装配的统一性。
[0024]4.本申请所提供的自动密封的反应炉，升降台的定位通孔与炉体下盖的定位销配合，可对炉体下盖进行定位，提高了炉体下盖的定位精度，避免炉体下盖在上升过程中的偏移，同时确定在下盖缺口位置，保证下盖在升降过程中，锁紧压轮顺利通过下盖缺口，进一步提高炉体与炉体下盖的密封性。
附图说明
[0025]此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：
[0026]图1为本申请实施例涉及的自动密封的反应炉的立体示意图；
[0027]图2为本申请实施例涉及的升降机构和密封机构的配合示意图；
[0028]图3为本申请实施例涉及的密封机构的分解示意图；
[0029]图4为本申请实施例涉及的炉体下盖的立体示意图；
[0030]部件和附图标记列表：
[0031]10、转运托盘；20、炉体下盖；201、缺口；21、炉体；22、定位销；23、定位柱；24、定位锥；25、反应器；26、支撑柱；30、运输机构；40、支撑架；41、升降台；42、滑轨；50、锁紧转环；51、锁紧压轮；52、转轴；53、锁紧压板；54、第一感应单元；55、第二感应单元；56、第三感应单元；57、旋转电机。
具体实施方式
[0032]为了更清楚的阐释本申请的整体构思，下面结合说明书附图以示例的方式进行详细说明。
[0033]为了能够更清楚地理解本申请的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本申请进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0034]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请，但是，本申请还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本申请的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。
[0035]另外，在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
[0036]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0037]在本申请中，除非另有明本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自动密封的反应炉，其特征在于，包括：炉体和炉体下盖，所述炉体下盖密封盖合所述炉体底部的进料口；升降机构，所述升降机构用于支撑炉体下盖，所述升降机构上升或下降以带动所述炉体下盖上升或下降；密封机构，所述密封机构包括设置在炉体下方的锁紧压轮，所述升降机构上升以带动所述炉体下盖上升至与炉体密封位置，所述锁紧压轮与所述炉体下盖下端面接触，以推动所述炉体下盖和所述炉体密封。2.根据权利要求1所述的自动密封的反应炉，其特征在于，所述锁紧压轮能够伸缩，所述炉体下盖上升至与所述炉体密封位置，所述锁紧压轮伸出以使得所述炉体下盖和所述炉体密封；和/或还包括设置在炉体下方的锁紧转环，所述锁紧压轮设置所述锁紧转环内侧壁上，所述炉体下盖的外周设置有缺口，所述炉体下盖上升，所述锁紧压轮穿过所述缺口，所述锁紧转环旋转带动所述锁紧压轮旋转至与所述炉体下盖的下端面接触，以推动所述炉体下盖与所述炉体密封。3.根据权利要求2所述的自动密封的反应炉，其特征在于，所述缺口的侧面倾斜设置，所述缺口的径向横截面积自所述炉体下盖的上端面向下逐渐增大。4.根据权利要求3所述的自动密封的反应炉，其特征在于，所述锁紧压轮通过转轴设置在所述锁紧转环的内侧壁上，所述锁紧转环旋转过程中，所述锁紧压轮接触所述缺口的倾斜侧面并进行自转。5.根据权利要求4所述的自动密...

【专利技术属性】
技术研发人员：张健，庞茂鑫，程望，陈一栋，李桂凯，
申请(专利权)人：山东天岳先进科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：