坩埚结构、真空腔体以及真空镀膜机制造技术

本申请涉及一种坩埚结构、真空腔体以及真空镀膜机，所述坩埚结构，包括坩埚本体，所述坩埚本体上开设有承载镀膜材料的载物区，所述载物区包括若干个穴形坩埚的穴位孔以及至少一段环形坩埚的环形槽；其中，所述穴位孔与环形槽分别用于盛放不同种类的镀膜材料。真空腔体内置有电子枪以及至少一个上述的坩埚结构；其中，所述坩埚结构用于盛放不同种类的镀膜材料；所述电子枪用于对所述不同种类的镀膜材料进行蒸发；该技术方案提高了电子枪设备的利用率，从而提升了镀膜效率，提高了产品成膜的质量，成膜均匀性、致密性更好。致密性更好。致密性更好。

【技术实现步骤摘要】
坩埚结构、真空腔体以及真空镀膜机


[0001]本申请涉及真空镀膜机
，特别是一种坩埚结构、真空腔体以及真空镀膜机。

技术介绍

[0002]在一些真空镀膜机中，往往是设置多个电子枪作为蒸发源，不同的电子枪分别蒸发不同的镀膜材料；对应于不同类型的镀膜材料的蒸发要求，对于放置材料的坩埚结构设计也不同。
[0003]参考图1所示，图1是一种常用的电子枪和坩埚结构设计示意图；图中所示的真空镀膜机100的真空腔体110内设置了两个电子枪，假设为左电子枪21和右电子枪22；在对应的左电子枪蒸发位21a和右电子枪蒸发位22a上分别设置了一个环形坩埚11和一个穴形坩埚12，如图2所示，图2是环形坩埚和穴形坩埚的结构示意图；两个电子枪根据工艺要求分别作用于两个坩埚结构对相应的镀膜材料进行蒸发。在工作过程中，两个坩埚结构根据工艺需求进行旋转，将待蒸发的镀膜材料旋转到电子枪的蒸发位进行蒸发。
[0004]上述技术方案中，由于在镀膜过程中需要采用某一种镀膜材料时，其他种类的镀膜材料及其对应的电子枪都是处于非运行状态，浪费了电子枪设备资源，镀膜效率也本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种坩埚结构，包括坩埚本体，所述坩埚本体上开设有承载镀膜材料的载物区，其特征在于，所述载物区包括若干个穴形坩埚的穴位孔以及至少一段环形坩埚的环形槽；其中，所述穴位孔与环形槽分别用于盛放不同种类的镀膜材料。2.根据权利要求1所述的坩埚结构，其特征在于，所述穴位孔以半圆形分布在所述坩埚本体上，所述环形槽以半圆弧形状设置在所述坩埚本体上。3.根据权利要求1所述的坩埚结构，其特征在于，所述环形槽用于放置二氧化硅材料，所述穴位孔用于放置五氧化三钛材料。4.根据权利要求1所述的坩埚结构，其特征在于，所述坩埚本体在驱动装置的驱动下进行旋转，其中，所述驱动装置用于旋转所述坩埚本体，将所述穴位孔或者所述环形槽中的待蒸发的镀膜材料旋转到电子枪的蒸发位处。5.根据权利要求4所述的坩埚结构，其特征在于，所述驱动装置用于驱动所述坩埚本体进行单穴位间歇转动；或者驱动所述坩埚本体以所述环形槽位置为圆弧进行往复连续运动。6.根据权利要求5所述的坩埚结构，其特征在于，还包括连接所述驱动装置的控制装置，用于驱动所述坩埚本体进行转动，其中，所述控制装置预先...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋毅，刘伟基，冀鸣，易洪波，赵刚，
申请(专利权)人：佛山市博顿光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：