【技术实现步骤摘要】
具有高透射率的原子气室及其制作方法以及原子磁力仪
[0001]本专利技术涉及原子器件
,尤其是涉及一种具有高透射率的原子气室及其制作方法以及原子磁力仪。
技术介绍
[0002]在利用原子光谱进行精密测量的众多研究课题中,原子气室发挥着至关重要的作用,诸如原子磁力仪、原子干涉仪和原子钟等项目的实现都离不开原子气室。早期的原子气室可以由玻璃吹制而成,后来出现了利用热压工艺生产原子气室,以及利用微加工工艺中的阳极键合技术实现原子气室的制作,为原子气室的制作开辟了新的思路,也使得对于原子气室的大规模以及小型化制作变得更有前景。
[0003]在使用原子气室的实验中,为了提高实验测量的灵敏度通常需要采取多种手段提高信噪比。最常用的一些方法包括提高探测光的功率或者增加原子数目,但是这些方法都需要我们投入更多的硬件资源,对实验的要求也愈发苛刻。增加光与原子的作用距离也是提高信噪比的一种有效手段,但是原子气室不适宜做的过于庞大,所以将多反射腔引入到原子气室中来既可以让原子与光的作用距离变大,又保持了原子气室的小型化。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种具有高透射率的原子气室,其特征在于,所述原子气室包括:玻璃气室,所述玻璃气室相对的两侧设置有第一通孔和第二通孔;设置在所述第一通孔远离所述第二通孔一侧的第一腔镜结构;设置在所述第二通孔远离所述第一通孔一侧的第二腔镜结构;设置在所述第一腔镜结构背离所述第一通孔一侧表面的第一多反射腔;设置在所述第二腔镜结构背离所述第二通孔一侧表面的第二多反射腔。2.根据权利要求1所述的原子气室,其特征在于,所述第一腔镜结构和所述第二腔镜结构相同,均具有:硅片和玻璃窗口;所述硅片的一侧表面与所述玻璃气室连接固定,另一侧表面与所述玻璃窗口连接固定。3.根据权利要求2所述的原子气室,其特征在于,所述硅片与所述玻璃气室通过阳极键合连接固定,所述硅片与所述玻璃窗口通过阳极键合连接固定。4.根据权利要求3所述的原子气室,其特征在于,所述硅片为20mm
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20mm的双面抛光的硅片,厚度为0.5mm,晶向<100>;其中,所述硅片的中间区域还具有通光孔,所述通光孔为矩形或圆形。5.根据权利要求4所述的原子气室,其特征在于,所述玻璃窗口相对的两侧表面具有镀膜区域;所述镀膜区域用于镀增透膜,且所述镀膜区域的尺寸不大于所述通光孔的尺寸。6.根据权利要求5所述的原子气室,其特征在...
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