一种博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂及其制备方法技术

技术编号:32239734 阅读:36 留言:0更新日期:2022-02-09 17:43
本发明专利技术涉及一种博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂及其制备方法,所述博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂由非离子表面活性剂、消泡剂、消泡剂用溶剂、抗静电剂、抗静电剂用溶剂、水。通过将消泡剂溶于消泡剂用溶剂制成消泡剂溶液,将抗静电剂溶于抗静电剂用溶剂制成抗静电剂溶液,将非离子表面活性剂、消泡剂溶液、抗静电剂溶液、水混合分散均匀即制成博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂。使用所述博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂对低反射玻璃进行清洁,清洗效果好,具有防雾、抗静电性能,使得清洗之后的低反射玻璃能够在长时间内保持洁净,实施效果好,应用价值高,特别适合应用在博物馆展柜。特别适合应用在博物馆展柜。特别适合应用在博物馆展柜。

【技术实现步骤摘要】
一种博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂及其制备方法


[0001]本专利技术涉及一种博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂及其制备方法,属于玻璃清洁剂


技术介绍

[0002]博物馆展柜用的低反射玻璃为磁控溅射镀膜玻璃,磁控溅射镀膜玻璃的表面呈疏水状态,水接触角为60
°
。而常规的超白玻璃表面疏水角为30
°
左右。低反射玻璃较大的疏水角,对清洁剂的要求更为严格。清洁剂需充分浸润到低反射玻璃膜面,才能达到较好的清洁效果。
[0003]现有普通清洗剂,如电子行业玻璃清洗剂,其组分通常为:碱性物质、多元醇、增稠剂、含氟表面活性剂、络合剂、消泡剂、去离子水等;光学玻璃清洗剂,由表面活性剂、络合剂、有机碱、渗透剂和去离子水组成。采用电子行业玻璃清洗剂、光学玻璃清洗剂对低反射玻璃进行清洗,其不具有防雾效果。

技术实现思路

[0004]本专利技术针对现有技术存在的不足,提供了一种博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂及其制备方法,具体技术方案如下:
[0005]一种博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂,包括以下重量百分比的组分:
[0006][0007]其余为水。
[0008]作为上述技术方案的改进,所述非离子表面活性剂为烷基糖苷、聚氧乙烯型非离子表面活性剂、多元醇型非离子表面活性剂、烷醇酰胺型非离子表面活性剂、聚醚型非离子表面活性剂、氧化胺型非离子表面活性剂中的一种或数种。
[0009]作为上述技术方案的改进,所述消泡剂为二甲基聚硅氧烷、聚二甲基硅氧烷、聚醚改性硅油中的一种或数种。
[0010]作为上述技术方案的改进,所述消泡剂用溶剂为酒精、异丙醇、丙醇中的一种或数种。
[0011]作为上述技术方案的改进,所述抗静电剂为单脂肪酸甘油酯、乙氧基月桂酷胺中的一种或数种。
[0012]作为上述技术方案的改进,所述抗静电剂用溶剂为乙二醇、乙醇、丙醇中的一种或
数种。
[0013]所述博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂,包括以下重量百分比的组分:
[0014][0015]其余为水。
[0016]所述博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂的制备方法,包括以下步骤:
[0017]步骤一、将消泡剂(二甲基聚硅氧烷)溶于消泡剂用溶剂(异丙醇)制成消泡剂溶液;
[0018]步骤二、将抗静电剂(单脂肪酸甘油酯)溶于抗静电剂用溶剂(乙二醇)制成抗静电剂溶液;
[0019]步骤三、将非离子表面活性剂(烷基糖苷)、消泡剂溶液、抗静电剂溶液、水混合分散均匀即制成博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂。
[0020]作为上述技术方案的改进,所述博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂在清洁低反射镀膜玻璃中的应用。
[0021]本专利技术使用的表面活性剂为非离子表面活性剂,非离子表面活性剂具有更好的润湿、乳化、分散、增溶作用,且在水中不电离,具有很好的稳定性。
[0022]本专利技术使用的非离子表面活性剂优选的是烷基糖苷。烷基糖苷表面张力低、无浊点、HLB值可调、湿润力强、去污力强、配伍性强、无毒、无害、对皮肤无刺激,生物降解迅速彻底,可与任何类型表面活性剂复配,协同效应明显。具有较强的广谱抗菌活性,产品增稠效果显著、易于稀释、无凝胶现象,使用方便。而且耐强碱、耐强酸、耐硬水、抗盐性强。增加烷基糖苷的用量,可以增加润湿性能;但是,随着烷基糖苷的含量提升,在实验中发现,会导致成品产生大量的泡沫。因此,在配方中引入消泡剂,优选采用二甲基聚硅氧烷来降低表面张力,并抑制烷基糖苷的发泡性能。当烷基糖苷与二甲基聚硅氧烷之间的质量比为2:1时,烷基糖苷所产生的润湿性以及抑制泡沫的效果二者均能够达到最优。当烷基糖苷的含量为1%时,二甲基聚硅氧烷的含量为0.5%。
[0023]另外,实验中发现,烷基糖苷除可以增加润湿性能外,还使得采用本清洁剂(所述博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂的简称)清洁后的低反射玻璃具有防雾性能。
[0024]由于二甲基聚硅氧烷不溶于水,常规清洁剂通常是将二甲基聚硅氧烷溶于酒精,再将其溶于清洗剂内。本专利技术通过将二甲基聚硅氧烷溶于异丙醇,异丙醇不仅可以增加溶解性能,还可以与烷基糖苷配合,共同增加防雾性能。烷基糖苷、二甲基聚硅氧烷、异丙醇的最优配比为2:1:16,防雾性能最优。
[0025]为了增加清洁剂的抗静电性能,本专利技术通过将单脂肪酸甘油酯(MG)溶解于乙二醇中,来达到抗静电效果。
[0026]本领域公知:低反射镀膜玻璃的顶层物质通常为氧化钛。引入乙二醇除用作溶解
外,由于过量的乙二醇能够进一步提高抗静电效果。单脂肪酸甘油酯与乙二醇的最优质量比为1:3。
[0027]本专利技术的有益效果:
[0028]使用所述博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂对低反射玻璃进行清洁,清洗效果好,还具有一定的防雾效果,同时,清洗后的低反射玻璃具有一定的抗静电性能,使得清洗之后的低反射玻璃能够在长时间内(如48小时)保持洁净,实施效果好,应用价值高,特别适合应用在博物馆展柜。
附图说明
[0029]图1为异丙醇的含量y与起雾时间t之间的曲线图。
具体实施方式
[0030]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。
[0031]实施例1
[0032]步骤一、将0.5kg二甲基聚硅氧烷溶于5kg酒精制成消泡剂溶液;
[0033]步骤二、将0.5kg单脂肪酸甘油酯溶于1.5kg乙二醇制成抗静电剂溶液;
[0034]步骤三、将1kg烷基糖苷、消泡剂溶液、抗静电剂溶液、91.5kg水混合搅拌2

3h即制成样品1。
[0035]实施例2
[0036]步骤一、将0.5kg二甲基聚硅氧烷溶于5kg异丙醇制成消泡剂溶液;
[0037]步骤二、将0.5kg单脂肪酸甘油酯溶于1.5kg乙二醇制成抗静电剂溶液;
[0038]步骤三、将1kg烷基糖苷、消泡剂溶液、抗静电剂溶液、91.5kg水混合搅拌2

3h即制成样品2。
[0039]实施例3
[0040]步骤一、将0.5kg二甲基聚硅氧烷溶于8kg异丙醇制成消泡剂溶液;
[0041]步骤二、将0.5kg单脂肪酸甘油酯溶于1.5kg乙二醇制成抗静电剂溶液;
[0042]步骤三、将1kg烷基糖苷、消泡剂溶液、抗静电剂溶液、88.5kg水混合搅拌2

3h即制成样品3。
[0043]一、初始防雾效果测试:
[0044]1.1、待测玻璃式样的处理
[0045]使用超声波清洗机将低反射玻璃表面清洁干净,并放入80℃烘箱进行60分钟干燥处理,做到玻璃表面清洁且干燥。然后使用样品1

3分别对待测玻璃式样进行清洁。清洁完毕后,将待测玻璃式样进行初始防雾测试。
[0046]将待测玻璃式样固定本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂,其特征在于包括以下重量百分比的组分:2.根据权利要求1所述的一种博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂,其特征在于:所述非离子表面活性剂为烷基糖苷、聚氧乙烯型非离子表面活性剂、多元醇型非离子表面活性剂、烷醇酰胺型非离子表面活性剂、聚醚型非离子表面活性剂、氧化胺型非离子表面活性剂中的一种或数种。3.根据权利要求1所述的一种博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂,其特征在于:所述消泡剂为二甲基聚硅氧烷、聚二甲基硅氧烷、聚醚改性硅油中的一种或数种。4.根据权利要求1所述的一种博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂,其特征在于:所述消泡剂用溶剂为酒精、异丙醇、丙醇中的一种或数种。5.根据权利要求1所述的一种博物馆展柜用低反射玻璃清洁剂,其特征在于:所述抗静电剂为单脂肪酸甘...

【专利技术属性】
技术研发人员:井长水萧树强苗克刚张玉堂王小俊
申请(专利权)人:北京玻名堂玻璃有限公司
类型:发明
国别省市:

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