一种阵列基板及显示面板制造技术

本申请实施例公开了一种阵列基板及显示面板。本申请实施例提供的阵列基板中，至少部分靠近基板边缘的像素单元中的阵列电极的面积自基板中心向基板边缘逐渐减小。其中，可以将阵列电极面积逐渐减小的部分设置在显示面板的亮度偏亮的区域。阵列电极的面积减小，则像素单元的开口率减小。像素单元的开口率减小后，可以降低阵列基板边缘区域的光线穿透率。由此，使基板边缘光线偏亮的部分与基板中心的亮度相当，进而实现对显示面板的周边显示不均的改善。的改善。的改善。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及显示面板


[0001]本申请涉及显示
，具体涉及一种阵列基板及显示面板。

技术介绍

[0002]现有液晶面板主要包括阵列基板、彩膜基板和夹在阵列基板和彩膜基板之间的液晶。随着液晶显示器的应用领域不断扩展，对液晶显示器的可靠性要求也不断提高。现在的高温高湿动作(High Temperature High Humidity Operation，HTHHO)规格条件变更为在温度为60℃、湿度为90％RH测试500小时，所以对面板的要求更高。
[0003]在对现有技术的研究和实践过程中，本申请的专利技术人发现，在60℃、90％RH的HTHHO可靠性测试中，显示面板周边存在不良(mura)，具体表现为周边的位置较面板中心位置偏亮，影响到面板的品质。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种阵列基板及显示面板，可以改善显示面板周边显示不均。
[0005]本申请实施例提供一种阵列基板，包括：
[0006]基板，所述基板上设置有多个像素单元；
[0007]多个阵列电极，至少一所述阵列电极对应设置在一所述像素单元内；其中，自所述基板中心向所述基板边缘的方向排列的所述像素单元中，至少部分所述像素单元对应的所述阵列电极的面积沿排列方向逐渐减小。
[0008]可选的，在本申请的一些实施例中，所述阵列基板包括第一显示子区与第二显示子区，所述第二显示子区设置在所述第一显示子区的至少一侧；所述第二显示子区中，不同所述像素单元对应的所述阵列电极的面积自所述基板中心向所述第二显示子区边缘逐渐减小。
[0009]可选的，在本申请的一些实施例中，所述第二显示子区至少设置在所述第一显示子区的第一侧和第二侧，所述第一侧与所述第二侧相交；设置在所述第一侧的所述第二显示子区中，不同所述像素单元对应的所述阵列电极的面积沿所述基板中心向所述第一侧的方向逐渐减小，设置在所述第二侧的所述第二显示子区中，不同所述像素单元对应的所述阵列电极的面积沿所述基板中心向所述第二侧的方向逐渐减小。
[0010]可选的，在本申请的一些实施例中，所述第二显示子区的宽度为10毫米至200毫米。
[0011]可选的，在本申请的一些实施例中，至少部分靠近所述基板边缘的所述像素单元中，不同所述像素单元对应的所述阵列电极的宽度相同，所述阵列电极的长度自所述基板中心向所述基板边缘逐渐减小。
[0012]可选的，在本申请的一些实施例中，至少部分靠近所述基板边缘的所述像素单元中，不同所述像素单元对应的所述阵列电极的长度相同，所述阵列电极的宽度自所述基板中心向所述基板边缘逐渐减小。
[0013]可选的，在本申请的一些实施例中，至少部分靠近所述基板边缘的所述像素单元中，不同所述像素单元对应的所述阵列电极的长度和宽度均自所述基板中心向所述基板边缘逐渐减小。
[0014]可选的，在本申请的一些实施例中，至少部分靠近所述基板边缘的所述像素单元中，所述像素单元中的所述阵列电极以长度和/或宽度为0.1微米至0.5微米的差值自所述基板中心向所述基板边缘逐渐减小。
[0015]可选的，在本申请的一些实施例中，所述阵列基板还包括绝缘层，所述绝缘层设置在所述基板上，所述阵列电极设置在所述绝缘层远离所述基板的一侧。
[0016]相应的，本申请实施例还提供一种显示面板，包括：
[0017]阵列基板，所述阵列基板为以上任一项所述的阵列基板；
[0018]对向基板，所述对向基板与所述阵列基板相对设置；
[0019]液晶层，所述液晶层设置在所述阵列基板与所述对向基板之间。
[0020]本申请实施例公开一种阵列基板及显示面板。本申请实施例提供的阵列基板中，至少部分靠近基板边缘的像素单元中的阵列电极的面积自基板中心向基板边缘逐渐减小。其中，可以将阵列电极面积逐渐减小的部分设置在显示面板的亮度偏亮的区域。阵列电极的面积减小，则像素单元的开口率减小。像素单元的开口率减小后，可以降低阵列基板边缘区域的光线穿透率。由此，使基板边缘光线偏亮的部分与基板中心的亮度相当，进而实现对显示面板的周边显示不均的改善。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]图1是本申请实施例提供的阵列基板的第一种结构示意图；
[0023]图2是本申请实施例提供的图1中A处的第一种放大示意图；
[0024]图3是本申请实施例提供的图1中A处的第二种放大示意图；
[0025]图4是本申请实施例提供的图1中A处的第三种放大示意图；
[0026]图5是本申请实施例提供的阵列基板的第一种阵列电极排布示意图；
[0027]图6是本申请实施例提供的阵列基板的第二种阵列电极排布示意图；
[0028]图7是本申请实施例提供的阵列基板的第二种结构示意图；
[0029]图8是本申请实施例提供的显示面板的一种结构示意图。
具体实施方式
[0030]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方
位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
[0031]本申请实施例提供一种背光驱动电路及液晶显示装置。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
[0032]请参阅图1和图2，图1是本申请实施例提供的阵列基板的第一种结构示意图。图2是本申请实施例提供的图1中A处的第一种放大示意图。本申请实施例提供的阵列基板10包括基板101以及多个阵列电极102。基板101上设置有多个像素单元101a。至少一阵列电极102对应设置在一像素单元101a内。其中，自基板中心b向基板边缘a排列的像素单元101a中，至少部分像素单元101a对应的阵列电极102的面积沿排列方向逐渐减小。
[0033]其中，基板101可以采用柔性衬底制作。其中，柔性衬底采用的材料为聚合物材料，具体地，柔性衬底采用的材料可以为聚酰亚胺(Polyimide,PI)、聚乙烯(Polyethylene,PE)、聚丙烯(Polypropylene,PP)、聚苯乙烯(Polystyrene,PS)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene glycol terephthalate,PET)或聚萘二甲酸乙二本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：基板，所述基板上设置有多个像素单元；多个阵列电极，至少一所述阵列电极对应设置在一所述像素单元内；其中，自所述基板中心向所述基板边缘的方向排列的所述像素单元中，至少部分所述像素单元对应的所述阵列电极的面积沿排列方向逐渐减小。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括第一显示子区与第二显示子区，所述第二显示子区设置在所述第一显示子区的至少一侧；所述第二显示子区中，不同所述像素单元对应的所述阵列电极的面积自所述基板中心向所述第二显示子区边缘逐渐减小。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二显示子区至少设置在所述第一显示子区的第一侧和第二侧，所述第一侧与所述第二侧相交；设置在所述第一侧的所述第二显示子区中，不同所述像素单元对应的所述阵列电极的面积沿所述基板中心向所述第一侧的方向逐渐减小，设置在所述第二侧的所述第二显示子区中，不同所述像素单元对应的所述阵列电极的面积沿所述基板中心向所述第二侧的方向逐渐减小。4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二显示子区的宽度为10毫米至200毫米。5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，至少部分靠近所述基板边缘的所述像...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷勇，彭美发，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：