【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于双稳态低聚物机器的系统和方法
[0001]对相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2019年3月27日提交的美国临时专利申请No.62,824,610的优先权的权益,将其内容全部通过引用引入本文中。
[0003]本申请的目的在于纳米机械装置(器件),其运转涉及纳米级低聚物结构体和/或其纳米级成分(组合物,composition)的构象双稳定性。
技术介绍
[0004]装置和机器的工业小型化典型地通过自顶向下设计进行。期望越来越小的组件和装置的创建,并且制造从微米级变到纳米级。在通过自顶向下设计接近约10nm的尺寸时,使用宏观装置的精确操纵的成本典型地增加并且可变得极其昂贵。替代地,由亚纳米(原子)尺寸的构建要素(元素)在纳米尺度上设计功能装置的自底向上策略可证明是有益的。表现出构象双稳定性的低聚物机器可提供纳米机械功能性,提供刺激响应控制,并且使得对于多种应用实现纳米级操纵,所述多种应用包括,但不限于,能量收集、刺激响应机械激活、感测、药物递送(给药)、和生物治疗药物。
技术实现思路
[0005]在一些实施方式中,包括低聚物模块的分子和/或低聚物机器被选择和连接(结合)以表现出构象双稳定性,其中低聚物模块之间的相对取向可响应于一个或多个(一种或多种)刺激而从第一取向变为第二取向。
[0006]在一些实施方式中,低聚物机器包括:合成材料,其包含第一低聚物模块和连接至第一低聚物模块以形成低聚物链的第二低聚物模块;在第一低聚物模块和第二低聚物模块之间的共连接(共结合)位置处的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.配置为表现出构象双稳定性的低聚物机器组件,包括:具有第一末端和第二末端的第一低聚物模块;具有第一末端和第二末端的第二低聚物模块,其中第一低聚物模块的第一末端连接到第二低聚物模块的第一末端;和其中第一低聚物模块和第二低聚物模块的相对取向响应于施加的刺激而从第一取向变为第二取向。2.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中低聚物机器组件响应于施加的刺激而在第一取向和第二取向之间反复地波动。3.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中施加的刺激是第一刺激,并且第一低聚物模块和第二低聚物模块的相对取向在施加另外的刺激和/或停止第一刺激时从第二取向变为第一取向。4.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中施加的刺激是如下的任意一种或多种:温度的变化、设定温度、电场、磁场、pH的变化、至少10皮牛的施加的力、规定量的能量、和/或离子强度的变化。5.根据权利要求1的低聚物机器组件,其进一步包括在第一和第二低聚物模块之间的共连接位置处的至少一个弯曲或铰链部位。6.根据权利要求5的低聚物机器组件,其中所述至少一个弯曲或铰链部位包括具有比第一和第二低聚物模块各自的柔性显著更大的柔性的第三低聚物模块。7.根据权利要求6的低聚物机器组件,其中施加的刺激使第三低聚物模块屈曲,而第一和第二低聚物模块保持基本上未屈曲。8.根据权利要求1的低聚物机器组件,其进一步包括至少一个扩展物,所述扩展物由不同于第一和第二低聚物模块的材料形成并且具有比所述低聚物模块的柔性小的柔性。9.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中各低聚物链段具有0.5nm直至15nm的长度。10.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中至少一个低聚物模块包括至少15个立构规整或立构不规整聚(N
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异丙基丙烯酰胺)的重复单元。11.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中至少一个低聚物模块包括至少15个立构规整或立构不规整聚(N
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异丙基甲基丙烯酰胺)的重复单元。12.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中第一低聚物模块包括至少5个立构规整或立构不规整形式的聚(N
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异丙基丙烯酰胺)的重复单元,第二低聚物模块不包括聚(N
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异丙基丙烯酰胺)且具有至少0.5nm的持续长度,并且第一低聚物模块的至少三分之一部分沿着所述至少三分之一部分的长度不屈曲超过50%。13.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中第一或第二低聚物模块的至少一个包括全同立构嵌段。14.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中第一或第二低聚物模块的至少一个包括无规立构嵌段。15.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中第一或第二低聚物模块的至少一个包括间同立构嵌段。16.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中第一和第二低聚物模块被选择和连接,使得低聚物机器组件配置为具有在250K
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400K内的构象转变温度。
17.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中第一和第二低聚物模块包括共同的单体单元。18.根据权利要求1的低聚物机器组件,其进一步包括刚性分子结构体例如纳米管或DNA。19.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中连接的第一和第二低聚物模块包括全同立构聚(N
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异丙基丙烯酰胺)嵌段和无规立构聚(N
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异丙基丙烯酰胺)嵌段。20.根据权利要求1的低聚物机器组件,其中连接的第一和第二低聚物模块包括在两个聚(2
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异丙基
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N
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甲基丙烯酰胺)嵌段之间的聚(N
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异丙基甲基丙烯酰胺)嵌段。21.低聚物机器,包括:合成材料,其包含第一低聚物模块和连接至第一低聚物模块以形成低聚物链的第二低聚物模块;在第一低聚物模块和第二低聚物模块之间的共连接位置处的至少一个弯曲或铰链部位,所述弯曲或铰链部位允许在第一低聚物模块和第二低聚物模块之间的相对屈曲;至少一个发电元件;基底,其关于所述至少一个发电元件和低聚物链配置,使得在第一低聚物模块和第二低聚物模块之间的相对屈曲导致在低聚物链的至少第二低聚物模块和所述至少一个发电元件之间的机械相互作用;和其中低聚物链形成为使得响应于刺激,在第一低聚物模块和第二低聚物模块之间以引起在第二低聚物模块和发电元件之间的机械相互作用的方式发生相对屈曲,并且其中所述机械相互作用产生与所述至少一个发电元件有关的电压的变化。22.根据权利要求21的低聚物机器,其进一步包括在所述至少一个弯曲或铰链部位处附着到低聚物链的至少一个光吸收元件,其中具有光吸收元件的低聚物链形成为使得响应于施加到光吸收元件的规定量的光能,在第一低聚物模块和第二低聚物模块之间以如下的方式发生相对屈曲:引起在第二低聚物模块和所述至少一个发电元件之间的机械相互作用以产生与所述至少一个发电元件有关的电压的变化。23.根据权利要求21的低聚物机器,其进一步包括用于选择性结合能检测的分子的设置在低聚物链的所述至少一个弯曲或铰链部位处的至少一个化学特异性位点,其中具有化学特异性位点的低聚物链形成为使得响应于能检测的分子的结合,在第一低聚物模块和第二低聚物模块之间以如下的方式发生相对屈曲:引起在第二低聚物模块和所述至少一个发电元件之间的机械相互作用以产生与所述至少一个发电元件有关的电压的变化。24.根据权利要求21的低聚物机器,其中发电元件包括如下的至少一种:压电元件、纳米颗粒、纳米线或纳米层。25.根据权利要求21的低聚物机器,其中低聚物链包括在两个聚(2
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异丙基
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N
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甲基丙烯酰胺...
【专利技术属性】
技术研发人员:弗拉迪克阿韦蒂索夫,罗曼伊利耶夫,
申请(专利权)人:罗曼伊利耶夫,
类型:发明
国别省市:
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