防污染检测系统技术方案

本实用新型专利技术提出一种防污染检测系统，防污染检测系统包括：主机台；进样器，与所述主机台连接；保护装置，包括保护罩，传感器单元及过滤单元，其中，所述传感器单元位于所述保护装置内，所述过滤单元位于所述保护罩顶部；气体存储装置，包括传输管道，所述传输管道与所述保护装置的底部连接；阀体，位于所述传输管道上。通过本实用新型专利技术可以实现提高检测结果准确度，降低生产成本，提高产品的良品率。提高产品的良品率。提高产品的良品率。

【技术实现步骤摘要】
防污染检测系统


[0001]本技术涉及半导体检测设备
，特别涉及一种防污染检测系统。

技术介绍

[0002]随着集成电路制程技术的集成化程度的提高，对于产品良品率的要求也越来越高。不仅在晶圆制程环境的洁净度方面有严格要求，还在晶圆检测设备内部的洁净度也有严格指标。其中，作业环境中产生的阴、阳离子为影响制程良品率的主要因素之一，如果作业环境中的离子浓度未进行有效控制，则会使得作业环境产生污染，进而使得产品失效，从而降低产品的良品率。当作业环境中的离子浓度超过规定值时，会使得集成电路芯片上的线路发生严重的腐蚀，导致产品的良品率降低。如何监控作业环境中的浓度，并提高检测结果的准确度是目前需要解决的问题。

技术实现思路

[0003]鉴于以上现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种防污染检测系统，提高检测结果准确度，降低生产成本，提高产品的良品率。
[0004]为了实现上述目的及其它相关目的，本技术提供一种防污染检测系统，其至少包括：
[0005]主机台；
[0006]进样器，与所述主机台连接；
[000本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防污染检测系统，其特征在于，至少包括：主机台；进样器，与所述主机台连接；保护装置，包括保护罩，传感器单元及过滤单元，其中，所述传感器单元位于所述保护装置内，所述过滤单元位于所述保护罩顶部；气体存储装置，包括传输管道，所述传输管道与所述保护装置的底部连接；阀体，位于所述传输管道上。2.根据权利要求1所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述保护罩包括：气体输出口，贯穿于所述保护罩的顶面；气体输入口，与所述气体输出口相对设置，且贯穿于所述保护罩的底面。3.根据权利要求2所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述气体输出口的数量至少为四个。4.根据权利要求2所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述气体输入口的数量至少为四个。5.根据权利要求1所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述保护装置还包括样品台，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘波，陆靖，何震，
申请(专利权)人：合肥晶合集成电路股份有限公司，
类型：新型
国别省市：