光检测电路制造技术

技术编号:3209914 阅读:199 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种在集成电路内部实现的光检测电路。传统的光检测电路采用光电二极管的形式,存在着成本高、制作难度大以及使用不便的问题。本发明专利技术的目的在于提供一种能完全在集成电路内部实现的、而且可采用常规CMOS工艺制作的光检测电路。本发明专利技术的光检测电路包括:电子脉冲开关、在CMOS工艺中实现的双极型晶体管、电容器以及整形电路;所述CMOS工艺晶体管与所述电容器并联后与所述电子脉冲开关串联,所述脉冲电子开关的另一端接电源;所述CMOS工艺晶体管与所述电容器的串联电路的另一端接地,所述整形电路连接到所述脉冲电子开关与所述CMOS工艺晶体管和所述电容器的串联电路的连接点上。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光检测电路,尤其涉及在集成电路内部实现的光检测电路。
技术介绍
传统的光检测电路采用光电二极管的方式,将光信号转为电流信号。图1示出了一种传统的光检测电路的示意图。D为光电二极管,当光电二极管检测到光信号后,转换成电流信号,提供给后续的电流/电压转换电路11,经转换后,输出有幅度值的电压,从而检测光信号。这种电路一般都需要外接元器件(光电二极管)。而如果要将该光电二极管在集成电路内部实现,则需要采用特殊的工艺。因此无论那种方法,都会带来成本上的增加,前者还会造成使用上的不便。
技术实现思路
因此,基于上述
技术介绍
,本专利技术的目的在于提供一种能完全在集成电路内部实现的、而且可采用常规CMOS工艺制作的光检测电路。根据本专利技术的上述目的,本专利技术的光检测电路包括电子脉冲开关、在CMOS工艺中实现的双极型晶体管、电容器以及整形电路;所述CMOS工艺晶体管与所述电容器并联后与所述电子脉冲开关串联,所述脉冲电子开关的另一端接电源;所述CMOS工艺晶体管与所述电容器的串联电路的另一端接地,所述整形电路连接到所述脉冲电子开关与所述CMOS工艺晶体管和所述电容器的串联电路的连接点本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光检测电路包括:电子脉冲开关、在CMOS工艺中实现的双极型晶体管、电容器以及整形电路;所述CMOS工艺晶体管与所述电容器并联后与所述电子脉冲开关串联,所述脉冲电子开关的另一端接电源;所述CMOS工艺晶体管与所述电容器的串联电路的另一端接地,所述整形电路连接到所述脉冲电子开关与所述CMOS工艺晶体管和所述电容器的串联电路的连接点上。

【技术特征摘要】
1.一种光检测电路包括电子脉冲开关、在CMOS工艺中实现的双极型晶体管、电容器以及整形电路;所述CMOS工艺晶体管与所述电容器并联后与所述电子脉冲开关串联,所述脉冲电子开关的另一端接电源;所述CMOS工艺晶体管与所述电容器的串联电路的另一端接地,所述整形电路连接到所述脉冲电子开关与所述CMOS工艺晶体管和所述电容器的串联电路的连接点上。2.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈良生任建军
申请(专利权)人:上海华虹集成电路有限责任公司
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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