一种控制气流紊流结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种控制气流紊流结构，所述控制气流紊流结构包括：外壳；位于外壳外部的缓存腔外壳；进气管，所述进气管设置在缓存腔外壳外部，用于外部气体导通；环境腔装置，所述环境腔装置设置在缓存腔外壳外部；位于环境腔装置外部的进气口；位于进气口外部的若干个康达孔，本实用新型专利技术的有益效果是：本装置采用以上结构，机械结构简单，气体控制更为稳定，减少了惰性气体的用量和调节控制的时间，降低了用量成本同时也降低了物料不良的成本，具有较高的实用性和市场前景，适合大范围推广使用。用。用。

【技术实现步骤摘要】
一种控制气流紊流结构


[0001]本技术涉及半导体行业行业，具体是一种控制气流紊流结构。

技术介绍

[0002]现有气流紊流结构腔体内的空气无法快速挤出腔体，到达效果的时间达240秒
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360秒，浪费原料和稳定控制时间长，无法保证产品良率，因此，为解决这一问题，亟需研制一种更为成熟的控制气流紊流结构。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种控制气流紊流结构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0005]一种控制气流紊流结构，所述控制气流紊流结构包括：
[0006]外壳；
[0007]位于外壳外部的缓存腔外壳；
[0008]进气管，所述进气管设置在缓存腔外壳外部，用于外部气体导通；
[0009]环境腔装置，所述环境腔装置设置在缓存腔外壳外部；
[0010]位于环境腔装置外部的进气口；
[0011]位于进气口外部的若干个康达孔。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种控制气流紊流结构，其特征在于，所述控制气流紊流结构包括：外壳；位于外壳外部的缓存腔外壳；进气管，所述进气管设置在缓存腔外壳外部，用于外部气体导通；环境腔装置，所述环境腔装置设置在缓存腔外壳外部；位于环境腔装置外部的进气口；位于进气口外部的若干个康达孔。2.根据权利要求1所述的控制气流紊流结构，其特征在于，在...

【专利技术属性】
技术研发人员：李宏伟，
申请(专利权)人：常熟五临天光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：