【技术实现步骤摘要】
一种高均匀性的UV固化装置
[0001]本专利技术属于半导体及显示
,尤其涉及一种高均匀性的UV固化装置。
技术介绍
[0002]在半导体产品制造过程中,部分工序需要使用UV灯进行照射。而现有的工艺为UV灯直接照射产品,由于灯管为弧形,不同角度有光量差异,使产品表面不同位置的受光量不同,无法满足产品生产要求。
[0003]而要使产品表面不同位置的受光量相同,则需要在照射位置设置检测点位,目前的检测设备的检测端与经过照射工位的工件距离过近,容易导致检测端损坏或偏移,使得检测结果精度下降。
技术实现思路
[0004]为了解决相关技术中的问题,本申请提供了一种高均匀性的UV固化装置通过将检测设备的检测端设置为可移动式,在工件照射过程中远离照射工位,避免发生磕碰,同时对检测端传感器进行罩盖保护,提高了检测端传感器的使用寿命和检测结果的精度。
[0005]技术方案如下:
[0006]一种高均匀性的UV固化装置,包括照射结构、传输结构和检测结构,其中:照射结构设置于照射工位的上方;检测结构设 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高均匀性的UV固化装置,其特征在于,包括照射结构、传输结构和检测结构,所述检测结构还包括快门罩和开关驱动装置,其中:所述照射结构设置于照射工位的上方;所述检测结构设置于所述照射工位的下方;所述传输结构的输送端水平经过所述照射工位;所述照射结构被配置为照射所述照射工位的工件;所述检测结构被配置为检测所述照射工位的光量的均匀性;所述传输结构被配置为将工件传送经过所述照射工位;在所述照射工位对工件照射前,所述检测结构的检测端移动至所述照射工位进行光量均匀性的检测,所述照射结构根据检测结果调整照射效果;当所述照射工位的光量均匀性达到设定标准后,所述检测结构的检测端移动远离所述照射工位,然后由所述传输结构将工件移动经过所述照射工位,所述照射结构对所述照射工位的工件进行照射;当所述检测结构的检测端下降至最低位置时,所述快门罩罩设于所述检测结构的检测端上方;所述开关驱动装置被配置为驱动所述快门罩水平移动,使所述快门罩离开或返回所述检测结构的检测端上方进行罩盖。2.根据权利要求1所述的高均匀性的UV固化装置,其特征在于,所述检测结构包括升降驱动装置、升降平台和至少一个传感器,其中:所述升降平台设于所述照射工位的下方;所述升降平台与工件的传输方向平行设置;所述升降驱动装置被配置为驱动所述升降平台进行升降动作,使所述升降平台移动至所述照射工位或远离所述照射工位;所述传感器安装在所述升降平台的上表面;所述传感器被配置为检测所述照射工位的光量的均匀性。3....
【专利技术属性】
技术研发人员:李宏伟,
申请(专利权)人:常熟五临天光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。