本发明专利技术公开了一种高均匀性的UV固化装置，包括照射结构、传输结构和检测结构，其中：照射结构设置于照射工位的上方；检测结构设置于照射工位的下方；传输结构的输送端水平经过照射工位；照射结构被配置为照射照射工位的工件；检测结构被配置为检测照射工位的光量的均匀性；传输结构被配置为将工件传送经过照射工位；在照射工位对工件照射前，检测结构的检测端移动至照射工位进行光量均匀性的检测，然后由传输结构将工件移动经过照射工位，照射结构对照射工位的工件进行照射。通过检测结构的检测端设置为可调节伸缩，可避免与传输结构的输送端发生磕碰，有效提高检测精度和检测结构的传感器的使用寿命。传感器的使用寿命。传感器的使用寿命。
【技术实现步骤摘要】
一种高均匀性的UV固化装置
[0001]本专利技术属于半导体及显示
，尤其涉及一种高均匀性的UV固化装置。
技术介绍
[0002]在半导体产品制造过程中，部分工序需要使用UV灯进行照射。而现有的工艺为UV灯直接照射产品，由于灯管为弧形，不同角度有光量差异，使产品表面不同位置的受光量不同，无法满足产品生产要求。
[0003]而要使产品表面不同位置的受光量相同，则需要在照射位置设置检测点位，目前的检测设备的检测端与经过照射工位的工件距离过近，容易导致检测端损坏或偏移，使得检测结果精度下降。
技术实现思路
[0004]为了解决相关技术中的问题，本申请提供了一种高均匀性的UV固化装置通过将检测设备的检测端设置为可移动式，在工件照射过程中远离照射工位，避免发生磕碰，同时对检测端传感器进行罩盖保护，提高了检测端传感器的使用寿命和检测结果的精度。
[0005]技术方案如下：
[0006]一种高均匀性的UV固化装置，包括照射结构、传输结构和检测结构，其中：照射结构设置于照射工位的上方；检测结构设置于照射工位的下方；传输结构的输送端水平经过照射工位；照射结构被配置为照射照射工位的工件；检测结构被配置为检测照射工位的光量的均匀性；传输结构被配置为将工件传送经过照射工位；在照射工位对工件照射前，检测结构的检测端移动至照射工位进行光量均匀性的检测，照射结构根据检测结果调整照射效果；当照射工位的光量均匀性达到设定标准后，检测结构的检测端移动远离照射工位，然后由传输结构将工件移动经过照射工位，照射结构对照射工位的工件进行照射。
[0007]通过检测结构的检测端设置为可调节伸缩，可避免与传输结构的输送端发生磕碰，有效提高检测精度和检测结构的传感器的使用寿命。
[0008]进一步地，检测结构包括升降驱动装置、升降平台和至少一个传感器，其中：升降平台设于照射工位的下方；升降平台与工件的传输方向平行设置；升降驱动装置被配置为驱动升降平台进行升降动作，使升降平台移动至照射工位或远离照射工位；传感器安装在升降平台的上表面；传感器被配置为检测照射工位的光量的均匀性。
[0009]进一步地，检测结构还包括快门罩和开关驱动装置，其中：当升降平台下降至最低位置时，快门罩罩设于升降平台上方；开关驱动装置被配置为驱动快门罩水平移动，使快门罩离开或返回升降平台上方。
[0010]通过设置快门罩可以进一步保护检测结构的传感器，避免传感器被光线照射时间过久导致寿命下降。
[0011]进一步地，升降平台设置有若干检测点位；若干检测点位均设有传感器。
[0012]设置多个检测点位提高光量均匀性检测的精度。
[0013]进一步地，照射结构包括UV灯管和反射罩，其中：UV灯管安装在照射工位上方；反射罩设于UV灯管长度方向的两侧，反射罩沿UV灯管的照射方向延伸；反射罩可调节角度；UV灯管被配置为照射工件；反射罩被配置为反射UV灯管的光线，使照射工位各处位置的光量相同。
[0014]设置可调节角度的反射罩，可以不断修正反射角度，使最终光量达到高均匀性。产品受光性，提高良品率，产品一致性
[0015]进一步地，反射罩包括第一反射组和第二反射组，第一反射组和第二反射组采用相同结构，第一反射组和第二反射组均包括至少三块边侧相连接的反射板，其中：反射板沿UV灯管长度方向设置；反射板长度方向的边侧设置有驱动轴；相邻反射板之间通过驱动轴铰接。
[0016]进一步地，反射板的反射面经过真空镀膜处理。
[0017]反射板通过真空镀膜处理可以提高光照的折射率，提高反射调节效率。
[0018]进一步地，UV灯管配设有灯箱。
[0019]应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本专利技术。
附图说明
[0020]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本专利技术的实施例，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。
[0021]图1为本专利技术的结构示意图；
[0022]图2为本专利技术的检测点位分布示意图。
[0023]11、反射板；12、UV灯管；13、驱动轴；14、灯箱；2、传输结构；31、升降平台；32、传感器；33、快门罩；4、检测点位。
具体实施方式
[0024]这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本专利技术相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本专利技术的一些方面相一致的装置和方法的例子。
[0025]如附图1
‑
2所示：
[0026]一种高均匀性的UV固化装置，包括照射结构、传输结构2和检测结构，其中：照射结构设置于照射工位的上方；检测结构设置于照射工位的下方；传输结构2的输送端水平经过照射工位；照射结构被配置为照射照射工位的工件；检测结构被配置为检测照射工位的光量的均匀性；传输结构2被配置为将工件传送经过照射工位；在照射工位对工件照射前，检测结构的检测端移动至照射工位进行光量均匀性的检测，照射结构根据检测结果调整照射效果；当照射工位的光量均匀性达到设定标准后，检测结构的检测端移动远离照射工位，然后由传输结构2将工件移动经过照射工位，照射结构对照射工位的工件进行照射。
[0027]在工件进行照射前，将检测结构的检测端上升至工件上表面的同一高度，将要被照射的照射工位，然后照射结构对照射工位进行照射，检测结构检测照射工位各处的光量
是否一致，如未能达到均匀性指标，对照射结构进行调整照射光线角度，直至光量均匀性达到设定标准；调试完成后检测结构的检测端进行下降收缩，为传输结构2的输送端进行让位，避免发生磕碰，提高检测精度。传输结构2可采用托盘滑动连接导轨的形式运送工件，实现连续生产。
[0028]通过检测结构的检测端设置为可调节伸缩，可避免与传输结构2的输送端发生磕碰，有效提高检测精度和检测结构使用寿命。
[0029]检测结构包括升降驱动装置、升降平台31和至少一个传感器32，其中：升降平台31设于照射工位的下方；升降平台31与工件的传输方向平行设置；升降驱动装置被配置为驱动升降平台31进行升降动作，使升降平台31移动至照射工位或远离照射工位；传感器32安装在升降平台31的上表面；传感器32被配置为检测照射工位的光量的均匀性。
[0030]检测结构还包括快门罩33和开关驱动装置，其中：当升降平台31下降至最低位置时，快门罩33罩设于升降平台31上方；开关驱动装置被配置为驱动快门罩33水平移动，使快门罩33离开或返回升降平台31上方。
[0031]开关驱动装置通过程序控制，检测时开关驱动装置打开快门罩33，检测结构的检测端升至与工件上表面同一高度，读取检测结构的检测值，提供程序运算比对，是否能达到要求均匀性，如果不达标报警，并显示差异较大的检测位，提供再次调节照射结构达到均本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高均匀性的UV固化装置，其特征在于，包括照射结构、传输结构和检测结构，所述检测结构还包括快门罩和开关驱动装置，其中：所述照射结构设置于照射工位的上方；所述检测结构设置于所述照射工位的下方；所述传输结构的输送端水平经过所述照射工位；所述照射结构被配置为照射所述照射工位的工件；所述检测结构被配置为检测所述照射工位的光量的均匀性；所述传输结构被配置为将工件传送经过所述照射工位；在所述照射工位对工件照射前，所述检测结构的检测端移动至所述照射工位进行光量均匀性的检测，所述照射结构根据检测结果调整照射效果；当所述照射工位的光量均匀性达到设定标准后，所述检测结构的检测端移动远离所述照射工位，然后由所述传输结构将工件移动经过所述照射工位，所述照射结构对所述照射工位的工件进行照射；当所述检测结构的检测端下降至最低位置时，所述快门罩罩设于所述检测结构的检测端上方；所述开关驱动装置被配置为驱动所述快门罩水平移动，使所述快门罩离开或返回所述检测结构的检测端上方进行罩盖。2.根据权利要求1所述的高均匀性的UV固化装置，其特征在于，所述检测结构包括升降驱动装置、升降平台和至少一个传感器，其中：所述升降平台设于所述照射工位的下方；所述升降平台与工件的传输方向平行设置；所述升降驱动装置被配置为驱动所述升降平台进行升降动作，使所述升降平台移动至所述照射工位或远离所述照射工位；所述传感器安装在所述升降平台的上表面；所述传感器被配置为检测所述照射工位的光量的均匀性。3....
【专利技术属性】
技术研发人员：李宏伟，
申请(专利权)人：常熟五临天光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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