【技术实现步骤摘要】
一种过滤装置及光阻液涂布机
[0001]本技术涉及半导体设备
，特别是涉及一种过滤装置及光阻液涂布机。
技术介绍
[0002]光阻液涂布在半导体制造的领域中，扮演着相当重要的角色。例如在蚀刻制程中，光阻层被当做被蚀刻薄膜的罩幕，用以保持所需图案不被蚀刻反应去除。又如在离子植入制程中，光阻层也具有罩幕的功能，使掺杂只掺入到预定的区域中。然而，在光阻液涂布制程中，经常因为光阻液内产生气泡或杂质而引起芯片涂布的覆盖不良与平坦度不佳现象，导致芯片的蚀刻良率可靠度降低，情况严重者甚至造成芯片报废。因此需要定期更换过滤器以确保过滤品质，但过滤器更换时，首先要将过滤器预湿，预湿过的过滤器才可以正常使用。
[0003]然而，过滤器在预湿的过程中，耗费时间颇多，且需要生产设备停机，影响机台生产，并且在执行工艺工序发生设备缺陷问题时，若无法及时更换过滤器，则会降低生产产能和产品良品率。并且过滤器在预湿的过程中，会因为速度、压力或温度的影响产生气泡，且气泡不易排出，若直接进行涂布作业势必会影响涂布效果，从而进一步降低产品的良品率。<
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种过滤装置，其特征在于，包括：储蓄装置，包括第一腔室和第二腔室，所述第一腔室和所述第二腔室连通；过滤器，其设置在所述储蓄装置一侧；第一管道，其一端与所述第一腔室连通，所述第一管道的另一端与所述过滤器连通；第二管道，其一端与所述过滤器连通，所述第二管道的另一端与所述第二腔室连通；动力装置，与所述第二管道连接。2.根据权利要求1所述的一种过滤装置，其特征在于，所述过滤装置还包括震动器，所述震动器与所述过滤器接触。3.根据权利要求1所述的一种过滤装置，其特征在于，所述储蓄装置内设置有隔液板，所述隔液板的一端与所述储蓄装置的内壁连接，所述隔液板的另一端在所述储蓄装置内悬空。4.根据权利要求1所述的一种过滤装置，其特征在于，所述过滤装置还包括置物装置，所述过滤器位于所述置物装置内。5.根据权利要求1所述的一种过滤装置，其特征在于，在所述第二腔室内设置有第一传感器，所述第一传感器位于所述第二腔室的侧壁上，且位于所述储蓄装置顶部的一侧。6.根据权利要求5所述的一种过滤装置，其特征在于，在所述第二腔室内还设置...
【专利技术属性】
技术研发人员：程晋文，陈家宏，
申请(专利权)人：合肥晶合集成电路股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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