具有传送器的装置及用其转移基板的方法制造方法及图纸

一种用于一液晶显示器设备的装置，其包含：用于处理一基板的处理腔室；具有至少一个内部传送器的一个负荷锁定腔室（ｌｏａｄ－ｌｏｃｋ　　ｃｈａｍｂｅｒ）；及一连接到该处理腔室及该至少一个负荷锁定腔室的转移腔室，该转移腔室具有一基板转移构件。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种用于液晶显示器设备的装置，且更特定言之，是关于一种其中在具有一传送器的负荷锁定腔室(load-lock chamber)中交换大尺寸基板的装置。
技术介绍
一般而言，一液晶显示器(LCD)设备是通过重复一将薄膜沉积在一基板上的沉积步骤，一使用一光阻的光蚀刻步骤，一选择性蚀刻该薄膜的选择性蚀刻步骤及一清洁该基板的清洁步骤而制造成。可在一最适宜的条件下使用一具有一处理腔室的装置来执行LCD设备的制造处理中的该等步骤。近来，一包括用于处理基板的处理腔室、一用于将该等基板移进及移出该等处理腔室的转移腔室、及一连接到该转移腔室用于临时存储该等基板的负荷锁定腔室的群集器已因其在短期内可处理大量基板的优良处理能力而广泛用作制造LCD设备的装置。该群集器可用作一等离子增强化学气相沉积(PECVD)装置或干式蚀刻装置。图1是展示根据相关技术的一群集器的示意图。在图1中，一群集器包含一负荷锁定腔室20、一转移腔室50及复数个处理腔室30。该群集器进一步包含一用于使基板60于在该等复数个处理腔室30中进行处理之前接受加热的预加热腔室40、且该负荷锁定腔室20被连接到一其中存储有复数本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于一液晶显示器设备的装置，其包括：一用于处理一基板的处理腔室；一具有一内部传送器的负荷锁定腔室；及一连接到该处理腔室及该负荷锁定腔室的转移腔室，该转移腔室具有一基板转移构件。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：黃喆周，金容真，
申请(专利权)人：周星工程股份有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]