【技术实现步骤摘要】
显示面板和显示装置
[0001]本技术涉及显示
,更具体地,涉及一种显示面板和显示装置。
技术介绍
[0002]显示面板目前被广泛的应用于手机、掌上电脑等便携式电子产品中,例如:薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor
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Liquid Crystal Display,TFT
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LCD)、有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode,OLED)、低温多晶硅(Low Temperature Poly
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silicon,LTPS)显示器以及等离子体显示器(Plasma Display Panel,PDP)等。
[0003]显示器诸如有机发光二极管显示器具有基于发光二极管的显示器像素阵列。在这种类型的显示器中,每个显示器像素包括发光二极管和用于控制向发光二极管施加信号的薄膜晶体管。薄膜显示驱动器电路通常被包括在显示器中。例如,显示器上的栅极驱动器电路和解复用器电路可由薄膜晶体管形成。
[0004]目前随着显示技术的发展,在市场竞争的推动下,显示效果更优越、的显示装置受到了越来越多的追捧。而显示器的像素密度(Pixels Per Inch也叫像素密度,表示每英寸范围所拥有的像素数量)已成为衡量显示器显示效果的一项重要指标,PPI数值越高,即代表显示屏能够以越高的密度显示图像,拟真度就越高。
[0005]因此,如何进一步提升显示面板的PPI,进而使显示效果更优越,使产品更具有优势,是本领域技 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:衬底基板;第一晶体管和第二晶体管,所述第一晶体管与所述第二晶体管形成于所述衬底基板上,所述第一晶体管包括第一有源层、第一栅极、第一源极和第一漏极,所述第一晶体管为硅晶体管;所述第二晶体管包括第二有源层、第二栅极、第二源极和第二漏极,所述第二晶体管为氧化物半导体晶体管;所述第一晶体管的沟道区的长度为L1,在垂直于所述衬底基板的方向上,所述第一栅极与所述第一有源层之间的间距为D1,第一面积S1=L1
×
D1;所述第二晶体管的沟道区的长度为L2,在垂直于所述衬底基板的方向上,所述第二栅极与所述第二有源层之间的间距为D2,第二面积S2=L2
×
D2;其中,S1<S2;所述显示面板包括像素电路和为所述像素电路提供驱动信号的驱动电路,其中,所述驱动电路包括所述第二晶体管,所述像素电路包括所述第一晶体管或者所述驱动电路包括所述第一晶体管。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述驱动电路包括输入模块、逻辑传输模块和输出模块,所述输入模块连接于输入端与所述逻辑传输模块之间,所述输出模块连接于所述逻辑传输模块与输出端之间;所述逻辑传输模块连接于高电平信号端或者低电平信号端,所述输出端与所述像素电路连接;其中,所述逻辑传输模块包括第二晶体管或者所述输入模块包括所述第二晶体管,且所述输出模块包括所述第一晶体管。3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一晶体管的沟道区的宽度为W1,所述第二晶体管的沟道区的宽度为W2,第一体积V1=S1
×
W1,第二体积V2=S2
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W2;其中,V1>V2。4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素电路包括所述第一晶体管,所述第一晶体管为所述像素电路的驱动晶体管,其中,D1/D2<L1/L2。5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二晶体管还包括第四栅极,在垂直于所述衬底基板的方向上,所述第四栅极与所述第二有源层之间的间距为D4,D2<D4;所述第二栅极所限定的所述第二晶体管的沟道区为第二沟道区,所述第二沟道区的长度为L2;所述第四栅极所限定的所述第二晶体管的沟道区为第四沟道区,所述第四沟道区的长度为L4;其中,第四面积S4=L4
×
D4,S2<S4。6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,S4+S1>2S2。
7.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一晶体管还包括第三栅极,在垂直于所述衬底基板的方向上,所述第三栅极与所述第一有源层之间的间距为D3,D1<D3;所述第一栅极所限定的所述第一晶体管的沟道区为第一沟道区,所述第一沟道区的长度为L1;所述第三栅极所限定的所述第一晶体管的沟道区为第三沟道区,所述第三沟道区的长度为L3;其中,第三面积S3=L3
×
D3,S1<S3。8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述第三栅极包括氢化非晶硅层。9.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述第一晶体管为所述像素电路的驱动晶体管,其中,S3
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S1<S4
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S2。10.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述像素电路包括第三晶体管,所述第三晶体管包括第五栅极、第三有源层、第三源极和第三漏极,所述第三晶体管为氧化物半导体晶体管;在垂直于所述衬底基板的方向上,所述第五栅极与所述第三有源层之间的间距为D5,所述第五栅极所限定的所述第三晶体管的沟道区为第五沟道区,所述第五沟道区的长度为L5,第五面积S5=L5
×
D5;其中,S1<S5。11.根据权利要求10...
【专利技术属性】
技术研发人员:赖青俊,朱绎桦,袁永,安平,曹兆铿,
申请(专利权)人:厦门天马微电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
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