处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术是提供与以往的利用被激活的氧的处理不同的、抑制了对被处理物的氧化影响的处理装置。其目的在于提供一种利用真空紫外光的处理装置，该处理装置能够实现在使用被激活的氧进行的处理中无法得到充分的处理速度的处理，例如注入离子的抗蚀剂的灰化／除去等。该处理装置，具备放射真空紫外光的光源、和具备该光源的放电容器及／或处理空间，并配置有导入气体的导入口，通过照射光激活该被导入的气体，其特征在于，该被激活性的气体是Ｎ↓［ｍ］Ｈ↓［ｎ］，其中，Ｎ为氮原子、Ｈ为氢原子、ｍ、ｎ为任意的自然数；具备将自上述光源放射的真空紫外光照射于该Ｎ↓［ｍ］Ｈ↓［ｎ］气体的机构。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及利用真空紫外光的处理装置。具体而言，涉及通过向处理气体照射真空紫外光来激活该处理用气体，使得该处理用气体作用于被处理物的处理装置，例如可利用于表面改性、干式洗净、抗蚀剂的灰化/除去、硅表面的蚀刻等中的处理装置。
技术介绍
以往，利用真空紫外光进行处理的处理装置，广泛利用于例如表面改性、干式洗净、抗蚀剂的灰化/除去等各种领域。若大致区分这些处理装置，则有通过对被照射物直接照射该真空紫外光，使该被照射物产生光化学反应等来进行处理的情况，以及将该真空紫外光照射到氧分子等而产生活性氧原子等，从而处理该被照射物的情况。尤其，在洗净或抗蚀剂的灰化/除去领域中，广泛利用将该真空紫外光照射到氧分子而产生活性氧原子，从而处理该被照射物的技术。作为此技术，例如已知有在日本特公平4-9373号等中公开的利用低压水银灯的处理装置。该公报中记载了如下内容从作为光源的低压水银灯放射的波长为184nm的真空紫外光与氧反应生成臭氧，波长为245nm的紫外线分解所生成的该臭氧，由此生成活性氧原子，并使附着于被照射物表面的有机污染物被氧化分解并飞散。此时，自该低压水银灯放射的光是封入该低压水银灯内的水本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种处理装置，具备放射真空紫外光的光源、和具备该光源的放电容器及／或处理空间，并配置有导入气体的导入口，通过照射光激活该被导入的气体，其特征在于，该被激活性的气体是Ｎ↓［ｍ］Ｈ↓［ｎ］，其中，Ｎ为氮原子、Ｈ为氢原子、ｍ、ｎ为任意的自然数；具备将自上述光源放射的真空紫外光照射于该Ｎ↓［ｍ］Ｈ↓［ｎ］气体的机构。

【技术特征摘要】
JP 2003-11-20 390885/20031.一种处理装置，具备放射真空紫外光的光源、和具备该光源的放电容器及/或处理空间，并配置有导入气体的导入口，通过照射光激活该被导入的气体，其特征在于，该被激活性的气体是NmHn，其中，N为氮原子、H为氢原子、m、n为任意的自然数；具备将自上述光源放射的真空紫外光照射于该NmHn气体的机构。2.如权利要求1所记载的处理装置，其特征在于，上述NmHn气体是氨气，该氨气的分压大于等于0.1Kpa且小于等于10Kpa。3.如权利要求1所记载的处理装置，其特征在于，上述光源是利用电介质阻挡放电的准分子紫外灯，该电介质阻挡放电产生波长最大值为172nm的Xe2准分子光、波长最大值为146nm的Kr2准分子光、或波长最大值为126nm的Ar2准分子光。...

【专利技术属性】
技术研发人员：松野博光，菱沼宣是，菅原宽，
申请(专利权)人：优志旺电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]