一种具有斜面型纳米结构的波导镜片及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种具有斜面型纳米结构的波导镜片的制作方法，该方法包括，提供一波导衬底；在波导衬底表面制备一光刻胶层；在光刻胶层的表面至少选择2个区域，并对区域进行图形化处理，获得图形光刻胶以及图形凹槽；采用阴影镀膜的方式在图形光刻胶上以及图形凹槽底部中未被图形光刻胶遮挡的表面形成覆盖层；采用正向或微倾刻蚀的方式在波导衬底形成多个斜面型纳米结构；去除剩余的覆盖层和光刻胶层。本发明专利技术还公开了一种具有斜面型纳米结构的波导镜片，采用上述的具有斜面型纳米结构的波导镜片的制作方法制作，对区域未被覆盖层遮挡的部分和覆盖层同时进行蚀刻，实现斜面型纳米结构制备，降低制备难度，且具备高可控度。且具备高可控度。且具备高可控度。

【技术实现步骤摘要】
一种具有斜面型纳米结构的波导镜片及其制作方法


[0001]本专利技术涉及增强现实显示
，特别是涉及一种具有斜面型纳米结构的波导镜片及其制作方法。

技术介绍

[0002]增强现实(AR)技术，是一种将真实世界信息和虚拟世界信息“无缝”集成的新技术，不仅展现了真实世界的信息,而且将虚拟的信息同时显示出来，两种信息相互补充、叠加。在视觉化的增强现实中，用户利用头盔显示器，把真实世界与电脑图形重合成在一起，便可以看到真实的世界围绕着它。目前主流的近眼式增强现实显示设备大多采用光波导原理。倾斜式衍射光栅具有较大的一级衍射效率，且降低零级分量，从而提高显示亮度的同时，进一步降低图像色散。
[0003]为制造波导表面倾斜式纳米结构，研究人员提出了光刻胶结构倾斜刻蚀、金属掩模倾斜刻蚀、干湿法混合刻蚀等方法。但现有技术中，倾斜槽面的倾斜角完全取决于离子束倾斜角度，倾斜离子束进行斜刻蚀是技术难点，本身存在难控制和倾斜设备高成本的问题；若直接采用光刻胶结构倾斜刻蚀，又面临刻蚀夹角不足、刻蚀速率比等问题；干湿法混合刻蚀也面临同样问题，且不能精确控制轮廓深本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有斜面型纳米结构的波导镜片的制作方法，其特征在于，该方法包括：提供一波导衬底；在所述波导衬底表面制备一光刻胶层；在所述光刻胶层的表面至少选择2个区域，并对所述区域进行图形化处理，获得图形光刻胶以及裸露所述波导衬底表面的图形凹槽；镀膜，在所述图形光刻胶上以及所述图形凹槽底部中未被所述图形光刻胶遮挡的表面形成覆盖层；采用正向或微倾刻蚀的方式对所述波导衬底和所述覆盖层，或者，所述波导衬底、所述覆盖层和所述图形光刻胶进行蚀刻；去除剩余的所述覆盖层和所述光刻胶层，得到与所述波导衬底成一体的斜面型纳米结构。2.如权利要求1所述的具有斜面型纳米结构的波导镜片的制作方法，其特征在于，在所述制备一光刻胶层的步骤中，通过旋涂或喷涂或刮涂的方式将光刻将涂敷在所述波导衬底表面以形成所述光刻胶层。3.如权利要求1所述的具有斜面型纳米结构的波导镜片的制作方法，其特征在于，所述图形化处理为对所述光刻胶层采用干涉光刻或全息曝光或套刻工艺以在所述波导衬底上形成所述图形光刻胶和所述图形凹槽。4.如权利要求1所述的具有斜面型纳米结构的波导镜片的制作方法，其特征在于，在所述形成覆盖层的步骤中，根据所述覆盖层的形貌要求，调节镀膜的倾角和镀膜速率，在所述图形光刻胶的顶部表面和侧面及所述图形凹槽底部中未被相邻所述图形光刻胶阴影遮挡的表面上形成所述覆盖层，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗明辉，乔文，陈林森，
申请(专利权)人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：