不良品的亮点缺陷的修复方法和盖板技术

本发明专利技术涉及一种显示器件的技术领域，特别涉及不良品的亮点缺陷的修复方法和盖板。所述修复方法包括以下步骤：取出现亮点缺陷的不良品，所述不良品包括基板和设于所述基板上的第一减反射膜层；去除所述不良品上引起所述亮点缺陷的杂物，在所述第一减反射膜层上形成第一孔；于所述不良品的设有所述第一减反射膜层一侧的表面上形成保护膜层；刻蚀所述保护膜层，在所述保护膜层上形成第二孔，使所述第一孔完全露出；于所述不良品的设有所述保护膜层一侧的表面上形成第二减反射膜层；去除所述保护膜层和位于所述保护膜层表面区域的所述第二减反射膜层。采用上述修复方法，不良品无需整个盖板报废，也不需在减反射膜镀膜时增加硬件投资，节约成本。节约成本。节约成本。

【技术实现步骤摘要】
不良品的亮点缺陷的修复方法和盖板


[0001]本专利技术涉及显示器件的
，特别涉及不良品的亮点缺陷的修复方法和盖板。

技术介绍

[0002]减反射膜：又称增透膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。
[0003]减反射膜镀在玻璃盖板上，可以大大降低玻璃盖板的反射，使消费者更清晰的看到显示器显示的内容，同时背光的亮度也有一定程度的降低，增加了电池使用寿命。
[0004]然而，减反射膜在镀膜时，空气或者镀膜腔体中有灰尘等杂物的存在，如果灰尘等杂物被减反射膜覆盖到减反射膜和玻璃中间，会导致灰尘等杂物对应位置的膜层脱落，形成肉眼可见的亮点缺陷，影响产品的外观。行业内，减反射膜的良品率普遍在80％左右，其中，不良品出现亮点缺陷的比例占比很高，占到不良缺陷的50％以上，且出现亮点缺陷的不良品没有办法进行返修，出现亮点缺陷后，不良品的整个盖板需要报废，产生了大量的浪费，导致镀制减反膜的成本成倍的增加，大大限制了减反膜在显示器件上的运用。而如果使用白级净房等手段减少镀膜时灰尘等杂物的影响，从而减少亮点缺陷的产生，则又增大了硬件投资成本。

技术实现思路

[0005]基于此，本专利技术提供一种不良品亮点缺陷的修复方法，不良品无需整个盖板报废，也不需在减反射膜镀膜时增加硬件投资，节约成本。
[0006]为了解决上述问题，本专利技术所采用的技术方案如下：
[0007]一种不良品的亮点缺陷的修复方法，包括以下步骤：
[0008]取出现亮点缺陷的不良品，所述不良品包括基板和设于所述基板上的第一减反射膜层；
[0009]去除所述不良品上引起所述亮点缺陷的杂物，在所述第一减反射膜层上形成第一孔；
[0010]于所述不良品的设有所述第一减反射膜层一侧的表面上形成保护膜层；
[0011]刻蚀所述保护膜层，在所述保护膜层上形成第二孔，使所述第一孔完全露出；
[0012]于所述不良品的设有所述保护膜层一侧的表面上形成第二减反射膜层；
[0013]去除所述保护膜层和位于所述保护膜层表面区域的所述第二减反射膜层。
[0014]在其中一个实施例中，所述第一减反射膜层的单面反射率在420nm
‑
680nm的平均反射率≤1.5％；
[0015]所述第二减反射膜层的单面反射率在420nm
‑
680nm的平均反射率≤1.5％；
[0016]所述第二减反射膜层叠加在所述第一减反射膜层上形成的叠合膜层的单面反射率在420nm
‑
680nm的平均反射率≤1.5％。
[0017]在其中一个实施例中，所述第一减反射膜层的材料选自氧化钛、氮化硅、氧化硅和氧化铌一种或几种。
[0018]在其中一个实施例中，所述第二减反射膜层的材料选自氧化钛、氮化硅、氧化硅和氧化铌一种或几种。
[0019]在其中一个实施例中，所述第二孔的横向截面面积不小于比所述第一孔的横向截面面积。
[0020]在其中一个实施例中，所述第二孔的横向截面面积比所述第一孔的横向截面面积大1％～100％。
[0021]在其中一个实施例中，所述保护膜层为紫外光学膜层。
[0022]在其中一个实施例中，所述去除所述保护膜层和位于所述保护膜层表面区域的所述第二减反射膜层的方法包括：
[0023]加热，使所述保护膜层从所述第一减反膜层上脱落。
[0024]在其中一个实施例中，所述去除所述不良品上引起所述亮点缺陷的杂物的方法包括：无尘布擦除或超声波震动去除所述杂物。
[0025]在其中一个实施例中，所述刻蚀的方法为激光雕刻。
[0026]本专利技术还提供一种盖板，由上述不良品的亮点缺陷的修复方法修复而成。
[0027]与传统方案相比，本专利技术具有以下有益效果：
[0028]本专利技术采用在不良品上继续形成小部分减反射膜的方法对出现亮点缺陷的不良品进行修复。首先，去除了不良品上引起所述亮点缺陷的杂物，去除后，在第一减反射膜层上形成第一孔，然后形成能够完全露出第一孔的保护膜层，在此基础上形成第二减反射膜层，第二反射膜层能够填充由杂物引起的第一反射膜层的第一孔，将亮点缺陷修复。然后，去除保护膜层和位于所述保护膜层表面区域的第二减反射膜层，避免第二减反射膜层大面积形成带来新的亮点缺陷。采用本专利技术的修复方法，不良品无需整个盖板报废，也避免了在减反射膜镀膜时增加硬件投资，节约成本。
附图说明
[0029]图1为一个实施例的不良品的结构示意图；
[0030]图2为一个实施例的去除灰尘后的不良品的结构示意图；
[0031]图3为一个实施例的形成UV膜层后的不良品的结构示意图；
[0032]图4为一个实施例的刻蚀UV膜层后的不良品的结构示意图；
[0033]图5为一个实施例的形成第二减反射膜层后的不良品的结构示意图；
[0034]图6为一个实施例的盖板结构示意图。
具体实施方式
[0035]以下结合具体实施例对本专利技术作进一步详细的说明。本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本专利技术公开内容理解更加透彻全面。
[0036]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具
体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。
[0037]术语
[0038]除非另外说明或存在矛盾之处，本文中使用的术语或短语具有以下含义：
[0039]本文所使用的术语“和/或”、“或/和”、“及/或”的可选范围包括两个或两个以上相关所列项目中任一个项目，也包括相关所列项目的任意的和所有的组合，所述任意的和所有的组合包括任意的两个相关所列项目、任意的更多个相关所列项目、或者全部相关所列项目的组合。
[0040]本专利技术中，“一种或几种”指所列项目的任一种、任两种或任两种以上。其中，“几种”指任两种或任两种以上。
[0041]本专利技术中，“优选”仅为描述效果更好的实施方式或实施例，应当理解，并不构成对本专利技术保护范围的限制。
[0042]本专利技术中，以开放式描述的技术特征中，包括所列举特征组成的封闭式技术方案，也包括包含所列举特征的开放式技术方案。
[0043]本专利技术中，涉及到数值区间，如无特别说明，则包括数值区间的两个端点。
[0044]本专利技术中，“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，包括以下步骤：取出现亮点缺陷的不良品，所述不良品包括基板和设于所述基板上的第一减反射膜层；去除所述不良品上引起所述亮点缺陷的杂物，在所述第一减反射膜层上形成第一孔；于所述不良品的设有所述第一减反射膜层一侧的表面上形成保护膜层；刻蚀所述保护膜层，在所述保护膜层上形成第二孔，使所述第一孔完全露出；于所述不良品的设有所述保护膜层一侧的表面上形成第二减反射膜层；去除所述保护膜层和位于所述保护膜层表面区域的所述第二减反射膜层。2.根据权利要求1所述的不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，所述第一减反射膜层的单面反射率在420nm
‑
680nm的平均反射率≤1.5％；所述第二减反射膜层的单面反射率在420nm
‑
680nm的平均反射率≤1.5％；所述第二减反射膜层叠加在所述第一减反射膜层上形成的叠合膜层的单面反射率在420nm
‑
680nm的平均反射率≤1.5％。3.根据权利要求2所述的不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，所述第一减反射膜层的材料选自氧化钛、氮化硅、氧化硅和氧化铌一种或几种。4.根据权利要求2任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨鹏，李杰，张俊峰，王世军，
申请(专利权)人：万津实业赤壁有限公司，
类型：发明
国别省市：