本实用新型专利技术公开一种硅棒端面的擦拭装置及硅棒处理系统，涉及光伏技术领域，以提高擦拭硅棒端面的质量和工作效率。该硅棒端面的擦拭装置包括支架、擦拭件、驱动件以及硅棒承载机构。擦拭件具有平面状的擦拭面，擦拭件设在驱动件的动力输出端。硅棒承载机构位于擦拭件具有擦拭面的一侧。驱动件设在支架上；驱动件用于驱动擦拭件擦拭硅棒端面。本实用新型专利技术提供的硅棒端面的擦拭装置及硅棒处理系统用于擦拭硅棒端面。拭硅棒端面。拭硅棒端面。
【技术实现步骤摘要】
一种硅棒端面的擦拭装置及硅棒处理系统
[0001]本技术涉及光伏
，尤其涉及一种硅棒端面的擦拭装置及硅棒处理系统。
技术介绍
[0002]在硅棒的生产过程中，被切断机切断的圆形硅棒，需要输送到屏蔽室中进行使用寿命和电阻检测。切断后的圆形硅棒的端面会存在硅泥等脏污。在检测硅棒使用寿命和电阻的过程中，这些硅泥等脏污容易影响检测的准确性，
[0003]现有技术中，通常需要人工擦拭硅棒的端面，以确保检测结果的准确性。这种人工擦拭硅棒端面的方式，不仅效率低，而且擦拭质量较差。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种硅棒端面的擦拭装置及硅棒处理系统，以提高擦拭硅棒端面的质量和工作效率。
[0005]第一方面，本技术提供一种硅棒端面的擦拭装置。该硅棒端面的擦拭装置包括支架、擦拭件、驱动件以及硅棒承载机构。擦拭件具有平面状的擦拭面，擦拭件设在驱动件的动力输出端。硅棒承载机构位于擦拭件具有擦拭面的一侧。驱动件设在支架上；驱动件用于驱动擦拭件擦拭硅棒端面。
[0006]采用上述技术方案时，硅棒端面的擦拭装置包括硅棒承载机构、用于擦拭硅棒端面的擦拭件和驱动擦拭件的驱动件。硅棒承载机构上承载有硅棒。擦拭件具有的擦拭面为平面状，被切断后的硅棒的端面也为平面状，两者形状相匹配。当擦拭装置擦拭硅棒端面，擦拭件的擦拭面与硅棒承载机构位置相对应，擦拭件的擦拭面与硅棒端面相接触，平面状的擦拭面与硅棒端面具有较大的接触面积，可以提高擦拭效率，并实现较好的擦拭效果。与此同时，驱动件可以驱动擦拭件以较大的接触面和较高的速度擦拭硅棒端面。结合擦拭件和驱动件的情况下，可以实现自动化擦拭硅棒端面的操作，提高擦拭硅棒端面的工作效率和擦拭效果。
[0007]在一些实现方式中，上述擦拭件为盘状结构、板状结构或条状结构。当擦拭件为盘状结构时，其擦拭面为盘状，擦拭面与圆形硅棒端面的形状匹配度较高，可以以较小的擦拭面实现对硅棒端面的覆盖。此时，在确保擦拭面与硅棒端面具有较大接触面积的情况下，可以节省擦拭件材料。当擦拭件为板状结构或条状结构，擦拭面为矩形或长方形。在擦拭硅棒端面的过程中，擦拭件的棱边可以对硅棒端面起到刮削的作用，从而可以方便的刮除硅棒端面上的硅泥。
[0008]在一些实现方式中，上述擦拭件为旋转擦拭件或往复运动擦拭件。此时，擦拭件与硅棒端面之间均可以产生动摩擦力。在动摩擦力的作用下，附着在硅棒端面的硅泥可以被方便的擦去。
[0009]在一些实现方式中，上述硅棒端面的擦拭装置还包括柔性接触层。柔性接触层设
在擦拭件的擦拭面上。此时，柔性接触层不仅可以与硅棒端面之间产生较大的摩擦力，而且柔性接触层与硅棒端面接触时，具有缓冲作用，可以减少擦拭件对硅棒端面的损伤。
[0010]在一些实现方式中，上述硅棒承载机构为硅棒运输机构或硅棒固定机构。此时，硅棒承载机构可以用于承载固定硅棒，也可以用于承载运输硅棒。无论硅棒处于运动状态，还是固定状态，均可以对其进行擦拭处理。
[0011]在一些实现方式中，上述驱动件包括电机、气缸或液压缸。这些驱动件均可以为擦拭件提供擦拭动作所需的动力。
[0012]在一些实现方式中，上述硅棒端面的擦拭装置还包括第一移动机构。第一移动机构的固定端设在支架上，驱动件设在第一移动机构的移动端；第一移动机构用于支持驱动件沿着第一方向移动。此时，第一移动机构的移动端可以带着驱动件和擦拭件沿着第一方向移动，从而利用第一移动装置可以实现擦拭件自动化靠近硅棒端面，自动化远离硅棒端面的操作，进而提高擦拭装置的自动化程度。
[0013]在一些实现方式中，上述硅棒端面的擦拭装置还包括第二移动机构。第一移动机构的固定端通过第二移动机构可移动设置在支架上，第二移动机构用于支持第一移动机构沿着第二方向移动；或者，驱动件通过第二移动机构可移动设置在第一移动机构的移动端，第二移动机构用于支持驱动件沿着第二方向移动。此时，第二移动机构的设置，可以使驱动件和擦拭件在第二方向上移动。利用第一移动机构和第二移动机构，可以实现驱动件和擦拭件在两个方向上自动化靠近硅棒端面，自动化远离硅棒端面。基于此，可以灵活的调控擦拭件的位置，便于擦拭件对准硅棒端面。
[0014]在一些实现方式中，上述第一方向与第二方向具有夹角，夹角为90
°
。此时，可以在垂直硅棒端面和平行硅棒端面的两个方向上，实现擦拭件的自动化靠近和自动化远离。其中，在平行硅棒端面的方向上，擦拭件的自动化靠近硅棒端面，接触硅棒端面，以及远离硅棒端面的过程，可以对硅棒端面起到刮削的作用，便于刮除位于硅棒端面的硅泥。
[0015]在一些实现方式中，上述硅棒端面的擦拭装置还包括移动控制开关。移动控制开关与第一移动机构电连接。此时，可以通过移动控制开关控制第一移动机构的移动，提高其自动化性能。
[0016]在一些实现方式中，上述移动控制开关为压力开关。压力开关的压力感应触头设在擦拭件上，压力开关与第一移动机构电连接。此时，可以通过擦拭件感应到的压力，及时控制第一移动机构停止，减少第一移动机构驱动擦拭件碰撞硅棒端面的几率，减少对硅棒端面的损伤。
[0017]第二方面，本技术还提供一种硅棒处理系统。该硅棒处理系统包括至少一个第一方面或第一方面任一可能的实现方式所描述的硅棒端面的擦拭装置。
[0018]第二方面所提供的硅棒处理系统的有益效果，可以参考第一方面或第一方面任一可能的实现方式所描述的硅棒端面的擦拭装置的有益效果，在此不做赘述。
[0019]在一些实现方式中，上述硅棒承载机构为硅棒运输机构，用于将所述硅棒运输至所述擦拭件具有擦拭面的一侧。硅棒处理系统还包括可控限位件。擦拭件有两个，分别位于硅棒运输机构的运输方向的两侧。可控限位件设在硅棒运输机构上，可控限位件用于擦拭件擦拭硅棒端面时，限定硅棒运输机构上的硅棒的位置。此时，两个擦拭件可以同时对位于硅棒运输机构上的硅棒的两个端面进行擦拭，从而可以提高工作效率。可控限位件可以限
定正在擦拭的硅棒的位置，便于擦拭装置进行擦拭。
[0020]在一些实现方式中，上述可控限位件为可控挡块。
附图说明
[0021]此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本技术的一部分，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0022]图1为本技术实施例的硅棒端面的擦拭件及驱动件的结构示意图一；
[0023]图2为本技术实施例的硅棒端面的擦拭件及驱动件的结构示意图二；
[0024]图3为本技术实施例的硅棒承载机构的结构示意图；
[0025]图4为本技术实施例的硅棒处理系统的结构示意图；
[0026]图5为本技术实施例的硅棒处理系统擦拭硅棒的状态示意图。
[0027]图1～图5中，10
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擦拭装置，11
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支架，12
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擦拭件，1本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，包括支架、擦拭件、驱动件以及硅棒承载机构；所述擦拭件具有平面状的擦拭面，所述擦拭件设在所述驱动件的动力输出端；所述硅棒承载机构位于所述擦拭件具有擦拭面的一侧；所述驱动件设在所述支架上；所述驱动件用于驱动所述擦拭件擦拭硅棒端面。2.根据权利要求1所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述擦拭件为盘状结构、板状结构或条状结构。3.根据权利要求1所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述擦拭件为旋转擦拭件或往复运动擦拭件。4.根据权利要求1所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述硅棒端面的擦拭装置还包括柔性接触层，所述柔性接触层设在所述擦拭件的擦拭面上。5.根据权利要求1所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述硅棒承载机构为硅棒运输机构或硅棒固定机构，和/或，所述驱动件选自电机、气缸或液压缸。6.根据权利要求1～5任一项所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述硅棒端面的擦拭装置还包括第一移动机构，所述第一移动机构的固定端设在所述支架上，所述驱动件设在所述第一移动机构的移动端；所述第一移动机构用于支持所述驱动件沿着第一方向移动。7.根据权利要求6所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述硅棒端面的擦拭装置还包括第二移动机构；所述第一移动机构的固定端通过所述第二移动机构可移动设置在所述支架上，所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员：普熠坤，严霁云，白喜军，任芸，钟慧芳，黄健，代理华，
申请(专利权)人：丽江隆基硅材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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