一种钕铁硼磁体表面涂镀层的退镀液和退镀方法及其应用技术

本发明专利技术涉及一种钕铁硼磁体表面多种涂镀层的退镀液和退镀方法及其应用。本发明专利技术所述退镀液包括：溶剂，选自水和与水互溶的有机溶剂；溶质，所述溶质包括如下组分：碱10～30g/L，络合剂2～6g/L，缓蚀剂1～10g/L。本发明专利技术还提供一种退镀方法，通过振动退镀，加入少量上述退镀液后，在常温低碱性浓度的状态下即可完成工件表面的退镀。本发明专利技术的退镀液和退镀方法适用范围广，退镀效果好且高效，低浓度常温退镀对磁体、操作人员和环境影响较小。操作人员和环境影响较小。

【技术实现步骤摘要】
一种钕铁硼磁体表面涂镀层的退镀液和退镀方法及其应用


[0001]本专利技术属于钕铁硼磁体表面处理退镀领域，具体地，本专利技术涉及一种钕铁硼磁体表面涂镀层的退镀液和退镀方法及其应用。

技术介绍

[0002]近年来烧结钕铁硼永磁材料的市场需求以及产业规模正在迅速地发展，其应用领域涵盖了现代家电、工业电机、微电子马达、新能源汽车等诸多行业。但其在推广中均存在一定的弊端，这些磁性材料在与空气、水分接触的过程中易被腐蚀导致性能发生变化，因此对其表面进行表面处理是必不可少的。
[0003]钕铁硼磁体表面处理主要包括电镀锌、环氧喷涂、电泳和真空镀膜等。随着钕铁硼产品在电声和汽车产品上的广泛应用，镀锌、镀铝、电泳和环氧喷涂是今后钕铁硼表面处理的主要发展方向；然而钕铁硼表面处理过程中难免会出现次品和废品，而电声产品多为小于1g的镀锌或镀铝涂层，由于尺寸较小，退镀过程中高温高浓度强碱对基体腐蚀较大，导致电声产品只能报废不能二次处理。汽车客户产品多为环氧或酚醛树脂涂层，由于磁石为关键产品，对性能稳定性要求较高，目前环氧或酚醛树脂涂层退镀主要采用浓硫酸、高温强碱或者毒性较大对有机溶剂，退镀过程对产品性能损失较大，同时对退镀人员安全存在重大隐患。
[0004]专利CN101880882A报道了一种烧结钕铁硼表面铝镀层的退镀液；专利CN108251841A报道了一种钕铁硼永磁材料表面镀锌层退镀液及制备方法；专利CN111534144A报道了一种耐腐蚀脱漆剂的制备方法，上述专利技术均为单一的退镀液，不便于生产和管理，且酸碱浓度较高易腐蚀基体，因此，寻找一种满足钕铁硼不同镀层退镀的退镀液和方法是未来的发展趋势，同时相应国家政策，绿色环保是未来的发展方向。

技术实现思路

[0005]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种钕铁硼磁体表面涂镀层的退镀液和退镀方法及其应用。
[0006]本专利技术提供了一种退镀液，所述退镀液包括：
[0007]溶剂，选自水和与水互溶的有机溶剂；
[0008]溶质，所述溶质包括如下组分：
[0009]碱
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
10～30g/L，
[0010]络合剂
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
2～6g/L，
[0011]缓蚀剂
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
1～10g/L。
[0012]优选地，所述退镀液中，与水互溶的有机溶剂的加入量为100
‑
850mL/L。
[0013]根据本专利技术的实施方案，所述与水互溶的有机溶剂选自氮氮二甲基甲酰胺、氮氮二甲基乙酰胺、乙二胺、乙二醇和乙二醇单丁酮中的一种或两种以上的混合溶剂。
[0014]根据本专利技术的实施方案，所述碱选自氢氧化钠和/或氢氧化钾。示例性地，所述碱
的浓度为10g/L、15g/L、20g/L、25g/L、30g/L。
[0015]根据本专利技术的实施方案，所述络合剂选自柠檬酸钠、柠檬三铵或2
‑
苯氧基乙醇中的至少一种。示例性地，当所述络合剂选自柠檬酸钠时，浓度为2～5g/L，例如4g/L。示例性地，当所述络合剂选自柠檬三铵时，浓度为4～6g/L，例如5g/L。示例性地，当所述络合剂选自2
‑
苯氧基乙醇时，浓度为3～6g/L。
[0016]根据本专利技术的实施方案，所述缓蚀剂选自亚硝酸钠、硅酸钠或硫脲中的至少一种。示例性地，当所述缓蚀剂选自亚硝酸钠时，浓度为5～10g/L，例如5g/L、8g/L。示例性地，当所述缓蚀剂选自硅酸钠时，浓度为4～8g/L，例如5g/L、6g/L。示例性地，当所述缓蚀剂选自硫脲时，浓度为1～4g/L，例如2g/L。
[0017]本专利技术还提供了一种钕铁硼磁体的退镀方法，特别地，用于表面含有涂镀层的钕铁硼磁体的退镀，所述退镀方法包括以下步骤：
[0018]S1配制退镀液：配制上述退镀液；
[0019]S2振动退镀：将所述退镀液和磨料放入容器中通过振动充分混合，再放入退镀工件后进行振动退镀。
[0020]根据本专利技术的实施方案，S1中，所述退镀液采用本
已知的方法进行配制，本专利技术不做具体限定。
[0021]根据本专利技术的实施方案，S2中，所述振动退镀的条件包括：振动频率为30
‑
50Hz，振动退镀时间为5
‑
30min。
[0022]优选地，本专利技术中对所述振动退镀的温度不做具体限定，在室温下进行即可，例如在5
‑
40℃下进行。
[0023]优选地，所述容器的内衬选自PP、PVC或者PU中的至少一种，所述退镀液、磨料和退镀工件置于内衬中进行振动退镀。优选地，所述振动退镀在振动光饰机中进行。
[0024]优选地，所述磨料选自碳化硅和/或棕刚玉磨料。
[0025]优选地，所述磨料的装载量占容器体积的40～85％，优选为60～85％。优选地，所述退镀液与磨料的体积比为(0.1～0.2):1。
[0026]优选地，退镀工件与磨料的质量比为1:(1～10)，例如为1:1、1:2、1:3、1:4、1:5、1:6、1:7、1:8、1:9、1:10。
[0027]根据本专利技术的实施方案，所述退镀工件的表面含有以下至少一种涂镀层：镀铝层、镀锌层、环氧层、酚醛树脂层和铝锌锡复合层。
[0028]根据本专利技术的实施方案，所述退镀方法还包括：S3振动清洗：完成振动退镀后，回收退镀液，加入水振动清洗磨料和退镀工件。
[0029]优选地，单次振动清洗时间为1～3min。优选地，振动清洗可进行1～3次，优选为重复清洗2～3次。
[0030]根据本专利技术的实施方案，所述退镀方法还包括：S4筛分：将磨料和退镀后的退镀工件分离。优选地，可采用本
已知的工装或设备进行分离。
[0031]根据本专利技术的实施方案，所述退镀方法还包括：S5清洗烘干：将退镀后的退镀工件清洗、烘干。
[0032]优选地，采用超声波或者媒介石振动干抛清洗。
[0033]本专利技术还提供上述退镀液和/或上述退镀方法在含有涂镀层的钕铁硼磁体退镀中
的应用。
[0034]优选地，所述涂镀层选自镀铝层、镀锌层、环氧层、酚醛树脂层或铝锌锡复合层中的至少一种。
[0035]本专利技术还提供一种钕铁硼磁体，所述磁体采用上述退镀液和/或退镀方法退镀后得到。
[0036]优选地，所述磁体的平均磁通衰减率小于0.5％，优选为小于0.25％。
[0037]优选地，所述磁体的表面H含量小于15ppm。
[0038]本专利技术还提供上述钕铁硼磁体在汽车、智电产品或电声产品领域中的应用。
[0039]有益效果：
[0040]在常温低碱性浓度的状态下，能满足对钕铁硼磁体表面的多种涂镀层进行退镀，例如铝、锌、环氧、酚醛树脂和铝锌锡复合涂层等多种涂镀层。本专利技术的退镀液和退镀方法适用范围广，退镀效果好且高效，低浓度常温退镀对磁体、操作人员和环境影响较小。
[00本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种退镀液，其特征在于，所述退镀液包括：溶剂，选自水和与水互溶的有机溶剂；溶质，所述溶质包括如下组分：碱10～30g/L，络合剂2～6g/L，缓蚀剂1～10g/L。2.根据权利要求1所述的退镀液，其特征在于，所述退镀液中，与水互溶的有机溶剂的加入量为100
‑
850mL/L。优选地，所述与水互溶的有机溶剂选自氮氮二甲基甲酰胺、氮氮二甲基乙酰胺、乙二胺、乙二醇和乙二醇单丁酮中的一种或两种以上的混合溶剂。优选地，所述碱选自氢氧化钠和/或氢氧化钾。3.根据权利要求1或2所述的退镀液，其特征在于，所述络合剂选自柠檬酸钠、柠檬三铵或2
‑
苯氧基乙醇中的至少一种。示例性地，当所述络合剂选自柠檬酸钠时，浓度为2～5g/L。示例性地，当所述络合剂选自柠檬三铵时，浓度为4～6g/L。示例性地，当所述络合剂选自2
‑
苯氧基乙醇时，浓度为3～6g/L。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的退镀液，其特征在于，所述缓蚀剂选自亚硝酸钠、硅酸钠或硫脲中的至少一种。示例性地，当所述缓蚀剂选自亚硝酸钠时，浓度为5～10g/L。示例性地，当所述缓蚀剂选自硅酸钠时，浓度为4～8g/L。示例性地，当所述缓蚀剂选自硫脲时，浓度为1～4g/L。5.一种钕铁硼磁体的退镀方法，特别地，用于表面含有涂镀层的钕铁硼磁体的退镀，其特征在于，所述退镀方法包括以下步骤：S1配制退镀液：配制权利要求1
‑
4任一项所述的退镀液；S2振动退镀：将所述退镀液和磨料放入容器中通过振动充分混合，再放入退镀工件后进行振动退镀。6.根据权利要求5所述的退镀方法，其特征在于，S2中，所述振动退镀的条件包括：振动频率为30
‑
50Hz，振动退镀时间为5...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭步庄，周彬，李雯，徐康文，李岩，纪芳，
申请(专利权)人：烟台正海磁性材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：