一种锗烷气体深度除杂用吸附器制造技术

本实用新型专利技术提供一种锗烷气体深度除杂用吸附器，所述锗烷气体深度除杂用吸附器包括机体、内槽、顶槽和隔板，所述机体内部开设有内槽，所述内槽上方固定有隔板，所述隔板上方开设有顶槽，本实用新型专利技术提供的锗烷气体深度除杂用吸附器通过气泵将锗烷气体导入气槽内部，通过固定杆转动，使铁球形成一个平行状，使铁球的重量拉动密封板将气孔打开，配合锗烷气体的冲击力将挡板冲开，使锗烷气体进入内槽中，实现碱液与锗烷气体的混合搅拌，与现有技术相比，本装置通过气泵将锗烷气体直接导入内槽与碱液混合，通过装置高速旋转，配合离心的方式将锗烷气体中夹带的酸性气体吸附，使装置更加完善，而且装置体积较小，降低了成本，也可以放置空间较小的地方。置空间较小的地方。置空间较小的地方。

【技术实现步骤摘要】
一种锗烷气体深度除杂用吸附器


[0001]本技术涉及气体除杂
，尤其涉及一种锗烷气体深度除杂用吸附器。

技术介绍

[0002]锗烷，也称为氢化锗，是一种化学试剂、可用于制取高纯度锗。分子式为GeH4，分子量为76.63，吸附器指装有多孔结构的吸附剂，用以将气体或液体溶液中某些性质相近似组分分离，或除去其中有害的或不需要的组分的设备。
[0003]锗烷气体深度除杂用吸附器的通过化学处理方法对酸性气体杂质进行化学吸收，传统的吸附器体积较大，且去除锗烷中夹带酸性气体杂质不够完善，使碱液无法高效去除锗烷气体中的酸性气体。
[0004]因此，有必要提供一种新的锗烷气体深度除杂用吸附器解决上述技术问题。

技术实现思路

[0005]为解决上述技术问题，本技术提供一种可自动出气，具有离心效果的锗烷气体深度除杂用吸附器。
[0006]本技术提供的锗烷气体深度除杂用吸附器包括：机体、内槽、顶槽和隔板，所述机体内部开设有内槽，所述内槽上方固定有隔板，所述隔板上方开设有顶槽，所述内槽内部设置有可转动啮合的转动机构，所述内槽内部本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种锗烷气体深度除杂用吸附器，其特征在于，包括：机体(1)、内槽(11)、顶槽(13)和隔板(14)，所述机体(1)内部开设有内槽(11)，所述内槽(11)上方固定有隔板(14)，所述隔板(14)上方开设有顶槽(13)，所述内槽(11)内部设置有可转动啮合的转动机构(2)，所述内槽(11)内部设置有可旋转喷压的出气机构(3)，且转动机构(2)与出气机构(3)连接，所述出气机构(3)内部设置有可弹性旋转的阀门机构(4)，且阀门机构(4)与出气机构(3)连接。2.根据权利要求1所述的锗烷气体深度除杂用吸附器，其特征在于，所述出气机构(3)包括气泵(31)、旋转接头(32)、固定杆(33)、气槽(34)、侧槽(35)、气孔(36)、密封板(37)、伸缩杆(311)、伸缩槽(312)、大弹簧(313)、进气管(314)和出气管(315)，所述顶槽(13)内部安装有气泵(31)，所述气泵(31)进气端固定有进气管(314)，所述气泵(31)出气端固定有出气管(315)，所述隔板(14)底部转动连接有固定杆(33)，所述固定杆(33)内部开设有气槽(34)，所述气槽(34)顶部固定有旋转接头(32)，且旋转接头(32)与出气管(315)固定连接，所述固定杆(33)两侧对称开设有侧槽(35)，所述固定杆(33)与侧槽(35)直接等距均开设有气孔(36)，所述侧槽(35)内壁对称开设有伸缩槽(312)，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚施健，林海宁，陈国富，陈金彬，施宏伟，彭王生，吴春弟，于胜，胡超群，
申请(专利权)人：博纯材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：